「patterning method」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an inexpensive laminated structure capable of forming a fine pattern conveniently by applying a low cost method of high material use efficiency, e.g. printing method, and including a higher mobility semiconductor layer having a high value added function other than patterning.例文帳に追加

印刷法のような低コストかつ材料使用効率の高い方法が適用でき、簡便に微細なパターンの形成が可能であって、かつ、パターン形成以外に高付加価値機能を有し、より高移動度の半導体層を有する積層構造体を廉価に提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturable when a method for patterning a semiconductor layer by a difference in level of a barrier plate pattern is applied to manufacturing of a bottom-gate/top-contact type organic TFT where a source electrode and a drain electrode are formed by using a printing method.例文帳に追加

隔壁パターンの段差によって半導体層をパターニングする方法を、印刷法を用いてソース電極およびドレイン電極を形成するボトムゲート・トップコンタクト型の有機ＴＦＴの作製に適用して作製可能な半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method in which a polymer EL element of high quality can be manufactured by improving the accuracy and by improving adhesiveness with a transcribed board 7 in patterning and transcription of an ink layer 2 using a relief reversed off-set method.例文帳に追加

凸版反転オフセット法を用いたインク層２のパターニングおよび転写において、その正確性を向上させ、かつ、被転写基板７との密着性を向上させることにより、高品質の高分子ＥＬ素子を製造できる製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an overlay vernier mask pattern of a semiconductor element, along with a method of forming the same, capable of correctly forming a first overlay vernier pattern at a lower part and a second overlay vernier pattern at an upper part in the case where a triplex key method is utilized by applying a double patterning technology.例文帳に追加

ダブルパターニング技術を適用して三重キーの方法を利用する場合、下部の第１オーバーレイバーニアパターンと、上部の第２オーバーレイバーニアパターンとが正常に形成されるようにする半導体素子のオーバーレイバーニアマスクパターンとその形成方法を提供する - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL element, capable of surely carrying out patterning of a coating of a display function material on a blanket, and surely forming and transferring a pixel pattern formed on the blanket to a transfer substrate, with the use of a letterpress reverse printing method.例文帳に追加

凸版反転印刷法により、ブランケット上の表示機能性材料の塗膜のパターンニング、ブランケット上に形成された画素パターンを基材への転写基板に画素パターンを確実に形成することが可能な有機ＥＬ素子の製造方法提供する。 - 特許庁

To provide a method capable of manufacturing elements with high yield by carrying out patterning simply and in high precision on a flexible board, and to provide a manufacturing method of a display device capable of displaying in high definition while having flexibility by using the same.例文帳に追加

可撓性基板上に簡単且つ高精度にパターニングを行って高い歩留りで素子を製造することができる方法、及びそれにより可撓性を有するとともに高精細な表示を行うことができる表示装置を製造する方法を提供する。 - 特許庁

In the method of cleaning the patterning device used for the lithographic projector, the patterning device includes the blank layer and the patterned layers of the opaque material existing on the surface of the blank layer and the PFPE liquid covering the surface is applied on the surface of the blank layer in order to form the PFPE liquid layer and at least a portion of the PFPE liquid layer is removed.例文帳に追加

フォトリソグラフィ投影装置に使用するパターニング・デバイスのクリーニング方法、素材層と、素材層の表面上にある不透明材料のパターン状層とを含むパターニング・デバイス、ＰＦＰＥ液層を形成するため、ＰＦＰＥ液の表面に表面を覆うＰＦＰＥ液体を塗布することと、ＰＦＰＥ液層の少なくとも一部を除去することとを含む方法。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes a resist pattern forming step of forming a resist pattern by using the above resist composition on a surface to be processed and then applying a resist pattern thickening material to cover the surface of the resist pattern, and a patterning step of patterning the surface to be processed by etching with the thickened resist pattern as a mask.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、被加工面上に前記レジスト組成物を用いてレジストパターンを形成後、該レジストパターンの表面を覆うようにレジストパターン厚肉化材料を塗布することにより該レジストパターンを厚肉化するレジストパターン形成工程と、該厚肉化したレジストパターンをマスクとしてエッチングにより前記被加工面をパターニングするパターニング工程とを含む。 - 特許庁

The patterning method comprises a step for forming a barrier 30 on a substrate P, a step for forming a conductive layer 80 in a patterning region 30a surrounded by the barrier 30, a step for arranging plating nuclei 26 on the conductive layer 80, and a step for forming an anti-diffusion layer 82 on the conductive layer 80 by electroless plating method using the plating nuclei 26 as a catalyst.例文帳に追加

本発明のパターン形成方法は、基板Ｐ上に隔壁３０を形成する隔壁形成工程と、隔壁３０に囲まれたパターン形成領域３０ａに導電層８０を形成する導電層形成工程と、導電層８０上にめっき核２６を配置するめっき核配置工程と、導電層８０上に、無電解めっき法によりめっき核２６を触媒として拡散防止層８２を形成する拡散防止層形成工程と、を有する。 - 特許庁

To provide a surface treatment agent for freezing process and a method of forming a resist pattern using the same, meeting the requirement that in a double patterning method, dimensions of a first resist pattern are not varied by a freezing process conducted for the first resist pattern and formation of a second resist pattern.例文帳に追加

ダブルパターニング法において第一のレジストパターンに対して行うフリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの寸法が変動しないという要件を満たすフリージングプロセス用の表面処理剤およびそれを用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To present a substrate for easily fabricating a fine element such as a semiconductor element, an integrated circuit, and a device for an image display at a low cost without patterning by photolithography for the fabrication of the fine element, a fabrication method for the substrate, and a thin-film forming method using the substrate.例文帳に追加

微細素子の製作に際してフォトリソグラフィによるパターニングを施すことなく、低コストで簡易に半導体素子、集積回路、画像ディスプレー用デバイス等の微細素子を作製するための基板、該基板の作製方法、及び該基板を用いる薄膜形成方法を提示すること。 - 特許庁

This process of using two exposures with diffusion light achieves the material use efficiency, costs, responses to various substrate sizes and high-definition electrode patterning that is not successful in the ink jet method, for instance, in manufacturing TFTs, which the traditional manufacturing method cannot achieve.例文帳に追加

拡散光を用いた２回露光プロセスによって、例えばＴＦＴ作成において従来の方法では解決できない材料使用効率、コスト、多様な基板サイズに対応という課題かつ、インクジェット方式では解決できない高精細パターニングを解決するものである。 - 特許庁

In a method of processing a material to be processed which is formed on a semiconductor substrate 101 or a material to be processed which comprises a plurality of multilayer films using a desired double patterning method, processing for defining the element isolation width can be performed twice when a pattern is formed.例文帳に追加

半導体基板上に形成された被加工材料、若しくは複数の積層膜から構成される被加工材料を所望のダブルパターンニング法を用いて加工する製造方法において、パターンを形成する際、素子分離幅を規定する加工を２回行うことで解決できる - 特許庁

To solve such a problem that, when a sublimation material is formed by coating, an organic compound layer cannot be deposited in a consecutive vacuum, so that a manufacturing cost and a tact time is increased, in a method for manufacturing an organic EL display device, the method using a release layer comprising the sublimation material for patterning a luminous layer.例文帳に追加

昇華材料からなる剥離層を用いて発光層をパターニング形成する有機ＥＬ表示装置の製造方法において、昇華材料を塗布により形成すると有機化合物層を一貫した真空下で成膜ができなくなり、製造コストやタクトタイムが長くなってしまう。 - 特許庁

This process of using two exposures with diffusion light achieves the material use efficiency, costs, responses to various substrate sizes and high-definition electrode patterning that is not successful in the ink jet method, for instance, in manufacturing wiring electrodes, which the traditional manufacturing method cannot achieve.例文帳に追加

拡散光を用いた２回露光プロセスによって、例えばタッチパネルの配線電極作成において従来の方法では解決できない材料使用効率、コスト、多様な基板サイズに対応という課題かつ、インクジェット方式では解決できない高精細電極パターニングを解決するものである。 - 特許庁

The method for manufacturing an active element array includes a process of forming pixel electrodes and a process of forming an amorphous transparent conductive film and then patterning the amorphous transparent conductive film into the same pattern as the pixel electrodes by a photolithographic method.例文帳に追加

アクティブ素子アレイの製造方法であって、画素電極を形成する工程と、非晶質透明導電膜を成膜した後、前記非晶質透明導電膜をフォトリソグラフィー法で前記画素電極を同じパターンに形成する工程を有するアクティブ素子アレイの製造方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an EL element, in which a problem such as swelling out or eluting out of a buffer layer is not generated even when manufacturing the EL element which has both the organic EL layer, by which patterning is carried out by the photo lithography method, and the buffer layer.例文帳に追加

本発明は、フォトリソグラフィー法によりパターニングされる有機ＥＬ層とバッファー層とを共に有するＥＬ素子を製造する場合でも、バッファー層が膨潤もしくは溶出するといった問題が生じることのないＥＬ素子の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To provide a lid material by which patterning of parts needing adherence and parts not needing the adherence can be freely carried out without causing the complication of operation and which exhibits stable adhesiveness and easy peelability to a bottom material, a method for manufacturing the lid material, and a method for easily peeling the lid material.例文帳に追加

粘着性の必要な部分と不要な部分とのパターニングを作業の煩雑化等を招くことなく自在に行うことができ、しかも、底材に対して安定した接着性と易剥離性とを示す蓋材、該蓋材の製造方法、及び該蓋材の易剥離方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for removing a resist for sufficiently suppressing damage of an insulating film consisting of a low dielectric constant material when removing a residual resist from a base substance to be treated after patterning in an etching process.例文帳に追加

エッチング工程においてパターニング後の被処理基体から残留レジストを除去するに際し、低誘電率材料からなる絶縁膜のダメージを十分に抑制することが可能なレジストの除去方法を提供すること。 - 特許庁

A plate-like member 3 is stuck on a support base board 1 via an adhesive layer 2, and plural cross-sectional pattern members 31, 32 and 33 are collectively formed by performing patterning up to penetrating through the plate-like member 3 by using a photolithography method.例文帳に追加

支持基板１上に接着層２を介して板状部材３を貼り付け、フォトリソグラフィー法を用いて板状部材３を貫通するまでパターニングして複数の断面パターン部材３１，３２，３３を一括して形成する。 - 特許庁

To provide an electron emission element which, while maintaining such an effect as lowering of a threshold voltage due to a patterning of a carbon group material and an electric field strength, has a high mechanical strength and stability, and provide its manufacturing method.例文帳に追加

炭素系材料をパターニングすることによる闘電圧の低下や電界強度の増加といった効果を維持しつつ、機械的強度が高い、安定した電子放出素子及びその製法を提供することを解決課題とする。 - 特許庁

With this method, first, the patterning device MA, a detector 43, and a projection system 42 are arranged so that images of the features are projected by the projection system on the detector 43 when the polarization sensitive features 44 are lighted.例文帳に追加

この方法では、先ず、偏光感応フィーチャ４４の照明に際して、このフィーチャの像がディテクタ４３上の投影システムによって投影されるように、パターニングデバイスＭＡ、ディテクタ４３および投影システム４２が設けられる。 - 特許庁

To provide a laser processing device and a processing method of thin-film solar battery, capable of processing a patterning line for defining unit cells on a thin-film solar battery of large area at a high speed and high accuracy, and having an advantage of miniaturizing the device.例文帳に追加

大面積の薄膜太陽電池に単位セルを画成するパターニングラインを高速かつ高精度で加工できるとともに、装置を小型化するうえでも有利な薄膜太陽電池のレーザ加工装置および加工方法を提供する。 - 特許庁

The method also includes measuring the accuracy of at least one property of the at least one location of the pattern on the substrate that has been determined as being prone to patterning errors, and adjusting the lithographic process according to the measuring.例文帳に追加

方法は、パターニングの誤差が発生しやすいとして決定された基板上のパターンの少なくとも１つの位置の少なくとも１つの特性の精度を測定し、測定に従ってリソグラフィプロセスを調整することも含む。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in depth of focus and dependency on density distribution, as well as an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and a patterning method using this composition.例文帳に追加

フォーカス余裕度及び疎密依存性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method capable of forming a satisfactory resist pattern, by a double patterning process using a positive type resist composition as a first resist composition, on a support formed with a reflection preventive film on its surface.例文帳に追加

表面に反射防止膜が形成された支持体上に、第一のレジスト組成物としてポジ型レジスト組成物を用いるダブルパターニングプロセスにより良好なレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laminate for forming a wiring substrate in which electric resistance is made low, patterning performance and moisture/heat resistance are made superior, to provide a method to form the wiring substrate by etching the laminate and to provide the wiring substrate.例文帳に追加

低抵抗でパターニング性能に優れ、かつ耐湿性・耐熱性の高い配線付き基体形成用の積層体、該積層体をエッチングして配線付き基体を形成する方法および得られた配線付き基板の提供。 - 特許庁

This is a forming method of a transparent electrode comprising a process to form a transparent conductive film having ZnO added with Mg on a substrate and a process to form patterning of the transparent conductive film using an etching liquid containing HCl.例文帳に追加

基板上にＺｎＯにＭｇが添加された透明導電膜を形成する工程と、ＨＣｌを含むエッチング液を用いて上記透明導電膜をパターンニングする工程とを含む透明電極の形成方法により解決される。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, such as insulation gate type field effect transistor (IGFET) of high integration, in which damage are prevented even in micro-patterning.例文帳に追加

高集積度の絶縁ゲート型電界効果トランジスタ（ＩＧＦＥＴ）を含む半導体装置の製造方法に関し、微細パターンの加工においても、半導体装置の損傷を防止できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a package, capable of preventing problems such as damage, deformed crack or crack in dividing a frame sheet into individual packages even when the package downsized in accordance with demands of integration is manufactured using the multiple patterning.例文帳に追加

集積化の要望に応じて小型化されたパッケージを多数個取りの製造を行う場合においても、個別に分割する際に破損や、異形割れ、クラックが発生する問題のないパッケージの製造方法を提供することである。 - 特許庁

In a device manufacturing method and a lithographic apparatus in which a pattern is transferred from a patterning device onto a substrate, a measurement target is provided on the substrate in a process, enabling execution of a substrate measurement by using radiation of a first wavelength.例文帳に追加

パターンがパターニングデバイスから基板上に転写されるデバイス製造方法およびリソグラフィ装置では、計測ターゲットが第１波長の放射を使用して基板計測の実行を可能にする工程で基板上に提供される。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device and a method for manufac turing the same which enable reduction in a cost and simplification of the process by forming a plurality of patterns on the same substrate and minimizing the number of masks required in the patterning.例文帳に追加

本発明は、複数のパターンを同一基板上に形成し、前記パターン時要求されるマスクの数を最小化してコスト減少及び工程を簡素化するための液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a device, having a ferromagnetic tunnel junction element with improved characteristics by properly patterning constituent layers of a multilayered film having a first and a second ferromagnetic layer and a tunnel insulation layer interposed between these ferromagnetic layers.例文帳に追加

第１および第２の強磁性体層ならびにこれらに挟まれたトンネル絶縁層を有する多層膜の構成層を良好にパターニングして、特性の改善された強磁性トンネル接合素子を有する装置を製造する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an image display device using energy of laser beams or the like as a heat source of transcription, capable of easily inspecting precision of patterning after transcribing a phosphor ink film on the inner surface of a panel, before baking.例文帳に追加

レーザビームなどのエネルギビームを転写熱源として用い、蛍光体インク膜をパネルの内面に転写した後であって、焼成する前に、容易にパターニングの精度などの検査が可能な画像表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for preventing the deformation of a pattern in an STI region patterning process concerning a nonvolatile semiconductor integrated circuit device with a configuration where a plurality of transistor cells having a common gate are arranged like an array.例文帳に追加

共通ゲートを有する複数のトランジスタセルをアレー状に配置する構成を持つ不揮発性半導体集積回路装置において、ＳＴＩ領域のパターニング工程でのパターンの変形を防ぐ製造方法を提供する。 - 特許庁

A mask blank 10 is produced by forming a thin film 2 for patterning, comprising a material containing at least one of metal and silicon, on a light-transmitting substrate 1 by a sputtering method using a sputtering film-forming device.例文帳に追加

透光性基板１上に金属及びケイ素のうち少なくともいずれかを含有する材料からなるパターン形成用薄膜２をスパッタ成膜装置を用いてスパッタリング法で形成することによりマスクブランク１０を製造する。 - 特許庁

To provide a method for forming an optical waveguide which includes a core having various shapes such as a branch by only a simple step of irradiation with light or the like while eliminating a step of patterning a core by development.例文帳に追加

現像によるコア部のパターニング工程を含まずに、光の照射等の簡易な工程のみによって、分岐状等の種々の形状を有するコア部を含む光導波路を形成することができる方法を提供する。 - 特許庁

To realize manufacturing method of a semiconductor device which can reduce nonuniformity in the line width of a thin film after patterning on the occasion, when the thin film formed on a semiconductor wafer is patterned into a prescribed shape.例文帳に追加

本発明は、半導体ウェーハ上に形成された薄膜を所定の形状にパターニングする際に、そのパターニング後の薄膜の線幅のばらつきを抑制することが可能な半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Subsequently, a non-magnetic layer 8 and a lower magnetic pole 9 are selectively formed by polishing the entire body by a CMP method until at least the frame pattern 50 is exposed and patterning the precursory non- magnetic layer and the precursory lower magnetic pole layer.例文帳に追加

続いて、ＣＭＰ法によって少なくともフレームパターン５０が露出するまで全体を研磨し、前駆非磁性層および前駆下部磁極層をパターニングすることにより、非磁性層８および下部磁極９を選択的に形成する。 - 特許庁

The method of forming a planar CMOS transistor divides the step of forming the gate layer into a first step of patterning a resist layer with a first portion of the gate layer pattern and then etching the polysilicon with the pattern of the gates.例文帳に追加

プレーナＣＭＯＳトランジスタを形成する方法は、ゲート層を形成する工程を、ゲート層パターンの第一の部分でレジスト層をパターン形成し、次にゲートのパターンで多結晶シリコンをエッチングする第一の工程に分割する。 - 特許庁

To provide a piezoelectric substance having high piezoelectric performance, a manufacturing method thereof, a piezoelectric element, a liquid discharge head using the same, which exhibits uniform and high discharge performance and can perform executing fine patterning, and a liquid discharge apparatus.例文帳に追加

大きな圧電性を有する圧電体、その製造方法及び圧電素子並びにそれを用いた均一で高い吐出性能を示し、微細なパターニングを行うことが可能な液体吐出ヘッド及び液体吐出装置を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes a step for thickening a resist pattern by coating the surface of the pattern with the thickening material after forming the pattern on an underlayer and a step for patterning the underlayer by etching through the pattern.例文帳に追加

下地層上にレジストパターンを形成後、該パターン表面に前記厚肉化材料を塗布し該パターンを厚肉化する工程と、該パターンを用いてエッチングにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

In the patterning method using a liquid material while using an inkjet system, the liquid material is prevented from extruding by forming a concave structure by laser in the inside of a bent portion in a wiring forming route on the substrate.例文帳に追加

インクジェット方式を用いた液体材料によるパターニング方法において、基板上の配線形成経路における折れ曲り部の内側にレーザにより凹構造を形成することによりの液体材料のはみだしを防止する。 - 特許庁

This patterning method includes at least three steps of etching processes, in which a fluorine-containing gas is used for etching at a first step, a chlorine-containing gas is used for etching at a second step, and a bromine-containing gas is used for etching at a third step.例文帳に追加

このパターニング法は、少なくとも３段階のエッチングプロセスを含み、第一の段階ではフッ素を含むガスが、第二の段階では塩素を含むガスが、第三の段階では臭素を含むガスがエッチングのために使用される。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition containing nanoparticles excelling in dispersibility in both resin and a developing solution and having excellent transmissivity and patterning property, and to provide a photosensitive element using the photosensitive resin composition, and a method of forming a resist pattern.例文帳に追加

樹脂中及び現像液中の双方でナノ粒子の分散性が良く、透過率、パターニング性に優れるナノ粒子を含有した感光性樹脂組成物及び、それを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁