「patterning method」に関連した英語例文の一覧と使い方(27ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a chemical solution supplying apparatus, capable of suppressing the mixing of air bubbles into the discharged chemical solution, and to provide a manufacturing method of a semiconductor device, capable of suppressing the occurrence of patterning failure resulting from the air bubbles mixed into the chemical solution.例文帳に追加

吐出薬液に気泡が混入することを抑制することができる薬液供給装置、および薬液に混入した気泡に起因するパターン形成不良の発生を抑制することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To acquire a multilayer circuit board which reduces the mixed noise in the case of cross talk considered to be generated by the voltage of a main power source plain, and a sub-power source plain of the multilayer circuit board in the vicinity of a filter arranged in an adjacent layer, and to acquire a patterning method of the multilayer circuit board.例文帳に追加

多層回路基板の主電源プレーンとサブ電源プレーンの電圧が隣接層に配したフイルタ近傍でクロストークとする場合に混入するノイズを低減する多層回路基板及び多層回路基板のパターニング方法を得る。 - 特許庁

In the inkjet recording method, an initial speed of discharged ink droplets is 3 m/sec to 16 m/sec in the case of patterning a building material 70 using an inkjet recorder 1, and a carrying process and an inkjet recording process are included.例文帳に追加

インクジェット記録装置１を用いて建築材７０を模様付けする場合において、吐出されたインク滴の初速が３ｍ／ｓｅｃ〜１６ｍ／ｓｅｃであるインクジェット記録方法であって、搬送工程と、インクジェット記録工程とを含む。 - 特許庁

To provide a method for producing artificial marble which can disperse/knead/mix a large granule patterning material uniformly into a resin composition for molding the artificial marble and can fit a high design pattern having a high-grade feel or a granite pattern to the artificial marble without lowering the strength of a product.例文帳に追加

人造大理石成形用樹脂組成物に大粒柄材を均一に分散混練配合でき、しかも製品強度を低下させることなく高級感のある高意匠柄あるいはグラニット柄の人造大理石の製造方法を提供する。 - 特許庁

The patterning employing the photolithography technique is capable of controlling the fine processing of less than 1 μm (in the degree of several 10 nm even at minimum) with a high accuracy whereby the remarkably fine dam can be formed stably compared with same dam formed through solder plating method.例文帳に追加

フォトリソグラフィ技術を用いたパターン加工は、１μｍ以下（最小でも数十ｎｍ程度）の微細加工を高精度に制御可能であるため、はんだめっき法に比べて著しく微細なダムを安定して形成することが可能となる。 - 特許庁

To provide a method for easy patterning for a mat carpet, requiring no hand work, capable of always uniformly forming the same pattern for everybody and capable of neatly forming race and pattern with long and short pile like a relieved engraving for everybody.例文帳に追加

手作業ではなく、同じ図柄を誰にでも常に均一に構成することができ、溝も図柄もパイルの長短で浮き上がる版画のように、スッキリした形態にて誰にでも形成することができるマットじゅうたんの簡易な柄だし方法を提供する。 - 特許庁

To provide a high registration mask substrate, an exposure device and a patterning method using them capable of accurately measuring the deformation degree of the mask substrate by providing a detecting means for detecting the deformation degree of the mask substrate on the mask substrate.例文帳に追加

マスク基板上にマスク基板の変形度を検知する検知手段を設けたことにより、正確なマスク基板の変形度が測定でき、合わせ精度の高いマスク基板と露光装置およびそれを用いたパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a polyimide resin-containing negative photosensitive resin composition which unnecessitates the use of an organic solvent as a developer and can be developed with only an aqueous alkali solution, and to provide a reaction development patterning method using the photosensitive resin composition.例文帳に追加

現像液として有機溶媒の使用を不要とし、アルカリ水溶液のみにより現像可能なポリイミド樹脂含有ネガ型感光性樹脂組成物および該感光性樹脂組成物を使用する反応現像画像形成法を提供する。 - 特許庁

Finally, a TFT(thin-film transistor) is manufactured by forming an island-like silicon film by performing patterning through the use of the crystalline silicon film 304 as an active layer and forming a gate electrode on the island-like silicon film, and then implanting an N-type impurity into the crystalline island-like silicon film by an ion doping method.例文帳に追加

この結晶性珪素膜を活性層とし、パターニングし島上珪素膜を作製しこの上にゲート電極をつけ、前記結晶性を有する島状珪素膜にイオンドーピング法でN型不純物をいれＴＦＴを作製した。 - 特許庁

The method comprises laminating a fluorinated polymer layer 103 on substrates 101, 102, patterning the fluorinated polymer to form a relief pattern, and laminating an organic semiconductor or conductive material layer on the substrates 105, 106 using solution.例文帳に追加

この方法は、基板１０１，１０２上のフッ素化ポリマー層１０３を積層し、リリーフパターンを形成するためにフッ素化ポリマーをパターン化し、溶液から基板１０５，１０６上に有機半導体又は導電性材料層を積層することを含む。 - 特許庁

This formation method consists in forming a hydrophobic film 21 atop a glass substrate 2, patterning pixel electrodes 8 atop the hydrophobic film 21 and printing the respective pixel electrodes 8 and the entire surface of the hydrophobic film 21 exposed between the pixel electrodes 8 with color ink 11.例文帳に追加

ガラス基板２の上面に疎水性膜２１を形成し、この疎水性膜２１の上面に画素電極８をパタンニングし、各画素電極８およびこれら画素電極８間に露呈した疎水性膜２１の全表面にカラーインク１１を印刷する。 - 特許庁

The polymer film patterning method includes applying polymer ink onto the substrate after forming a resist layer patterned on the substrate, and then separating the resist layer to remove the applied polymer ink therefrom.例文帳に追加

ポリマー膜のパターニング方法において、基板上にパターニングされたレジスト層を形成後に、前記基板上にポリマーインクを塗布し、その後、前記レジスト層を剥離することで前記塗布されたポリマーインクを併せて除去することを特徴とするポリマー膜のパターニング方法。 - 特許庁

This method for patterning the thin film consists in spraying an etching liquid ETL at a low flow rate from a direction approximately perpendicular to a liquid crystal panel substrate SUB1 formed by coating the conductive thin film with a resist mask of prescribed opening patterns while rotating the liquid crystal panel substrate at a high speed.例文帳に追加

導電性薄膜を所定の開口パターンのレジストマスクで被覆した液晶パネル基板ＳＵＢ１を高速回転させながら当該液晶パネル基板に対して略直角な方向からエッチング液ＥＴＬを低流量スプレーする。 - 特許庁

To provide a dyeing method for twill woven fabric, comprising making a patterning with variations between twill design texture and ground texture for expressing stereoscopic pattern, in particular enabling dyeing in unconventionally highly novel hue and feeling.例文帳に追加

柄の立体をだす紋意匠織と地組織との変化で柄だしする紋織物に対する染色方法に関するものであり、特に、従来にない極めて斬新な色合い並びに風合いに染色し得る紋織物に対する染色方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a transparent conductive film for which, a thermal treatment at high temperature in the case of forming the transparent conductive film on a substrate is unnecessary, which can be formed on a plastic substrate with low thermal resistance, capable of simply and quickly patterning on demand.例文帳に追加

基板上に透明導電膜を形成する場合の高温での熱処理を不要とし、耐熱性の低いプラスチック基板にも形成でき、しかも簡易・迅速にオンデマンドのパターニングが可能な透明導電膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin film magnetic head, with which patterning accuracy, a sputtering film deposition distribution and/or an etching distribution can be improved, a wafer suction defect in a vacuum chuck or electrostatic chuck can be prevented, and a yield can be improved.例文帳に追加

パターニング精度、スパッタ成膜分布及び／又はエッチング分布を向上させ、さらに、真空チャック又は静電チャックにおけるウエハの吸着不良を防止でき、歩留り改善を可能とする薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the organic EL display device, a mask made in a given patterning is placed on a substrate by a letterpress reverse printing method, on which a blanket with a uniform functional film coated is pressed, and through an opening of the mask, the functional film on the blanket is formed on the substrate.例文帳に追加

有機ELの製造方法において、凸版反転印刷法で、所定のパターニングされたマスクを基板上に設置し、前記マスク上から、均一な機能性膜がコーティングされたブランケットを押圧し、前記マスクの開口部を通して、基板上に前記ブランケット上の機能性膜を形成することにより解決した。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask blank capable of manufacturing a high-quality mask blank with a high yield, while suppressing generation of defects in a thin film for forming a mask pattern, to provide a method for manufacturing a transfer mask manufactured by patterning the thin film of the mask blank, and to provide a sputtering target that is used for manufacturing the mask blank.例文帳に追加

マスクパターンを形成するための薄膜の欠陥発生を抑えた高品質のマスクブランクを、高い歩留まりで製造することのできるマスクブランクの製造方法と、前記マスクブランクの薄膜をパターニングして製造する転写マスクの製造方法、並びに前記マスクブランクの製造に用いるスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

In the method, after the gas in the chamber of the sputtering film-forming device where the light-transmitting substrate 1 is to be conveyed is replaced by a gas containing neither water nor carbon dioxide, dry air or a mixture gas thereof, the pressure in the chamber is reduced and subsequently formation of the thin film 2 for patterning by the sputtering method is started.例文帳に追加

ここで、透光性基板１が搬入されるスパッタ成膜装置の室内の気体を水分および二酸化炭素を含有しない気体、ドライエアまたはこれらの混合気体に置換し終えた後に、該室内の減圧を行い、次いでパターン形成用薄膜２のスパッタリング法による成膜を開始する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a wiring board capable of reliably reducing deformation of a metal frame, and warpage and cracks of a multiple-pattern base board when tentatively mounting the metal frame on a metalized layer formed on a surface of each wiring board and having a rectangular shape in a plan view, in a manufacturing method by multiple patterning of a wiring board.例文帳に追加

配線基板の多数個取りによる製造方法にて、配線基板ごとの表面に形成した平面視が矩形のメタライズ層上に金属枠を仮付けする際に、該金属枠の変形や多数個取りベース基板の反りやクラックを確実に低減できる配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In an etching liquid composition and a patterning method of a conductive film using the same and a manufacturing method of a flat panel display, the etching liquid composition contains phosphoric acid, nitric acid, acetic acid, water, and additive; and the additive contains a chlorine compound, a nitrate compound, a sulfate compound, and an oxidative adjuster.例文帳に追加

エッチング液組成物及びこれを利用した導電膜のパターニング方法並びにフラットパネルディスプレイの製造方法に関し、前記エッチング液組成物は、リン酸、硝酸、酢酸、水及び添加剤を含み、前記添加剤は、塩素系化合物、硝酸塩系化合物、硫酸塩系化合物及び酸化調整剤を含む。 - 特許庁

Next, via holes 53 are formed at predetermined positions on the insulating layers 46 by laser work, and a series of patterning treatment is applied through a subtractive method or a semi additive method, to form wiring layers 16a, 16b and vias 17 whereby a four-layered build-up wiring board 300 employing the insulating layers 46 can be obtained.例文帳に追加

次に、レーザー加工により、絶縁層４６の所定位置にビア用孔５３を形成し、サブトラクティブ法、もしくはセミアディティブ法により、一連のパターニング処理を行って、配線層１６ａ、１６ｂ及びビア１７を形成し、絶縁層４６を用いた４層のビルドアップ配線基板３００を得ることができる。 - 特許庁

To provide a resist material for manufacturing a substrate having a nanoscale rugged structure by patterning a resin composition applied to the surface of a substrate to be processed by a nanoimprinting method to form a resin layer having a rugged structure and then processing the substrate by a dry etching method using the resin layer as a resist.例文帳に追加

被加工基材上に塗布した樹脂組成物をナノインプリント法にてパターニングを行い、凹凸構造を有する樹脂層を形成し、この樹脂層をレジストとしてドライエッチング法にて加工することによりナノスケールの凹凸構造を有する基材を製造するためのレジスト材料を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for patterning an organic thin film capable of preventing the surface of an organic semiconductor layer from being damaged, an organic thin-film transistor capable of preventing the surface of the organic semiconductor layer from being damaged and reducing OFF-current and its manufacturing method and an organic electroluminescent display provided with the organic thin-film transistor.例文帳に追加

有機半導体層の表面損傷を防止できる有機薄膜をパターニングする方法、有機半導体層の表面損傷を防止し、オフ電流を減少させることができる有機薄膜トランジスタ及びその製造方法、有機薄膜トランジスタを備えた有機電界発光表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which can form a uniformly thin film having an thickness of not more than 100 nm applicable to lithography using nanoimprint for patterning in not more than 100 nm and can be applied to nanoimprint, and to provide a manufacturing apparatus of an electrolyte film for pattern formation which can realize such a method.例文帳に追加

１００ｎｍ以下のパターニングが可能なナノインプリントを用いたリソグラフィーに適用できる１００ｎｍ以下でも均一な厚みの薄膜形成ができ、それをナノインプリントに応用できるようパターンの形成方法とそのような方法を実現することができるパターン形成用電解質膜の製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive dry film achieving fine patterning on a thick film, reducing loss of a coating liquid in a printing method, improving productivity, and having excellent storage stability by using the photosensitive dry film for forming a light-shielding member, which is conventionally carried out by a printing method.例文帳に追加

本発明は、従来印刷法で行なっていた遮光部材の形成を感光性ドライフィルムで行なうことにより、厚膜であっても微細なパターニングが実現でき、印刷法のような塗液のロスが少なく生産性がすぐれており、かつ保存安定性が優れた感光性ドライフィルムを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a surface treatment agent for a freezing process, which can suppress variations in the line width of a first resist pattern and LWR (line width roughness) which may be caused by freezing treatment applied to the first resist pattern and the formation of a second resist pattern in a double patterning method, and to provide a resist pattern formation method using the surface treatment agent.例文帳に追加

ダブルパターニング法において、第一のレジストパターンに対して行うフリージング処理及び第二のレジストパターンの形成による、第一のレジストパターンの線幅並びにＬＷＲの変動を抑制することができるフリージングプロセス用の表面処理剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern and a method for manufacturing a semiconductor device by which a light source such as an ArF excimer laser in a conventional exposure apparatus can be used as it is on patterning a resist pattern with excellent mass-productivity and a resist cut-out pattern can be finely formed exceeding the exposure limit of the light source.例文帳に追加

レジストパターンのパターニング時に既存の露光装置におけるＡｒＦエキシマレーザー光等の光源をそのまま使用可能であり量産性に優れ、レジスト抜けパターンを前記光源の露光限界を超えて微細に形成可能なレジストパターンの形成方法、半導体装置の製造方法等の提供。 - 特許庁

The method for manufacturing semiconductor devices related to the present invention has processes of: forming a conductive membrane on a semiconductor substrate; forming a sacrificial membrane on the conductive membrane; patterning the sacrificial membrane; forming a side wall on the side of the patterned sacrificial membrane; removing the patterned sacrificial membrane; and patterning the conductive membrane by using the side wall as a mask and form wiring.例文帳に追加

半導体基板上に導電性膜を形成する工程と、前記導電性膜上に犠牲膜を形成する工程と、前記犠牲膜をパターニングする工程と、パターニングされた前記犠牲膜の側面に、サイドウォールを形成する工程と、パターニングされた前記犠牲膜を除去する工程と、前記サイドウォールをマスクとして用いて前記導電性膜をパターニングして、配線を形成する工程とを有する方法により、半導体装置を製造する。 - 特許庁

This method for producing the micro-patterning culture substrate 2 includes coating the cell culture substrate 2 with the water-soluble photocurable polymer 3, and then irradiating the water-soluble photo-curable polymer 3 with light via a master pattern 4 and patterningthe water-soluble photo-curable polymer 3 on the cell culture substrate 2.例文帳に追加

細胞培養基材２上に水溶性光硬化性ポリマー３を塗布し、水溶性光硬化性ポリマー３へマスクパターン４を介して光照射して細胞培養基材２上に水溶性光硬化性ポリマー３をパターニングすることで作成される。 - 特許庁

A pattern formation method according to an embodiment comprises the steps of: forming a heat-shrinkable first film 101 on a base material 100; patterning the first film 101; and heating and shrinking the patterned first film 101.例文帳に追加

本実施形態によるパターン形成方法は、基材１００上に熱収縮性のある第１膜１０１を形成する工程と、前記第１膜１０１をパターニングする工程と、パターニングした前記第１膜１０１を加熱して収縮させる工程とを備える。 - 特許庁

The method includes coarsely patterning at least one thin-film material (720-740) on a flexible substrate (710) and forming a plurality of thin-film elements on the flexible substrate (710) with a automatic-aligning imprint lithography (SAIL) process.例文帳に追加

本発明の方法は、可撓性基板（710）上で少なくとも１つの薄膜材料（720〜740）を粗くパターン形成すること、及び自動位置合わせインプリントリソグラフ（SAIL）工程を利用して、可撓性基板（710）上に複数の薄膜素子を形成することからなることを特徴とする。 - 特許庁

To provide frame plating method for forming a plated film by using a mold formed with a patterning of resist, which can easily and surely prevent falling down of a resist frame with a high aspect-ratio to form a desired plated film.例文帳に追加

本発明は、レジストをパターニングして形成した型を用いてめっき膜を形成するフレームめっき方法に関し、高アスペクト比のレジストフレームの倒れを容易に確実に防止して所望のめっき膜を形成できるフレームめっき方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for producing a zinc oxide based transparent conductive film forming material, capable of being used for a target for forming a transparent conductive film which has weather resistance while maintaining conductivity sufficient for practical use, and has an appropriate etching rate in patterning.例文帳に追加

実用に耐えうる導電性を保ちながら、かつ耐候性を備え、パターニングの際に適当なエッチングレートを有する透明導電膜を成膜するためのターゲットに用いることができる酸化亜鉛系透明導電膜形成材料の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for preparing a photosensitive paste capable of achieving good patterning and capable of forming high reflectance partition walls that contribute toward enhancing luminance and color purity, and to provide a member for plasma display manufactured by using the photosensitive paste and a plasma display.例文帳に追加

良好なパターニングが可能であり、輝度や色純度向上に寄与する反射率の高い隔壁の形成が可能な感光性ペーストの製造方法およびその感光性ペーストを用いて作製されたプラズマディスプレイ用部材およびプラズマディスプレイの提供。 - 特許庁

The method of patterning the organic metal film includes a step of forming the organic metal film 3 on a first base 21, a step of pressing a pressed region 310 set at part of the organic metal film 3 with an indenter 4 along the film thickness, and a step of etching the organic metal film 3.例文帳に追加

第１の基材２１上に有機金属膜３を形成する工程と、有機金属膜３の一部に設定した加圧領域３１０を圧子４により膜厚方向に加圧する工程と、有機金属膜３にエッチング処理を施す工程とを有する。 - 特許庁

The method for manufacturing the microcoil comprises the steps of forming a catalytic metal layer 3 on a part to be formed with the wiring 5 on a substrate layer 2 made of epoxy resin, and patterning the epoxy resin containing a photoreactive curing agent to form a form 6, on a part in which the layer 3 does not exist.例文帳に追加

エポキシ樹脂の下地層２の上の配線５が形成される予定の部分に触媒金属層３を形成し、光反応性硬化剤を含有するエポキシ樹脂をパターニングして触媒金属層３が存しない部分に型枠６を形成する。 - 特許庁

The method involves a step of being required for using first and second etch mask layers, that are constructed of materials such that the second mask (formed over the first mask) can act as a mask during the patterning of the first mask (bottom mask).例文帳に追加

この方法では第１および第２のエッチングマスク層を使用することが必要であり、これらの層は、第１のマスク（下層マスク）のパターン化の際に第２のマスク（第１のマスクの上に形成される）がマスクとしての役割を果たすことができるような材料で構成される。 - 特許庁

To provide a method for producing a mask blank, to which a high-level quality about defects is required, by reducing the number of high oxide defects in a size of 60 nm or more and less than 150 nm, the defect containing more oxygen than in the surrounding area in a thin film for patterning.例文帳に追加

パターン形成用薄膜中のその周囲よりも多く酸素を含有する６０ｎｍ以上１５０ｎｍ未満の大きさの高酸化物欠陥数を低減させ、高いレベルの欠陥品質を要求されるマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pixel electrode and its formation method by which the very fine patterning of the pixel electrode is attained and the change of characteristics and the degradation of transmissivity due to the influence of gas and moisture is prevented, and to provide an optoelectronic device and electronic apparatus provided with the pixel electrode.例文帳に追加

画素電極についての微細なパターニングを可能にし、しかもガスや水分の影響による特性変化や透過率の低下を防止した、画素電極とその形成方法、およびこの画素電極を備えた電気光学装置、電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a magnetic detector, in particular, capable of reducing properly damage on an integrated circuit caused by a thin film process in patterning formation for a magnetoresistance effect element, and capable of compactifying the magnetic detector, and a manufacturing method therefor.例文帳に追加

特に、磁気抵抗効果素子のパターニング形成の際の薄膜プロセスによる集積回路へのダメージを適切に軽減できるとともに、磁気検出装置の小型化を実現できる磁気検出装置及びその製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

A new patterning method is employed, which is characterized in that at least a substrate and a dispersion system are used, a distribution of particle concentration is produced in a layer of the dispersion system formed on the substrate by a distribution of heat quantity given to the dispersion system, and then subjected to a curing process.例文帳に追加

少なくとも基板と、分散系を用い、該分散系に与えられた熱量の分布により、基板上に形成した該分散系層内に濃度分布を形成し、しかる後に硬化処理を行うことを特徴とする、新規のパターニング方法を採用する。 - 特許庁

The method accomplishes patterning of a micron order and uniaxial orientation of a one dimensional conjugated oligomer simultaneously and comprises adding at least a surface active agent to the solution of an oligomer molecule having a π-conjugated system developed in the direction of the longitudinal axis of the molecule and impressing a magnetic field on the solution.例文帳に追加

一次元共役系オリゴマーのパターニングと一軸配向を同時に実現する方法であって、分子長軸方向に発達したπ共役系をもつオリゴマー分子の溶液に、少なくとも表面活性剤を添加し、磁場を印加することとする。 - 特許庁

The method for reducing impurities comprises reducing impurities in an organic polymer resin through one of the following processes after patterning and curing an organic polymer resin on a substrate and vaporizing a part of the organic polymer resin by a chemical reaction.例文帳に追加

基板上にパターン加工、硬化した有機ポリマー樹脂の一部を化学反応によって気化した後、下記（１）〜（３）のいずれかの処理を行うことによって、有機ポリマー樹脂中に含まれる不純物を低減することを特徴とする不純物の低減方法である。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a dielectric thin film device for solving a problem due to a residual stress actualized when the patterning of a dielectric thin film is performed by using conventional photo-lithography technology, and a problem due to a micro-fine residue.例文帳に追加

従来のフォトリソグラフィー技術を用いて誘電体薄膜のパターニングを行った場合に顕在化する残留応力に起因する問題および微小残渣に起因する問題を解消することができる誘電体薄膜デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁