「patterning method」に関連した英語例文の一覧と使い方(31ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a construction method for a housing concrete foundation using a concrete placement form, allowing proper and convenient construction in various designs on a foundation portion exposed to a ground without requiring special patterning plates, forms to be prepared or special plastering finish.例文帳に追加

住宅建築における基礎（土台）をコンクリート打設用型枠により施工する方法において、特別な模様板や型枠の用意あるいは特別な左官工仕上作業を必要とすることなく、地面より露出した基礎部分に、適宜に、多様なデザイン（意匠）が簡便に施工できる住宅建築用コンクリート基礎の施工方法。 - 特許庁

This method for manufacturing a semiconductor memory device includes: a step (a) of sequentially laminating a TMR film 5 and a cap layer 6 on base layers 1, 2, 3 and 4; and a step (b) of patterning the TMR film 5 and the cap layer 6 to form a normal laminate structure pattern 13 and a dummy laminate structure pattern 16 thereof.例文帳に追加

本発明に係る半導体記憶装置は、（ａ）下地層１，２，３，４上にＴＭＲ膜５、キャップ層６を順に積層する工程と、（ｂ）ＴＭＲ膜５、キャップ層６をパターニングして、それらの正規積層構造パターン１３およびダミー積層構造パターン１６を形成する工程とを備える。 - 特許庁

In the method of manufacturing a transmissive type optical modulation element, firstly a driving circuit is formed on a Si (silicon) substrate, secondly a film of a transmissive type optical modulation part is formed on the driving circuit and a patterning is performed, then the driving circuit and the transmissive type optical modulation part are transferred from the Si substrate to a transparent substrate.例文帳に追加

透過型光変調素子の製造方法において、まず、Ｓｉ（シリコン）基板上に駆動回路を形成し、次に、その上に透過型光変調部の成膜をしてパターニングを行い、その後、前記駆動回路と前記透過型光変調部を前記Ｓｉ基板から透明基板上に転写するようにした。 - 特許庁

In the method of manufacturing the electro-optical device, which includes a process of forming the metallic film on a glass substrate, the glass substrate having the metallic film formed thereon is subjected to heat treatment after formation of the metallic film on the glass substrate and before patterning processing of the metallic film, whereby bend of the glass substrate is relaxed.例文帳に追加

ガラス基板上に金属膜を形成する工程を含む電気光学装置の製造方法であって、ガラス基板上に金属膜を形成した後、当該金属膜に対してパターニング処理を行う前に、金属膜が形成されたガラス基板を加熱処理することにより、ガラス基板の反りを緩和することを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the display member comprises (A) a process of coating and drying photosensitive paste on a substrate with at least an electrode formed, and then exposing the coated film to light via a photomask, (B) a process of developing the coated film and patterning it, and (C) a process of forming a barrier-rib pattern by baking the pattern-formed coated film.例文帳に追加

少なくとも電極が形成された基板に下記の（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）の各工程を順次行って得られるディスプレイ部材の製造方法であって、該（Ａ）工程をｎ回（ｎは２以上の整数）実施した後に、（Ｂ）、（Ｃ）の工程を実施することを特徴とするディスプレイ部材の製造方法。 - 特許庁

To provide an electronic component which comprises enabling its thinning and downsizing as a result of densifying integrated elements, and enhancing Q factor in the element which employs mainly an inductive element such as an inductor and a resonator, as a result of enhancing a patterning accuracy and an interlayer accuracy, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

内蔵素子の高密度化が可能となり、その結果、薄型化、小型化が可能となると共に、パターニング精度や層間精度を高くすることができ、インダクタ、共振器等のような主として誘導成分を用いる素子においてはＱ値の高いものが得られる構成の電子部品とその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the nozzle sheet used for an ink-jet head of an ink-jet printer adopts a process of exposing a first photosensitive resin sheet 20 on which a photosensitive liquid repelling film 21 is formed and patterning first nozzles 21a, 20a at the same time on the photosensitive liquid repelling film 21 and the first photosensitive resin sheet 20.例文帳に追加

インクジェットプリンタのインクジェットヘッドに用いられるノズルシートは、感光性撥液膜２１が形成された第１感光性樹脂シート２０に露光し、感光性撥液膜２１及び第１感光性樹脂シート２０に一度に第１ノズル２１ａ、２０ａのパターニングを行う工程を採り入れた製造方法とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an optical element by which the following problem is solved without requiring addition of a new step; even if a polymerizable liquid crystal is cooled after holding at a temperature showing liquid crystal regularity, the liquid crystal recrystallizes between bringing back to room temperature and an exposure/development step and by which patterning is also possible if necessary.例文帳に追加

重合性液晶を液晶規則性を示す温度で保持した後冷却しても、常温に戻してから露光／現像の工程までの間に再結晶化する問題があった点を、新たな工程の追加の必要もなく、必要に応じてパターン化も可能な光学素子の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a hardmask composition for a resist underlayer film that has high etching selectivity, sufficient resistance to multiple etchings, and an antireflective property to minimize the reflectivity between the resist and a lower layer, and a method of patterning a backside material layer on a substrate using the hardmask composition.例文帳に追加

エッチング選択性が高く、 多重エッチングに対する耐性が十分であり、レジストと下部層間の反射性を最小化する反射防止能を有するレジスト下層膜用ハードマスク組成物を提供すること、および該ハードマスク組成物を用いて、基板上の裏面材料層をパターン化させる方法を提供すること。 - 特許庁

The method for manufacturing an exposure mask includes: a step S1 of patterning a light shielding film 2 formed on a quartz substrate 1 to form a light shielding pattern 2c; and a step S4 of directly measuring the level difference H from the surface of the quartz substrate 1 to the upper face of the light shielding pattern 2c and obtaining the measured value of the level difference H.例文帳に追加

石英基板１上に形成された遮光膜２をパターニングして遮光パターン２ｃを形成するステップＳ１と、石英基板１の表面から遮光パターン２ｃの上面までの段差Hを直接測定して、該段差Hの実測値を得るステップＳ４と、を有することを特徴とする露光用マスクの製造方法による。 - 特許庁

The production method of the semiconductor device comprises a step for forming a conductive layer 27 on the semiconductor substrate 23 through an insulation film 26, a step for making smooth the surface 27a of the conductive layer 27 by filling recesses in the surface with a material 44 itself shaven off from the surface, and a step for forming the dielectric element by patterning the conductive layer 27 spirally.例文帳に追加

半導体基板２３上に絶縁膜２６を介して導電層２７を形成する工程と、導電層２７の表面２７ａを、該表面から削られた材料自体４４で表面の凹部を埋め込んで平滑化する工程と、導電層２７をスパイラル状にパターニングして誘導素子を形成する工程を有する。 - 特許庁

In this method for manufacturing the sheet building material 5 by supplying a self-hardening material 3 into a mold 1 and releasing the material 3 from the mold 1 after its curing, a roughened surface is formed on the upper surface of the material 3 in the mold 1 by pressing a patterning material to the main region 3m of the upper surface of the material 3.例文帳に追加

成形型１内に自硬性材料３を供給し、該自硬性材料が硬化した後、脱型して板状建材５を製造する方法において、該自硬性材料が硬化する前に、成形型内の自硬性材料の上面の主領域３ｍに型押し材を押し付けて該上面に粗面を形成する。 - 特許庁

To provide a gravure roll which prevents a deterioration in printing quality by preventing oscillation of doctor blades when conducting gravure printing, and furthermore to provide a method of manufacturing an electromagnetic wave shielding light transmission window material with high precision patterning formed thereon by gravure printing and the electromagnetic wave shielding light transmission window material.例文帳に追加

グラビア印刷においてドクターブレードの振動を防止すること等により、印刷品位の低下を防ぐことができるグラビアロールを提供し、更に、グラビア印刷によって高精度なパターニングを形成した電磁波シールド性光透過窓材の製造方法及び電磁波シールド性光透過窓材を提供すること。 - 特許庁

The method of manufacturing the solar cell 100 includes a cleaning step of cleaning an exposure area R2 out of a backside of an n-type crystalline substrate 10n, before an i-type amorphous semiconductor layer 12i forming step, after a patterning step of the i-type amorphous semiconductor layer 11i and a p-type amorphous semiconductor layer 11p.例文帳に追加

太陽電池１００の製造方法は、ｉ型非晶質半導体層１１ｉ及びｐ型非晶質半導体層１１ｐのパターニング工程の後、ｉ型非晶質半導体層１２ｉの形成工程前に、ｎ型結晶シリコン基板１０ｎの裏面のうち露出領域Ｒ２のクリーニング工程を備える。 - 特許庁

To provide a method for mounting components and apparatus for mounting components which can shorten mounting time by reducing a suction preparation operation of suction nozzles in such a manner that the number of replacement times of the suction nozzles is suppressed, or intervals of the suction nozzles on a moving head are adjusted when components are mounted on a multiple patterning substrate.例文帳に追加

多面取り基板に対する部品実装時に、吸着ノズルの交換回数を抑制し又は移載ヘッドでの吸着ノズルの間隔を調整するといった吸着ノズルの吸着準備動作を軽減することで、実装時間の短縮化を図ることができる部品実装方法及び部品実装装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a circuit board device manufactured by applying a manufacturing technique of multiple patterning, which improves operation reliability and product life cycle by preventing an abnormal signal voltage or corrosion of a wiring layer caused by contaminants sticking to the end face of each circuit board.例文帳に追加

多数個取りの製造技術を適用して製造される回路基板装置において、各回路基板の端面に付着した汚染物質による信号電圧の異常や配線層の腐食を防止して、動作の信頼性や製品寿命を向上させることができる回路基板装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method includes the process of placing the molded material 3 on the surface of the mat material 2 and pressin an object to be molded onto the surface of the patterning material 3 to mold the object, the process of hardening the molded material 3 after molded and the process of removing the hardened molded material 3 from the mat material 2.例文帳に追加

マット材２の表面に型取り材３を載置し、この型取り材３の表面に型取り対象を押し当てて、型取り対象の型を取る工程と、型を取った型取り材３を硬化させる工程と、硬化させた型取り材３をマット材２から取り外す工程とを含む型取り方法である。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic electroluminescent element capable of easily adding contrast, lowering a production cost and at the same time applying a material other than a chemical compound having an arylamine skeleton in a hole injection layer as an organic electroluminescent element for patterning, and expanding a range of choices for materials.例文帳に追加

容易にコントラストをつけることができ、かつ製造コストを下げることができると同時に、パターン化に用いる有機電界発光素子として正孔注入層にアリールアミン骨格を有する化合物以外の材料をも適用することが可能であり、材料選択の幅を広げることができる有機電界発光素子の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing a wiring board comprises a step for partially making thin a conductive foil 20 formed on a base substrate 10 by etching, a step for patterning the conductive foil 20 by etching, and a step for forming a wiring 30 having a thin part 32 on the base substrate 10 in an area being bonded to the electrode of an electronic component.例文帳に追加

配線基板の製造方法は、ベース基板１０に形成された導電箔２０の一部をエッチングによって薄くすること、及び、導電箔２０をエッチングによってパターニングすることを含み、ベース基板１０に、電子部品の電極との接合領域に薄肉部３２を有する配線３０を形成することを含む。 - 特許庁

The method comprises: establishing a power spectral density (PSD) indicative of the spatial frequency of the stray radiation produced by the projection system; and determining, from the PSD, a modulation transfer function (MTF) relating the PSD to the pattern applied by the patterning device in such a way that the effect of flare on the pattern image is taken into account.例文帳に追加

投影システムが生成する迷光放射線の空間周波数を示す電力スペクトル密度（ＰＳＤ）を確立し、フレアがパターン像に及ぼす効果を考慮に入れる方法で、パターニングデバイスが適用するパターンにＰＳＤを関連づける変調伝達関数（ＭＴＦ）を、ＰＳＤから決定する。 - 特許庁

The thin-film transistor manufacturing method includes a process for so patterning a source electrode 3 and a drain electrode 4 on a substrate 2 by the optical use of a charging controlling agent absorbed in the substrate as to form them thereafter by a selective electroless plating; and includes a process for forming an organic semiconductor, a gate insulator, and a gate electrode.例文帳に追加

本発明の薄膜トランジスタの製造方法は、基板２上に、ソース電極３とドレイン電極４とを、基板に吸着させた帯電制御剤を光を使ってパターニングした後、選択的無電解メッキにより形成する工程と、有機半導体、ゲート絶縁体、ゲート電極とを形成する工程を含むものである。 - 特許庁

The method for forming a reticle includes a process of providing a reticle blank having a quartz layer, attenuation phase change layer and metal layer, a process of coating the reticle blank with a resist, a process of patterning the resist into a plurality of levels, and a process of etching the reticle blank in accordance with the multilevel resist pattern.例文帳に追加

本発明のレチクル形成方法は、石英層、減衰位相変化層および金属層を有するレチクルブランクを提供する工程と、該レチクルブランクをレジストで覆う工程と、該レジストを複数レベルにパターンニングする工程と、該マルチレベルレジストパターンに従って該レチクルブランクをエッチングする工程とを包含する。 - 特許庁

A method for manufacturing the semiconductor integrated circuit device comprises steps of uniformly depositing an amorphous silicon film on a substrate in which a memory cell region and an element region are formed, patterning the amorphous silicon film on the memory cell region while the amorphous silicon film remains coating on the element region on the substrate, and forming a laminated gate electrode or a single layer gate of the flash memory unit.例文帳に追加

メモリセル領域と素子領域とを画成された基板上にアモルファスシリコン膜を一様に堆積し、さらに基板上の素子領域を前記アモルファスシリコン膜で覆ったまま、メモリセル領域において前記アモルファスシリコン膜をパターニングし、フラッシュメモリ装置の積層ゲート電極あるいは単層ゲートを形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the flash memory device comprises the steps of forming the dielectric film 25, and then forming an amorphous silicon layer 31 to alleviate a topology generated by patterning a first polysilicon layer 24 in a cell region so that the silicon layer 31 conducts a role of a dielectric film protective layer of the cell region at the time of forming the gate oxide film 26 of the peripheral circuit region.例文帳に追加

誘電体膜２５を形成した後、アモルフォスシリコン層３１を形成してセル領域で第１ポリシリコン層２４のパターニングで発生したトポロジーを緩和させ、アモルフォスシリコン層３１が周辺回路領域のゲート酸化膜２６形成の時にセル領域の誘電体膜保護層の役割をするようにする。 - 特許庁

The method of forming a polycrystalline silicon film comprises steps of forming an electrically insulating thermally conductive layer on a substrate, forming an amorphous silicon layer on the thermally conductive layer, patterning the amorphous silicon layer to form an amorphous silicon island, and annealing the amorphous silicon island to crystallize amorphous silicon.例文帳に追加

基板に電気絶縁性熱伝導層を形成する工程と、熱伝導層上に非晶質シリコン層を形成する工程と、非晶質シリコン層をパターニングして非晶質シリコンアイランドを形成する工程と、アイランドをアニーリングして非晶質シリコンを結晶化する工程と、を含む多結晶シリコンフィルムの製造方法である。 - 特許庁

The method for producing the black matrix of the color filter includes a stage of forming a black matrix layer of a hydrophobic organic material on one surface of a transparent substrate, a stage of forming a black matrix by patterning the black matrix layer, and a stage of making side surfaces of the black matrix hydrophilic by irradiating the other surface of the transparent substrate with ultraviolet rays while heating the black matrix.例文帳に追加

透明基板の一の面に疎水性有機物からなる遮光層を形成する段階と、遮光層をパターニングしてブラックマトリックスを形成する段階と、ブラックマトリックスを加熱しながら透明基板の他の面側に紫外線を照射してブラックマトリックスの側面を親水化させる段階とを含む。 - 特許庁

To provide a fabric-fulling or tie-patterning method by which a fabric to be processed can efficiently be treated in processes for sticking the fabric to a thermally shrinkable film and then thermally shrinking the film to full and compact the fabric or draw a tie-pattern on the fabric, while omitting a process for drying an adhesive applied on the thermally shrinkable film and the fabric.例文帳に追加

熱収縮性フイルムを被加工布帛に貼り合わせて加熱収縮させて被加工布帛を縮絨緻密化し、或いは、被加工布帛に絞り模様を描出する過程において、熱収縮性フイルムと被加工布帛に塗着した接着剤の乾燥工程を省き、効率的に被加工布帛を処理する。 - 特許庁

In addition, since the manufacturing method is based on such a unique idea that thermocouples are not combined, but many thermocouples are produced by patterning a sheet obtained by sticking different kinds of conductive materials to each other by etching, the semiconductor technology can be applied and fine thermocouples can be mass-produced inexpensively with a high productive efficiency.例文帳に追加

さらに、熱電対を組み立てるのではなく、異なる導電性材料を貼り合わせたシートから多数の熱電対をエッチングでパターン化するという独特の発想に基づいているため、半導体技術を応用でき、微細な熱電対を高い生産効率と低いコストで大量に生産できる。 - 特許庁

A method includes a step of forming a titanium oxide film, preferably with a patterning, on a glass substrate having three-dimensional curvature shape by an electrodeposition method using a water dispersion solution containing a resin and titanium oxide capable of electrodeposition, and a step of forming the dye-sensitized solar cell using the titanium oxide film as a photoelectric conversion layer.例文帳に追加

色素増感太陽電池を備えた車載用ガラスを製造する方法であって、電着可能な樹脂と酸化チタンを含む水分散液を用いた電着法により、３次元曲面形状を有するガラス基板の上に、好ましくはパターニングされた酸化チタン膜を形成する工程と、酸化チタン膜を光電変換層として用いて色素増感太陽電池を作製する工程とを備えることを特徴としている。 - 特許庁

The method for forming the contact structure comprises the steps of: forming an interlayer insulating film on a semiconductor substrate; forming a contact hole by patterning the interlayer insulating film and exposing the predetermined region of the semiconductor substrate; and forming the contact spacer on the side wall of the contact hole by the use of a depositing method having a depositing direction slanted to the main surface of the semiconductor substrate.例文帳に追加

本発明のコンタクト構造体の形成方法は、半導体基板上に層間絶縁膜を形成する工程と、層間絶縁膜をパターニングして半導体基板の所定領域を露出させるコンタクトホールを形成する工程と、半導体基板の主表面に対して傾斜した蒸着方向を有する蒸着法を用いてコンタクトホールの側壁にコンタクトスペーサを形成する工程と、を有する。 - 特許庁

The semiconductor etching method has a process of forming a metal fluoride layer at a temperature of not less than 150°C as at least one part of an etching mask 3 to be formed on a semiconductor layer 2; a process of patterning the metal fluoride layer; and a process of etching the semiconductor layer using the patterned metal fluoride layer 3 as a mask.例文帳に追加

半導体層２上に形成されるエッチングマスク３の少なくとも一部として、金属フッ化物層を１５０℃以上の温度で形成する工程と、この金属フッ化物層をパターンニングする工程と、パターニングされた金属フッ化物層３をマスクとして、前記半導体層をエッチングする工程とを有する半導体層のエッチング方法。 - 特許庁

The method for manufacturing elements on flexible substrates includes a step of holding a plurality of flexible substrates 14 on a supporting substrate 10 having less dimensional variation than the flexible substrates in a divided state and a step of patterning elements on respective flexible substrates held on the supporting substrate.例文帳に追加

可撓性基板上に素子を製造する方法であって、前記可撓性基板よりも寸法変化率の小さい支持基板１０上に複数の前記可撓性基板１４を分割した状態で保持する工程と、前記支持基板上に保持された各可撓性基板上に素子をパターニングする工程と、を含むことを特徴とする素子の製造方法。 - 特許庁

In a manufacturing method for an active matrix substrate used for a reflective liquid crystal display device, for forming unevenness on a surface of a pixel electrode (reflection electrode) to scatter light, convex parts 701 and 702 are formed through patterning using the same photomask as that used for forming a TFT, thereby forming unevenness on a surface of a pixel electrode 169.例文帳に追加

本発明は、反射型の液晶表示装置に用いるアクティブマトリクス基板の作製方法において、画素電極（反射電極）の表面に凹凸を持たせて光散乱性を図るための凸部７０１、７０２の形成をＴＦＴの形成と同じフォトマスクでパターニングを行い、画素電極１６９の表面に凸凹を形成する。 - 特許庁

To reduce contact resistance between first and second electrodes, with respect to an acoustic wave device which has the first electrode, and the second electrode laminated at a part of the upper surface of the second electrode to be electrically connected to the first electrode, and in which patterning using alkali developer is performed between first and second electrode formation processes, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

第１の電極と、第２の電極の上面の一部に積層されて第１の電極に電気的に接続される第２の電極とを有し、第１，第２の電極形成工程の間に、アルカリ現像液を用いたパターニングが行われる弾性波装置及びその製造方法において、第１，第２の電極間の接触抵抗を小さくする。 - 特許庁

The first electrode can be exactly formed almost into the tapered-shape by heightening accuracy of patterning by accurately controlling an etching line width by applying a lithography process at every layer with a different etching method and an etching speed from each other, after forming the adhesion layer 12A, the metal layer 12B, and the work function adjusting layer 12C on the substrate 11, successively.例文帳に追加

基板１１に、密着層１２Ａ，金属層１２Ｂおよび仕事関数調整層１２Ｃを順に形成したのち、エッチング方法およびエッチング速度が異なる層ごとにリソグラフィ工程を設けることにより、エッチング線幅を精確に制御してパターニング精度を高め、第１電極１２を確実に略順テーパ状に形成することができる。 - 特許庁

In the method of manufacturing semiconductor device to perform patterning by partially removing an insulation film formed on a semiconductor wafer such as the marking of an ID number given to the semiconductor wafer, the insulation film is removed by irradiating a DUV laser which is aligned in the wavelength to the absorbing end of the insulation material forming the insulation film.例文帳に追加

半導体ウェハに付されるＩＤ番号のマーキング等の半導体ウェハに形成された絶縁膜を部分的に除去してパターニングを行なう半導体装置の製造方法において、前記絶縁膜を構成する絶縁材料の吸収端に波長を合せたＤＵＶレーザの照射によって前記絶縁膜の除去を行なう。 - 特許庁

The pattern forming method includes steps of: forming an etching mask 9 having a predetermined pattern formed on a member 3 to be processed; impregnating the etching mask 9 with a predetermined material 12; and patterning the member 3 to be processed using the etching mask 9 impregnated with the predetermined material 12.例文帳に追加

被加工部材３上に所定のパターンが形成されたエッチングマスク９を形成する工程と、前記エッチングマスク９に所定の物質１２を含浸させる工程と、前記所定の物質１２を含浸した前記エッチングマスク９を用い、前記被加工部材３をパターニングする工程と、を備えたことを特徴とするパターン形成方法が提供される。 - 特許庁

In the method for manufacturing an active matrix substrate used for a reflective liquid crystal display device, projections 701, 702 to roughen the surface of the pixel electrode (reflection electrode) to scatter light are formed by patterning by using the same photo mask used for the formation of TFTs to form the recesses and the projections on the surface of the pixel electrode 169.例文帳に追加

本発明は、反射型の液晶表示装置に用いるアクティブマトリクス基板の作製方法において、画素電極（反射電極）の表面に凹凸を持たせて光散乱性を図るための凸部７０１、７０２の形成をＴＦＴの形成と同じフォトマスクでパターニングを行い、画素電極１６９の表面に凸凹を形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the substrate for microarray 100, equipped with a substrate 10, a bulkhead 20 partitioning surface of the substrate 10 and an area 30 partitioned by the bulkhead, includes the process to form the first film by using the composition containing compound (A) such as C.I. pigment red 254, and the process to form the bulkhead through patterning of the first film.例文帳に追加

基板１０とその表面を区画する隔壁２０と隔壁により区画された領域３０とを有するマイクロアレイ用基板１００の製造方法において、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４等の化合物（Ａ）を含む組成物を用いて第１膜を形成する工程と、第１膜をパターニングして隔壁を形成する工程と、を備える。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device includes: a step of sequentially forming a metal-containing film 108 and polysilicon film 109; a step of patterning the metal-containing film and polysilicon film to be shaped to the resistive element; and a step of forming a hollow region 119 under the polysilicon film by removing a portion of the metal-containing film.例文帳に追加

基板上に金属含有膜１０８及びポリシリコン膜１０９を順次形成する工程と、前記金属含有膜及び前記ポリシリコン膜を抵抗素子形状にパターニングする工程と、前記金属含有膜の少なくとも一部分を除去することにより、前記ポリシリコン膜の下に中空領域１１９を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

The method of manufacturing the electrooptical device includes the steps of: forming the conductive layer (9) of the light-reflective conductive material; forming a protective film (19) on the conductive layer; forming resist (60) on the protective film and performing patterning of the resist; and etching the protective film and conductive layer using the patterned resist as a mask.例文帳に追加

電気光学装置の製造方法は、光反射性を有する導電性材料から導電層（９）を形成する工程と、導電層上に保護膜（１９）を形成する工程と、保護膜上にレジスト（６０）を形成し、当該レジストをパターニングする工程と、パターニングされたレジストをマスクとして、保護膜及び導電層に対してエッチングを施す工程とを備える。 - 特許庁

The method of manufacturing a gallium nitride compound semiconductor element having a p-type gallium nitride semiconductor layer doped with Mg comprises irradiating the surface of the p-type gallium nitride semiconductor layer with ultrasonic waves in at least one treating liquid among strong acids and strong alkalis to pretreat the surface of the layer before resist coating for p-type patterning.例文帳に追加

マグネシウムがドープされたｐ型窒化ガリウム系半導体層を有する窒化ガリウム系化合物半導体素子の製造方法において、ｐ型パターニングのためのレジスト塗布の前に、強酸及び強アルカリの少なくとも１つの処理液中で超音波を照射しながらｐ型窒化ガリウム系化合物半導体層の表面を前処理する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a transparent conductive laminate which improves pattern alignment accuracy of a plurality of transparent conductive films by suppressing a dimensional change due to heat applied during a post process by conducting crystallization of a transparent conductive layer in a short time and a heat contraction processing of a substrate prior to patterning and joining of the conductive layer.例文帳に追加

短時間で透明導電層を結晶化させること、及び、基板の熱収縮処理を行い、導電層のパターニング、貼り合せの前に、後工程で加えられる熱による寸法変化を抑制することで、複数の透明導電性フィルムのパターン位置合わせ精度を向上させる透明導電性積層体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing a thin film transistor, which has the process of applying a precursor solution to form an oxide semiconductor thin film, forms the oxide semiconductor thin film by using a liquid jet apparatus for jetting charged droplets in patterning a precursor thin film formed by the application of the precursor solution.例文帳に追加

前駆体溶液を塗布して酸化物半導体の薄膜を形成する工程を有する薄膜トランジスタの製造方法において、 該前駆体溶液を塗布して形成される前駆体薄膜のパターニングに帯電させた液滴を吐出する液体吐出装置により酸化物半導体の薄膜を形成することを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。 - 特許庁

This production method of the graphene conductive film includes: a first step of providing a metallic substrate having a first surface and a second surface facing the first surface; a second step of growing a graphene structure on the first surface of the metallic substrate; and a third step of patterning the metallic substrate by etching to form an electrode.例文帳に追加

本発明のグラフェン導電膜の製造方法は、第一表面及び該第一表面に対向する第二表面を有する金属基材を提供する第一ステップと、前記金属基材の第一表面にグラフェン構造体を成長させる第二ステップと、エッチングによって、前記金属基材をパターニングして電極を形成させる第三ステップと、を含む。 - 特許庁