「patterning method」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

A ferroelectric thin film of the ferroelectric piezoelectric element is formed by introducing a photosensitive group to a ferroelectric precursor sol formed by sol-gel method, applying the precursor sol to a basic material and fine patterning a ferroelectric gel thin film thus obtained by optical fabrication.例文帳に追加

強誘電体圧電素子の強誘電体薄膜を、ゾル−ゲル法で形成された強誘電体の前駆体ゾルに感光基を導入しその前駆体ゾルを基体に塗布して得られた強誘電体ゲル薄膜を光ファブリケーションにより微細パターニングして形成した。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a wiring board capable of patterning a wiring layer from a conductive layer without generating any problem concerning a base layer having a conductive layer on the base layer surface and a through-hole conductor packed with a resin packing body.例文帳に追加

基層表面に導体層を有すると共に、樹脂充填体が充填されたスルーホール導体を有する基層等について、諸問題を生じることなく、導体層から配線層をパターニングすることができる配線基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the manufacturing method of the TFT array substrate, deformations of the glass substrate generated in a heat treatment process, such as the thermal shrinkage or the thermal expansion, are estimated previously, a pattern size is magnified or reduced only for the deformation previously estimated before the heat treatment process, and exposure and the patterning are performed.例文帳に追加

ＴＦＴアレイ基板の製造方法において、熱処理工程で生じるガラス基板の熱収縮または熱膨張等の変形を、熱処理工程の前に予め見積もった変形量だけパターン寸法を拡大または縮小して露光し、パターニングする。 - 特許庁

To provide a transparent conductive film on which fine patterning can be applied, prevented from change of characteristics and lowering of transmittance caused by gas or moisture, and to provide a manufacturing method of the same, an electro-optical device provided with the transparent conductive film, and elecronic equipment.例文帳に追加

透明導電膜についての微細なパターニングを可能にし、しかもガスや水分の影響による特性変化や透過率の低下を防止した、透明導電膜とその形成方法、およびこの透明導電膜を備えた電気光学装置、電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a color conversion filter capable of reducing the cost by reducing the quantity of material for manufacturing a color conversion layer, capable of preventing color mixture, and capable of patterning in high precision.例文帳に追加

本発明は、製造に際しての色変換層形成用材料の使用量を軽減することによりコストを低減し、かつ混色が容易に防止でき、さらに高精細なパターニングが可能である色変換フィルタの製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To provide a cold cathode and its manufacturing method that enable to control the orientation of a field emission electron source capable of decreasing the operating drive voltage and the degree of vacuum of operation and to build up a cold cathode structure having a large-area wherein patterning in a desired shape can be made.例文帳に追加

動作駆動電圧、動作真空度が低減可能な電界放出電子源を配向制御することができ、所望の形状にパターニングできる大面積冷陰極構造の構築を可能にする冷陰極及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method, patterning is directly applied to the organic thin film formed on a substrate, based on a mask having micro apertures with a scale of micron to nanometer by a dry etching process or vacuum ultraviolet radiation.例文帳に追加

ミクロンからナノメータースケールの微細開口を有するマスクをもとに、基板上に形成された有機物薄膜をドライエッチングプロセスまたは真空紫外光照射により直接パターニングを行なうことを特徴とする有機薄膜の製造方法とそれによる有機薄膜。 - 特許庁

After first-layer wiring L1 having a conductor film 16d using aluminum as a main constituent is subjected to patterning by a dry etching method, a sidewall protection film 18 of the machining sidewall and a photoresist pattern 17a used as an etching mask are removed by plasma ashing treatment.例文帳に追加

アルミニウムを主成分とする導体膜１６ｄを有する第１層配線Ｌ１をドライエッチング法によってパターニングした後、その加工側壁の側壁保護膜１８およびエッチングマスクとして使用したフォトレジストパターン１７ａをプラズマアッシング処理によって除去する。 - 特許庁

To provide a film carrier tape that reduces the full-etching warping or curling of a conductive layer which becomes one of warping indexes at the time of patterning the conductive layer by widening the selection width for the chemical structure of a polyimide film, and also to provide a method of manufacturing the tape.例文帳に追加

ポリイミドフィルムにおける化学構造の選択の幅を広げ、導電層にパターニングを行った際の、反りの指標の一つとなる導電層フルエッチング時のそりやカールを低減させることができるフィルムキャリアテープおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the patterning method of a conductive thin film, a conductive film 2 is formed on a substrate 1 by using a conjugated polymer (conductive polymer), and a material with a nonconjugate action, for example, an alkaline ink 3 is applied to the conductive film 2.例文帳に追加

導電性の薄膜のパターニング方法であって、基板１に共役系高分子（導電性ポリマー）によって導電性膜２を形成し、その導電性膜２に共役を切る作用のある材料、例えばアルカリ性のインク３を塗布することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for patterning a functional film in which irradiation energy of electromagnetic waves per unit area is reduced sharply, irradiation time is shortened, and facility of light source is reduced in size, and to provide an electromagnetic wave irradiator and an electronic apparatus.例文帳に追加

単位面積当たりの電磁波の照射エネルギー量の大幅な低減と照射時間の短縮とを図り、光源の設備の小型化を図った機能性膜パターン形成装置、機能性膜パターン形成方法、電磁波照射装置、および電子機器を提供する。 - 特許庁

In this manufacturing method, regions A1, A2, A3 of a diffraction optics 1 are divided successively into a circular and two annular regions in this order in the radial direction, and an eight step stair structure is manufactured in the region A1 by repeating patterning and etching processes.例文帳に追加

回折光学素子１を領域Ａ１、Ａ２、Ａ３はそれぞれ半径方向に円形及び円環形領域に３分割し、領域Ａ１においてパターニング及びエッチングの工程を繰り返すことにより領域Ａ１に８段の階段構造を製作する。 - 特許庁

To provide a charge transfer element to which alignment residual in patterning process at the time of formation does not lead to the variation in the photodetecting area of a photoelectric converter, and to provide its manufacturing method when configuring the image pick-up part of, for example, a solid state image sensor.例文帳に追加

例えば固体撮像素子の撮像部を構成した場合に、作製時のパターニング工程における位置合わせ誤差が光電変換部の受光領域の面積のばらつきにつながらない電荷転送素子及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of removing laser processing residues and an apparatus for removing laser processing residues with improved burr removal efficiency by bringing burrs generated by laser processing in a patterning step into contact with the tip end parts of brushes of cleaning rolls without fault and thus reliably removing the burrs.例文帳に追加

パターニング工程においてレーザ加工によって発生するバリとクリーニングロールのブラシ先端部との接触を洩れなく行い、バリを確実に除去し得て、バリ除去率を向上したレーザ加工残渣の除去方法およびレーザ加工残渣の除去装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film carrier tape that reduces the full-etching warping or curling of a conductive layer which becomes one of the warping indexes of the conductive layer at the time of patterning the conductive layer by widening the selection width for the chemical structure of a polyimide film, and also to provide a method of manufacturing the tape.例文帳に追加

ポリイミドフィルムにおける化学構造の選択の幅を広げ、導電層にパターニングを行った際の、反りの指標の一つとなる導電層フルエッチング時のそりやカールを低減させることができるフィルムキャリアテープおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of measuring non-labeledly an interaction between the biomaterial and a sugar chain concurrently and all-inclusively at real time, using a micro amount of the biomaterial, and of screening and patterning the biomaterial, from the view point of specificity to the sugar chain.例文帳に追加

微量の生体関連物質を用いて、生体関連物質と、糖鎖との相互作用を同時に非標識で、網羅的にリアルタイムで測定し、糖鎖に対する特異性の観点から生体関連物質をスクリーニングする方法やパターニングをする方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for fixing a particulate substance such as a cell to a line-like pattern by patterning a membrane containing a functional substance having affinity for the particulate substance onto the surface of a solid phase carrier and making the particulate substance absorbed on the surface of solid phase carrier.例文帳に追加

まず粒子状物質に親和性を有する機能性物質を含む膜を固相担体表面にパターニングし、これに粒子状物質を吸着させることによって、細胞等の粒子状物質をライン状のパターンに固定化する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an organic electroluminescence display device for improving the characteristics of an element by patterning a multilayer organic film by a heat transfer system, optimizing thickness for each of R, G, and B pixels, and using a B emission layer as a common layer, and to provide a method for manufacturing the organic electroluminescence display device.例文帳に追加

多層の有機膜を熱転写方式によりパターニングし、Ｒ、Ｇ、Ｂ画素ごとに厚さを最適化させ、Ｂ発光層を共通層として用い、素子の特性を向上させられる有機電界発光表示装置及びその製造方法に関する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method with a high yield suppressing a defect at a multi-layered connection position in manufacturing a multi-layer POP structure semiconductor device by multi-layering the semiconductor device in the state of a multiple patterning wiring substrate package, and thereafter cutting it by collective cutting.例文帳に追加

多数個取り配線基板実装パッケージの状態で多層化し、その後、一括切断による個片化をおこなって多層ＰＯＰ構造半導体装置を製造するとき、多層化接続個所での欠陥を抑止した、高歩留りでの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an organic EL element of a simple manufacturing process and high productivity of zoning pixel electrodes formed in patterning on a substrate by a liquid-repellent layer formed by a stable liquid-repellent layer forming method, and forming a stable pixel in each zone with the use of a droplet discharge method, as well as an organic EL element and a device using the organic EL element.例文帳に追加

製造工程が簡便で、生産性が高く、安定した撥液層形成方法を用いて形成した撥液層により、基板上にパターン化されて形成された画素電極を区画し、各区画内に液滴吐出法を使用し、安定した画素を形成する有機ＥＬ素子の製造方法、有機ＥＬ素子及び有機ＥＬ素子を使用した装置の提供。 - 特許庁

To provide a metal patterning method performing exposure, development and etching of a circuit pattern after a photocrosslinking resin layer is formed on a substrate and subjected to thinning with an organic alkaline aqueous solution which allows for uniform thinning even of a photocrosslinking resin layer where the photocrosslinking resin has a composition less susceptible to swelling with high productivity, and in-plane uniform and fine metal patterning.例文帳に追加

本発明は、基板上の光架橋性樹脂層を形成した後、有機アルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像、エッチング処理を行う金属パターンの作製方法において、光架橋性樹脂が現像液に対して膨潤しにくい組成の樹脂であっても光架橋性樹脂層をむらなく略均一に生産性良く薄膜化することができ、面内均一で微細な金属パターンの作製方法を提供するものである。 - 特許庁

The method for manufacturing a substrate for a display panel is provided with a film forming step to form an organic insulating film on a light transmitting substrate and a patterning step to pattern the organic insulating film so as to form first openings and second openings smaller than the first openings penetrating the organic insulating film.例文帳に追加

表示パネル用基板製造方法は光透過性基板上に有機絶縁膜を形成する成膜工程と、第１開口および第１開口よりも小さい第２開口が有機絶縁膜を貫通して形成されるように有機絶縁膜をパターニングするパターニング工程とを備える。 - 特許庁

Disclosed is the manufacturing method in which a translucent film and a light shielding film, and an intermediate film stopping etching using chlorine system upon occasion are provided, and chlorine-based gas and fluorine-based gas are used in combination as dry etching gas to carry out patterning in sequence without damaging a lower layer.例文帳に追加

透明基板上に、半透過膜と遮光膜と、必要に応じて塩素系ガスのエッチングを停止する中間膜とを設け、ドライエッチングガスとして塩素系ガスとフッ素系ガスを交互に組み合わせて、順次、下層に損傷を与えないようにパターン化していく製造方法を特徴とする。 - 特許庁

The method for patterning the organic thin-film that includes a step for forming the organic thin film on a substrate, a step for selectively printing a masking material on a part of the organic thin film, a step for dry-etching a portion exposed out of the organic thin film, and a step for removing the masking material.例文帳に追加

基板上に有機薄膜を形成するステップ、有機薄膜の一部分上にマスク物質を選択的にプリンティングするステップ、有機薄膜のうち露出された部分をドライエッチングするステップ、及びマスク物質を除去するステップを含む有機薄膜のパターニング方法である。 - 特許庁

The manufacturing method of the RF power detecting device comprises a step of forming the sensor section for detecting power of the RF signal in the lower substrate; a step of patterning the signal transmission line on the upper substrate; and a step of bonding the upper substrate and lower substrate to each other.例文帳に追加

本発明によるＲＦパワー検出装置の製造方法は、下部基板にＲＦ信号パワーを検出するためのセンサ部を形成する段階と、上部基板に信号伝送線をパターニングする段階と、前記上部基板と下部基板とを結合する段階とを含む。 - 特許庁

A positioning method includes a step of executing part of a positioning procedure on a part of a substrate or on a part of a patterning device by using part of a positioning mechanism in a lithography device until the substrate or part of a lithography device or a part in the lithography device is thermally stabilized within a certain limit.例文帳に追加

この方法は、基板、又は、リソグラフィ装置の若しくはリソグラフィ装置内の部分がある限度内で熱的に安定化するまで、リソグラフィ装置の位置合わせ機構の部分を用いて基板の部分又はパターニングデバイスの部分の上で位置合わせ手順の部分を実行するステップを含む。 - 特許庁

To provide a photosensitive inorganic paste composition capable of improving pattern accuracy to such a degree that it can be adapted to fine patterning required by a plasma display; a sheetlike unfired body for production of a plasma display front panel using the same; and a method for producing a plasma display front panel.例文帳に追加

プラズマディスプレイの要求する微細パターニングに十分に適合できる程度にまでパターン精度を向上させることのできる感光性無機ペースト組成物、これを用いたプラズマディスプレイ前面板製造用シート状未焼成体、および、プラズマディスプレイ前面板の製造方法を提供する。 - 特許庁

For the surface patterning method of etching the surface of a silicon substrate 1 by using a hard mask 3A, the hard mask 3A is provided with an uneven pattern 3b of depth t1 shallower than the film thickness (t) of the hard mask 3A together with an opening pattern 3a facing the etched part of the silicon substrate 1.例文帳に追加

ハードマスク３Ａを用いてシリコン基板１の表面をエッチング加工する表面パターニング方法であって、ハードマスク３Ａには、シリコン基板１のエッチング部分に臨む開口パターン３ａと共に、このハードマスク３Ａの膜厚ｔよりも浅い深さｔ１の凹凸パターン３ｂが設けられている。 - 特許庁

To provide a substrate for an organic EL element and its manufacturing method capable of patterning a light-emitting layer, or the like, without damaging hole transport properties, or the like, in the case of a layer for formation of a lyophilic region or a liquid-repellent region having such properties.例文帳に追加

本発明は、親液性領域および撥液性領域を形成するための層が正孔輸送性等を有する場合にその正孔輸送性等を損なうことなく、発光層等をパターニングすることが可能な有機ＥＬ素子用基板およびその製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

A metal film 76 on a gate made of Au is formed at the opening of the mask 78 by the lift-off method, a WSi film 71a is subjected to patterning with the metal film 76 on the gate as a mask, and a gate electrode 71 made of WSi is formed right above the p-type region 90.例文帳に追加

マスク７８の開口部に、リフトオフ法によりＡｕからなるゲート上金属膜７６を形成し、ゲート上金属膜７６をマスクとしてＷＳｉ膜７１ａをパターニングして、ｐ型領域９０の直上にＷＳｉからなるゲート電極７１を形成する。 - 特許庁

To provide a carbon nanotube and a method of manufacturing the same by which a carbon nanotube forming region and a non-forming region are formed on the same substrate without patterning a non-catalytic metal or the like on the substrate and the ratio of the carbon nanotube forming region occupying in the total area of the substrate is controlled.例文帳に追加

非触媒金属等を基板上にパターニングせずに、同一基板上にカーボンナノチューブ生成領域と非生成領域とを形成でき、基板の総面積に占めるカーボンナノチューブ生成領域の割合を調整することができるカーボンナノチューブ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a light shielding dispersion liquid, for forming a photosensitive resin composition for a black resist capable of preventing an adhesiveness to a substrate from getting worse caused by defective patterning and a sealability or the like from being deteriorated, when forming a light shielding film, and capable of obtaining a uniform shielding degree.例文帳に追加

遮光膜を形成した際、パターニング不良による基板との密着性の低下やシール性劣化等を引き起こすことがなく、また、均一な遮光度が得られるブラックレジスト用感光性樹脂組成物を形成することができるような、遮光性分散液の製造方法を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method of the wiring board comprises the steps of forming a wiring pattern 20 by patterning a conductive layer 12 formed on the surface of a base board 10, and forming holes 30 in the base board 10 by etching the portions exposed from the wiring pattern 20 on the surface of the base board 10.例文帳に追加

配線基板の製造方法は、ベース基板１０の表面に形成された導電層１２をパターニングして配線パターン２０を形成すること、及び、ベース基板１０の表面における配線パターン２０からの露出部をエッチングしてベース基板１０に穴３０を形成することを含む。 - 特許庁

The method includes a step of preparing a photomask blank having a light shielding film 15 on a transparent substrate 14, a step of forming a first resist pattern by drawing and developing a resist film formed on the light shielding film, and a step of performing first patterning by etching the light shielding film with the first resist pattern as a mask.例文帳に追加

透明基板１４上に遮光膜１５を有するフォトマスクブランクを準備する工程と、遮光膜上に形成したレジスト膜を描画、現像して第１レジストパターンを形成する工程と、第１レジストパターンをマスクとして遮光膜をエッチングして第１のパターニングを行う。 - 特許庁

The method of manufacturing a photoelectric conversion device further includes a step for forming a removal part 8 by removing a portion of the membrane 3a and then patterning the membrane 3a, and a step for forming a light absorption layer 3 equipped with the removal part 8 by calcining the membrane 3a thus patterned.例文帳に追加

さらに、この光電変換装置の製造方法では、皮膜３ａの一部を除去して除去部８を形成し、皮膜３ａをパターニングする工程と、パターニングした皮膜３ａを焼成して、除去部８を備えた光吸収層３を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

To provide a method for patterning carbon nanotube able to pattern it with an optional size which is from submicron to a few mm for a large area or a curved face, furthermore being unnecessary for troublesome etching or a negative plate, superior in wear resistance with noncontacting type and being advantageous for industrial mass production.例文帳に追加

大面積や曲面などに対してもサブミクロから数ミリまでの任意の大きさのパターニングが可能であり、しかも面倒なエッチング処理や原版を必要とせず、非接触方式で耐摩耗性に優れ、大量生産に適した工業的に有利なカーボンナノチューブのパターニング方法を提供する - 特許庁

A system and method for patterning a master disk or "stamper" to be used for nanoimprinting magnetic recording disks uses an air-bearing slider 30 that supports an aperture structure 50 within the optical near-field of a resist layer 11 on a rotating master disk substrate 10.例文帳に追加

磁気記録ディスクをナノインプリントするために用いられるマスタ・ディスクすなわちスタンパをパターン化するためのシステム及び方法において、回転するマスタ・ディスク基板１０上のレジスト層１１の光近接領域内に開口構造５０を支持する空気軸受けスライダー３０が用いられる。 - 特許庁

In the patterning method of a substrate for the display element having a gas barrier layer formed of at least one organic region and at least one inorganic region, wet etching is carried out, and for the etching, etching liquid of weak acid or weak base is used.例文帳に追加

少なくとも１つの有機領域と、少なくとも１つの無機領域とからなるガスバリア層を有する表示素子用基板のパターニング方法であって、ウェットエッチングを行い、かつ、該エッチングに、弱酸または弱塩基のエッチング液を用いることを特徴とする表示素子用基板のパターニング方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printed wiring board, wherein, in a board for multiple patterning of a printed wiring board, an alignment mark prepared on each printed wiring board is recognized by using a recognition camera to adjust a processing position in units of printed wiring boards.例文帳に追加

プリント配線板の製造方法は、プリント配線板の多数個取り用の基板で、各プリント配線板にそれぞれに設けられたアライメントマークを認識用カメラで認識して各プリント配線板単位で加工位置の調整をそれぞれ行うプリント配線板の製造方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic electroluminescent panel capable of forming a film patterning in such a way that a passivation layer covers an organic electroluminescece layer avoiding an electrode connection part on an organic electroluminescent substrate without degradation of original performance of the passivation layer, and to provide a mask used for the same.例文帳に追加

パッシベーション層本来の性能を低下させることなく、有機エレクトロルミネッセンス基板上の電極接続部にのみパッシベーション層が被覆しないようにパターニング成膜することのできる有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法とそれに用いるマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a substrate adaptable to a fine patterning, a mask blank and a transfer mask at a high yield, by detecting an internal defect (an optically non-uniform part) of a substrate for a mask blank at low maintenance cost and at a low inspection cost using an inspection device manufactured at low cost.例文帳に追加

低コストで製造可能な検査装置を用いて、低メンテナンスコスト及び低検査コストで、マスクブランク用基板の内部欠陥（光学的不均一部分)を検出して、微細なパターニングに適応した基板、マスクブランク及び転写用マスクを高い歩留まりで製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive film and a manufacturing method thereof capable of significantly improving insulation property, having high permeability and low-resistance, improving endurance and flexibility and allowing easy patterning, as well as a touch panel having an improved writing endurance and flexibility and a solar cell having improved conversion efficiency.例文帳に追加

絶縁性が著しく改善でき、高透過性、低抵抗であり、耐久性及び可撓性が向上し、簡易にパターニングが可能な導電膜及び導電膜の製造方法、並びに筆圧耐久性及び可撓性が向上したタッチパネル、及び変換効率が向上した太陽電池の提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which dispenses with a patterning process of a lanthanum oxide film, relating to the semiconductor device in which a high-K gate insulating film is constituted by laminating a high-K dielectric film and a lanthanum oxide film, in an n-channel MOS transistor.例文帳に追加

ｎチャネルＭＯＳトランジスタにおいてｈｉｇｈ−Ｋゲート絶縁膜をｈｉｇｈ−Ｋ誘電体膜と酸化ランタン膜の積層により構成した半導体装置において、酸化ランタン膜のパターニングプロセスを不要とする半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for patterning in microfabrication of a thin film formed of zinc oxide crystal without generating significant deterioration of conductive characteristics and visible light permeability by suppressing resolution of the thin film formed of the zinc oxide crystal in any process of development and photoresist peeling.例文帳に追加

酸化亜鉛系結晶からなる薄膜の微細加工において、現像及びホトレジスト剥離のいずれの処理においても酸化亜鉛系結晶からなる薄膜の溶解を抑制し、導電特性及び可視光透過性の大幅な劣化を生ずることなくパターニング可能な方法の提供すること。 - 特許庁

To provide an excellent actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition suppressing development defect even in patterning by ordinary light exposure and immersion exposure, having a wide exposure latitude and suppressing line edge roughness, and a pattern-forming method to use the composition.例文帳に追加

通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスを抑制できる、優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁