「patterning method」に関連した英語例文の一覧と使い方(32ページ目) - Weblio英語例文検索

The manufacturing method of the lower panel for the plasma display panel includes a process for preparing a base substrate, a process for forming a material layer for a barrier rib on the base substrate, a process for forming the barrier rib pattern by irradiating the X-ray on the material layer for the barrier rib, a process for developing and patterning the material layer for the barrier rib.例文帳に追加

基底基板を準備する工程と、基底基板上に隔壁用素材層を形成する工程と、隔壁用素材層上にＸ線を照射することによって隔壁パターンを形成する工程と、隔壁用素材層を現像してパターン化する工程と、を含むことを特徴とする、プラズマディスプレイパネル用下部パネルの製造方法が提供される。 - 特許庁

To provide an effective manufacturing method of a highly efficient semiconductor device which can use even ArF (argon fluoride) excimer laser light as exposure light in patterning, can control the thickening amount of a resist pattern to be fixed even if conditions such as temperature and atmosphere change, and has a fine wiring pattern or the like beyond exposure limit in a light source of an exposure device.例文帳に追加

パターニング時に露光光としてＡｒＦ（フッ化アルゴン）エキシマレーザー光をも利用可能であり、レジストパターンの厚肉化量を温度、雰囲気等の条件が変化しても一定にコントロールすることができ、露光装置の光源における露光限界を超えて微細な配線パターン等を有する高性能な半導体装置の効率的な製法方法の提供。 - 特許庁

In a producing method of a magnetic head by forming an element part having prescribed characteristics through a deposition process of depositing on the surface of the substrate 10 and an etching process of patterning the film formed by the deposition process, the circumference of a region, where each element part on the substrate 10 is formed, is surrounded by an electrically conductive film and worked.例文帳に追加

基板１０の表面に成膜する成膜工程と、成膜工程によって形成された膜をパターンニングするエッチング工程を経て所要の特性を有する素子部を形成する磁気ヘッドの製造方法において、前記基板１０上の各々の素子部が形成される領域の周囲を導体膜で包囲して加工する。 - 特許庁

This pattern forming method includes a process wherein an electron beam emission element 10 having at least one pyramid part 18 whose surface is made of diamond is prepared; a process wherein an electron beam 19 is emitted from the pyramid part 18 to expose an electron beam sensitive resist layer 22 by applying a voltage; and a process wherein a portion of the resist layer 22 is removed to execute patterning.例文帳に追加

表面がダイヤモンドからなる少なくとも一つの錐体部１８を有する電子線放出素子１０を用意する工程と、電圧を印加して錐体部１８から電子線１９を放出させて、電子線感応性のレジスト層２２を暴露する工程と、レジスト層２２の一部を除去してパターニングする工程と、を含む。 - 特許庁

The color filter 10 comprising patterning a hydrophobic black matrix 13 on a light transmissive and hydrophilic glass substrate 11, coating and forming a plurality of colored pixels 14 respectively transmitting visible light of a plurality of colors in the apertures of the black matrix 13, and forming thick film parts and thin film parts within the same colored pixels 14, and the method for manufacturing the same are provided.例文帳に追加

光透過性で親水性のガラス基板１１の上に疎水性のブラックマトリクス１３をパターニングし、該ブラックマトリクス１３の開孔に異なる色の可視光をそれぞれ透過する複数の着色画素１４を塗工形成し、同一の着色画素１４内に厚膜部と薄膜部とを形成してなるカラーフィルタ１０およびその製造方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an array substrate comprising the steps of simultaneously patterning a three-layer metal film (Mo/Al/Mo) and multilayer nonmetallic film (SiNx/aSi:H/n+-type a-Si:H), by using one mask pattern capable of forming a stepwise cut of a film covering the multilayer film pattern and sufficiently preventing a fault due to the cut.例文帳に追加

一つのマスクパターンを用いて、三層金属膜（Mo／Al／Mo）及び多層非金属膜（ＳｉＮｘ／ａ-Ｓｉ:Ｈ／ｎ^+ａ-Ｓｉ:Ｈ）を一括してパターニングする工程を含むアレイ基板の製造方法において、多層膜パターンを覆う膜についての段切れの形成、及びこれに起因する不良の発生を充分に防止することができるものを提供する。 - 特許庁

To provide an improved plasmon element itself important for assisting and supporting various application techniques and utilization techniques and a relatively simple method of high capacity for manufacturing the same, especially to provide a composite film capable of patterning a surface plasmon intensifying field in high density and having the surface plasmon intensifying field low in cost.例文帳に追加

各種応用技術、利用技術の発展を援助し、支えるのに重要な改良されたプラズモン素子自体、及びそのための、比較的簡単で高性能な製造法を提供することを目的とするものであり、特に、表面プラズモン増強場を高密度にパターニングでき、かつ低コストな表面プラズモン増強場を有する複合膜を提供すること。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes the processes of: preparing the semiconductor wafer; forming an etching groove by patterning the compound semiconductor epitaxial layer using an etching mask; and bonding the compound semiconductor epitaxial film, obtained by etching the peeling layer and peeling the compound semiconductor epitaxial layer, onto the substrate.例文帳に追加

また、半導体装置の製造方法は、前記半導体ウェハを用意する工程と、エッチングマスクにより、化合物半導体エピタキシャル層をパターニングし、エッチング溝を形成する工程と、剥離層をエッチングし、化合物半導体エピタキシャル層を剥離することによって得られた化合物半導体エピタキシャルフィルムを基板上にボンディングする工程とを有するものである。 - 特許庁

The method of manufacturing the laminated inductor having a cavity between conductor patterns includes steps of patterning a ceramic green sheet having at least a conductive material, an insulator material and a vanishing material so that one or more surfaces of a conductor pattern made of the conductive material are brought into contact with the insulator material, laminating, pressing and vanishing the ceramic green sheet.例文帳に追加

少なくとも、導電材料、絶縁体材料、消失材料を有するセラミックグリーンシートを、導電材料からなる導体パターンの１面以上が絶縁体材料と接するようにパターンニングして積層、プレス、消失処理することを特徴とする、導体パターン間に空洞部を有する積層型インダクタの製造方法。 - 特許庁

To obtain an artificial marble product exhibiting rugged patterns of relief patterns and having excellent design value, designability and sophisticated feeling by a method in which a molded article is obtained by adding and mixing patterning materials having higher hardness than that of the compound into the material for forming the artificial marble, and the hardened portion of the matrix compound on the surface of the molded article is scraped out.例文帳に追加

人造大理石成形用材料にそのコンパウンドよりも硬度の高い柄材を添加配合して成形品を得て、成形品の表面のマトリックスコンパウンドの硬化物部分を掻き取るという方法により、浮作り模様の凹凸模様を表現し、意匠性やデザイン性の高い高級感のある人造大理石製品を得る。 - 特許庁

The method of patterning the conductive tin oxide film using a solution containing a tin compound and a dopant compound soluble in an organic solvent, dissolved in the organic solvent comprises drying a dry film within the range of retaining solubility in a developer, exposing it to a light containing a ultraviolet region to make it insoluble in part and etching a non- exposed portion with the developer.例文帳に追加

有機溶媒に可溶なスズ化合物とドーパント化合物を該有機溶媒に溶解した溶液を用い、該乾燥膜が現像液に対する溶解性を保持する範囲内で乾燥して、紫外領域を含む光により露光することで部分的に不溶にし、現像液で未露光部をエッチングすることを特徴とする導電性酸化スズ膜のパターニング方法。 - 特許庁

To provide an inorganic powder-containing resin composition capable of forming a black matrix with good sensitivity, a transfer film having an inorganic powder-containing resin layer comprising the inorganic powder-containing resin composition, and a method for manufacturing a flat panel display capable of forming a black matrix which is flat and smooth, has no warpage, and has good patterning performance.例文帳に追加

感度の良好なブラックマトリクスを形成することのできる無機粉体含有樹脂組成物、該無機粉体含有樹脂組成物からなる無機粉体含有樹脂層を有する転写フィルムならびに平滑で反りのない、パターニング性能の良好なブラックマトリクスを形成することのできるフラットパネルディスプレイの製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device includes a process of forming an amorphous silicon layer 13 on a substrate such as a plastic substrate 11, a process of patterning the amorphous silicon layer 13 and forming a prescribed pattern to be a thin film transistor, and a process of crystallizing the patterned amorphous silicon layer 13 thereafter, and the semiconductor device provided with the thin film transistor is manufactured.例文帳に追加

プラスチック基板１１等の基板上にアモルファスシリコン層１３を形成する工程と、アモルファスシリコン層１３をパターニングして、薄膜トランジスタとなる所定のパターンを形成する工程と、その後、パターニングされたアモルファスシリコン層１３を結晶化する工程とを有して、薄膜トランジスタを有する半導体装置を製造する。 - 特許庁

The method includes, after patterning the substrate to form at least one structure extending from the substrate in a direction substantially perpendicular to the plane of a major surface of the substrate, forming locally modified regions 6 at locations in the substrate which are not covered by the at least one structure, thus locally increasing etching resistance of these regions 6.例文帳に追加

基板をパターニングし、基板の第１主表面の平面に実質的に垂直な方向に、基板から延びた、少なくとも１つの構造を形成した後に、少なくとも１つの構造により覆われていない基板の位置に、部分的に変更された領域６を形成し、それらの領域６のエッチング抵抗を部分的に増加させる工程とを含む。 - 特許庁

In this patterning method, a donor substrate in which a photothermal conversion layer and a transfer material are formed and a device substrate are disposed face to face to transfer the transfer material to the device substrate by irradiating light to the photothermal conversion layer, and intensity of light irradiated in an irradiated region is unsymmetrically changed with the passage of time.例文帳に追加

基板上に光熱変換層と転写材料が形成されたドナー基板をデバイス基板と対向配置し、光を光熱変換層に照射することで転写材料をデバイス基板に転写するパターニング方法であって、照射領域において照射される光の強度を経時的に非対称に変化させることを特徴とするパターニング方法。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device capable of improving brightness of display while improving adhesion between an organic transparent insulation film and an electrode formed on it, suppressing reduction in transmissivity of the organic transparent insulation film in the position wherein there is no electrode, and preventing patterning defective of the electrode, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

有機系透明絶縁膜とその上に形成される電極との密着性を改善すると同時に、前記電極が存在していない箇所における前記有機系透明絶縁膜の透過率の低下を抑制し、もって前記電極のパターン化不良を防止しながら表示の明るさを向上できる液晶表示装置とその製造方法を提供する。 - 特許庁

This method of manufacturing display device includes a step of patterning a resist layer 2 having a thickness excluding the thickness of the thickest resist film of a plurality of resist films having different film thicknesses in an area 13 other than a display area in a photoengraving process in which the plurality of resist films are provided for forming the pattern of the display device on the surface of a substrate 5.例文帳に追加

基板５表面上に表示装置のパターンを形成するために、複数のレジスト膜厚を設ける写真製版工程において、表示領域以外の領域１３に、前記複数のレジスト膜厚のうち、最も厚いレジスト以外の厚さを有するレジスト層２をパターン形成する工程を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 特許庁

The method includes: forming an opening portion in a first film; forming a phase-change substance on the first film and inside the opening portion; heating the phase-change substance at a first temperature at which the phase-change substance is reflowed into the opening portion; and patterning the phase-change substance after heating to define a phase-change element inside the first opening portion.例文帳に追加

この方法は、第１膜内に開口部を形成すること、第１膜上及び開口部内に相変化物質を形成すること、相変化物質が開口部内にリフローされる第１温度で相変化物質を加熱すること、及び相変化物質を加熱した後に相変化物質をパターニングして、第１開口部内に相変化要素を定義することを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes steps of: (a) forming a resin layer 20 on a semiconductor substrate 10 with an integrated circuit 12 by patterning; (b) curing the resin layer 20; (c) forming a resist layer 24 in a manner to cover the resin layer 20; and (d) dry-etching the resist layer 24 and the resin layer 20 until the resin layer 20 is exposed.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、（ａ）集積回路１２が形成された半導体基板１０に、樹脂層２０をパターニングして設けること、（ｂ）樹脂層２０を硬化させること、（ｃ）レジスト層２４を、樹脂層２０を覆うように設けること、（ｄ）レジスト層２４及び樹脂層２０を、樹脂層２０が露出するまでドライエッチングすること、を含む。 - 特許庁

To provide a method for removing a silicon-containing two-layer resist comprising a first resist layer containing an organic high molecular compound and a photosensitive silicon-containing second resist layer for reworking after the patterning of the second resist layer while suppressing the occurrence of defects on a wafer in removal in a process for producing a device using the two-layer resist on a substrate.例文帳に追加

基板上に有機高分子化合物を含む第１レジスト層と感光性シリコン含有第２レジスト層からなるシリコン含有２層レジストを用いるデバイス製造工程において、第２レジスト層をパターニングした後で、リワーク等のために、レジスト剥離時のウェハ上の欠陥の発生を著しく低減しつつ、上記２層レジストを剥離する方法を提供する。 - 特許庁

A method of manufacturing the semiconductor device comprises processes of forming a resin layer 4a, getting round the electrodes, patterning the conductive layer 5 on the electrodes and on the resin layer 4a in correspondence with the projections 4, and forming the projections 4 by removing the resin layer 4a located between the conductive layers 5, with the patterned conductive layer 5 as a mask.例文帳に追加

半導体装置１に電極を避けて樹脂の層４ａを形成する工程と、電極上及び樹脂の層４ａ上に導電層５を突起体４に応じてパターニングする工程と、パターニングされた導電層５をマスクとし、導電層５の間に位置する樹脂の層４ａを除去して突起体４を形成する工程とを有する。 - 特許庁

The micro movable element manufacturing method includes a step of forming the movable part 10, the frame 20 and the connecting part 40 on a material substrate, and a step of sticking a film material to the surface of the material substrate during the forming step and patterning the film material to form the support structure member 71 for bridging the movable part 10 and the frame 20.例文帳に追加

本発明は、材料基板に可動部１０、フレーム２０、および連結部４０を作り込む成形工程と、成形工程の途中において、材料基板の表面にフィルム材料を貼り合せ、当該フィルム材料をパターニングすることにより、可動部１０およびフレーム２０を架橋するためのサポート構造体７１を形成する工程とを含む。 - 特許庁

In addition, by providing a method of manufacturing a flat panel display through the steps of patterning a gate electrode, a source/drain electrode and a pixel electrode by using the etching liquid composition, the step can be further simplified, thus making it possible to reduce a production cost and improve productivity.例文帳に追加

また、前記エッチング液組成物を利用して、互いに異なる導電物質からなるゲート電極、ソース／ドレイン電極及び画素電極をパターニングする工程を行ってフラットパネルディスプレイを製造する方法を提供することによって、工程をさらに単純化させることができ、生産費用の低減と生産性の向上を期待することができる。 - 特許庁

In a semiconductor manufacturing method that comprises forming an inorganic film on the surface of a semiconductor element, applying a heat resistant polymer protection film on the inorganic film, patterning the protection film, and then performing the dry-etching of the exposed inorganic film; the dry-etching is performed by mixed gas consisting of fluorinated methane and oxygen or hydrogen.例文帳に追加

半導体素子上に無機膜が施され、該無機膜上に耐熱性高分子保護膜が施され、該耐熱性高分子保護膜がパターン加工された後露出された該無機膜をドライエッチングする製造方法において、フッ素化メタンと酸素もしくは水素とからなる混合ガスによりドライエッチング処理を行う半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

To provide a vertical sealing device in which precise patterning is executed by solving bending phenomenon of a substrate generated in the horizontal sealing device at sealing and difficulty or the like in handling when applied to a large-sized substrate, and which can be manufactured even in the atmosphere, and to provide a method of manufacturing an organic electroluminescent display device using the same.例文帳に追加

本発明は、水平封止装置で発生した封止時基板の撓み現象及び大型化された基板に適用時取扱上の難しさ等を解決して精密パターンを遂行することができて、大気中でも製作可能な垂直形封止装置及びそれによる有機電界発光表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a rubber blanket for fine line patterning capable of printing a target pattern by a surface rubber of the rubber blanket having surface roughness within a prescribed range with respect to surface roughness of a surface of a printing body, and a method for manufacturing the rubber blanket having prescribed surface roughness.例文帳に追加

この発明は、細線パターニング用のゴムブランケットにおいて、ゴムブランケットの表面ゴムの表面粗さが、被印刷体の表面の表面粗さに対して所定の範囲にあることにより目的とするパターンの印刷が出来ることを見出したものであり、更に所定の表面粗さを持つゴムブランケットを製造する方法を明らかにしたものである。 - 特許庁

The method for forming the element of an RFID tag 10 is provided with a process for patterning multiple parts where affinities with respect to functional liquid differ, and a process for selectively giving functional liquid to a part where affinity with respect to functional liquid is high in the multiple parts on an element forming substrate 11.例文帳に追加

ＲＦＩＤタグ１０などの素子を形成する方法であって、素子形成基板１１上に、機能性液体に対する親和性が互いに異なる複数の部分をパターニングする工程と、前記機能性液体を、前記複数の部分のうち前記機能性液体に対する親和性が高い部分に選択的に付与する工程と、を有する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the microstructure array, a thermoplastic resin material 2 is applied to a substrate 1 in a desired patterning shape corresponding to the arrangement of a desired microstructure array, the patterned thermoplastic material layer 2 is deformed in a discrete state by heat treatment, and a continuous film 3 is formed on the deformed surface of the thermoplastic material layer 2 and the substrate 1.例文帳に追加

マイクロ構造体アレイの作製方法において、基板1上に熱可塑材料層2を所望のマイクロ構造体アレイの配列に応じて所望の形状でパターニングし、離散状態においてパターニングした熱可塑材料層2を熱処理にて変形させ、変形した熱可塑材料層2面及び基板2上に連続膜3を形成する。 - 特許庁

The method for forming the conductive path or the electrode includes steps of ablating a metal fin particle containing layer containing metal fine particles each having a mean particle size of 50 nm or less and in a state that fine particles are isolated by an organic material on a support, patterning the metal fine particle containing layer in a target shape, and then heating to heat and fusion-bond the metal fine particles.例文帳に追加

支持体上に、平均粒径が５０ｎｍ以下の金属微粒子を含有し、微粒子間が有機物により隔離された状態である金属微粒子含有層をアブレーションさせることで目的形状様にパターニングした後、加熱することにより金属微粒子を熱融着させることを特徴とする導電路又は電極の形成方法。 - 特許庁

Patterning is carried out without using a conventional photolithographic method or the like but by focusing a UV laser beam B to a polymer layer 3 for photo-bleaching coated with a low refractive index layer 2 to irradiate the layer while either a substrate 1 side or the laser beam B is relatively moved so as to form a core layer 5 as a light propagation layer and side clad layers 6 to guide the light.例文帳に追加

従来のようなフォトリソグラフィ等を用いないで低屈折率層２で覆われたフォトブリーチング用ポリマ層３に紫外線レーザビームＢを集光、照射しながら基板１側又はレーザビームＢのいずれかを相対的に移動させてパターニングを行ない、光伝搬層となるコア層５及びそれをガイドする側面クラッド層６，６を形成する。 - 特許庁

To provide a polyamide resin for providing a polybenzoxazole resin or a polyimide resin or their copolymer excellent in low stress properties, and to provide a positive photosensitive resin composition which can be subjected to a patterning treatment, a semiconductor device and a display element and to provide a method for manufacturing the semiconductor device and the display element.例文帳に追加

低応力性に優れたポリベンゾオキサゾール樹脂又はポリイミド樹脂又はその共重合樹脂を提供することを目的とするポリアミド樹脂とそれらを用いたパターン加工ができるポジ型感光性樹脂組成物及び半導体装置及び表示素子並びにそれら半導体装置及び表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist underlayer film material for a multilayer resist film used in lithography for forming a resist underlayer film which has very excellent dry etching resistance, highly prevents twisting during substrate etching, and avoids a poisoning problem in forming an upper layer pattern using a chemically amplified resist, a method for forming the resist underlayer film, a patterning method, and a fullerene derivative.例文帳に追加

リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、ドライエッチング耐性に非常に優れ、基板エッチング中のよれの発生を高度に抑制できると共に、化学増幅型レジストを用いた上層パターン形成におけるポイゾニング問題を回避できるレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法、パターン形成方法、及びフラーレン誘導体を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an organic glass film containing a copolymer of a diallyl carbonate compound and an acid-decomposable allyl carbonate compound and/or an acid-decomposable acrylic ester compound (particularly a monomer forming a hydrophilic group by acid decomposition) and a compound which generates an acid under electron beams and to provide a method for producing a patterned film by patterning the organic glass film with electron beams.例文帳に追加

ジアリルカーボネート化合物と、酸で分解するアリルカーボネート化合物又は／及び酸で分解するアクリル酸エステル化合物（特に、酸により分解し親水性基を生じるモノマー）との共重合体、並びに電子線で酸を発生する化合物を含む有機ガラス膜に関し、又その膜の電子ビームによるパターン形成を行い、パターン形成された膜を作製する方法に関する。 - 特許庁

A semiconductor apparatus manufacturing method comprises processes of patterning a bottom electrode 11 on a base film 8; applying the dielectric substance onto the bottom electrode 11 using an ink jet-type application mechanism, forming the dielectric film 12 on the bottom electrode 11 by heating the applied dielectric substance, and forming a top electrode on the dielectric film 12.例文帳に追加

下地膜８上に、パターニングされた下部電極１１を形成する工程と、インクジェット方式の塗布機構を用いて、下部電極１１上に誘電体物質を塗布する工程と、塗布された誘電体物質を加熱することにより、下部電極１１上に誘電体膜１２を形成する工程と、誘電体膜１２上に上部電極を形成する工程とを具備する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist underlayer film of a multilayer resist film having at least three layers used in lithography, wherein the resist underlayer film reduces reflectance, has high etching resistance, high heat, and solvent resistances, and avoids wrinkling on a substrate particularly during the etching of the substrate, and also to provide a patterning process using the same.例文帳に追加

リソグラフィーで用いられる少なくとも３層を有する多層レジスト膜のレジスト下層膜の形成方法であって、反射率を低減でき、エッチング耐性が高く、高い耐熱性、耐溶媒性を有し、特に基板のエッチング中によれの発生がないレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成方法及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the line patterning method, functional liquid X is ejected from positions displaced in the width direction from the center A between banks 34 in the width direction so that the functional liquid X temporarily overflowing from between adjacent banks 34 do not touch each other thus arranging the functional liquid simultaneously between the plurality of banks 34.例文帳に追加

線パターンの形成方法であって、隣合うバンク間３４から一時的に溢れ出した上記機能液Ｘ同士が接触しないように各上記バンク間３４の幅方向の中央Ａに対し当該幅方向に変位した位置を各々のバンク間３４の吐出位置として上記機能液Ｘを吐出することによって複数の上記バンク間３４に同時に機能液を配置する。 - 特許庁

The method comprises the stages of: providing a substrate having semiconductor layer which includes low concentration doping region adjacent to each both sides of channel region, and each source/drain regions adjacent to the low concentration region; and, after forming gate insulating film and conductive film on the substrate in order, forming a gate electrode by patterning the above-mentioned conductive film.例文帳に追加

チャンネル領域両側に各々隣接した低濃度ドーピング領域及び低濃度ドーピング領域に各々隣接したソース/ドレーン領域を含む半導体層が形成されている基板を提供する段階及び基板上にゲート絶縁膜及び導電膜を順に形成した後、前記導電膜をパターニングしてゲート電極を形成する段階を含む薄膜トランジスタの製造方法。 - 特許庁

To provide a new cationic photopolymerizable epoxy resin composition to compatibilize improved patterning characteristics with improved properties such as ink resistance and adhesiveness to a substrate and further provide a fine structure member composed of a cured product of the resin cmoposition and a method for forming the fine structure member.例文帳に追加

パターニング特性のより一層の向上と、耐インク性や基板に対する密着性といった性能の向上と、の両立が可能な新規な光カチオン重合性エポキシ樹脂組成物を提供すること、更には、本発明の他の目的は、上述の樹脂組成物の硬化物からなる微細構造体、およびその製造方法といった関連する諸発明を提供すること。 - 特許庁

The manufacturing method for the contact pin for the electrical test, which is characterized by being made of porus metal, is desired to have metal coating process for providing a metal coating on a substrate, resist layer forming process, patterning process, porus metal filling process, resist layer removing process and porus metal removing process.例文帳に追加

多孔質金属からなることを特徴とする電気テスト用コンタクトピンであり、その製造方法としては、基板上に金属被覆膜を設ける金属被覆工程、レジスト層形成工程、パターニング工程、多孔質金属充填工程、レジスト層除去工程、多孔質金属部分離工程を有することを特徴とする電気テスト用コンタクトピンの製造方法が好ましい。 - 特許庁

The method includes steps of depositing a hard mask on a substrate in a first processing chamber, depositing a resist layer on the substrate, patterning the resist layer, etching the hard mask through apertures formed in the patterned resist layer in a second chamber, and etching a chromium layer through apertures formed in the hard mask in a third chamber.例文帳に追加

また、第１の処理チャンバにおいて基板上にハードマスクを堆積するステップと、レジスト層を該基板上に堆積するステップと、該レジスト層をパターニングするステップと、第２のチャンバにおいて該パターニング済みレジスト層上に形成されたアパーチャを介して該ハードマスクをエッチングするステップと、第３のチャンバにおいて該ハードマスクに形成されたアパーチャを介してクロム層をエッチングするステップと、を含んでいる。 - 特許庁

The method for manufacturing the ZnO nanowire by using ultrasonic energy comprises: a first step of forming a Zn layer on the surface of a substrate; a second step of patterning the Zn layer; and a third step of putting the resulting substrate in a mixed solution of a Zn-containing solution with a Zn ionization solution and forming the ZnO nanowire on the Zn layer by using an ultrasonic generator.例文帳に追加

基板の表面にＺｎ層を形成する第１段階と、Ｚｎ層をパターニングする第２段階と、基板をＺｎを含む溶液とＺｎをイオン化する溶液との混合溶液に入れ、超音波発生器を使用し、Ｚｎ層上にＺｎＯナノワイヤを形成する第３段階とを含むことを特徴とする超音波エネルギーを利用したＺｎＯナノワイヤの製造方法である。 - 特許庁

The method comprises the steps of providing a mold plate, patterning a set of rings arrayed across the mold plate, opening spaces between the rings so that the rings become an in-situ mask on the mold plate, directing an optical polymer into the spaces between the rings, polymerizing the optical polymer to form an array of ring lenses, and transferring the array of ring lenses to a substrate.例文帳に追加

本方法は、型板を設ける工程と、型板に配列されたリングのセットをパターニングする工程と、リング間に、該リングが上記型板上で原位置マスクとなるようにスペースを開ける工程と、上記リング間のスペースにオプティカル・ポリマを向ける工程と、オプティカル・ポリマを重合させてリング・レンズのアレイを形成する工程と、リング・レンズのアレイを基板へ移送する工程とを含む。 - 特許庁

The method includes steps of: providing a substrate; forming a barrier layer on the substrate, patterning the barrier layer, and thus exposing a portion of the substrate to form an electrode pattern region; changing the surface property of the substrate in the electrode pattern region to form a visible patterned mark; removing the barrier layer; and using the visible patterned mark as an alignment mark.例文帳に追加

本発明による方法は、基板を提供する段階と、基板に障壁層を形成し、更に障壁層をパターン化して基板の一部を露出させて電極パターン領域を形成する段階と、電極パターン領域の基板の表面特性を変えて、パターン化可視マークを形成する段階と、障壁層を除去する段階と、パターン化可視マークをアラインメントマークとする段階とを含む。 - 特許庁

The method for preparing metal powder includes the steps of: providing a base substrate 100; forming a pattern layer 110, having a concavo-convex pattern of a predetermined shape, on the base substrate 100; forming a metal film 120a separated from the pattern layer 110 by the concave-convex pattern 111; and separating the metal film 120a from the pattern layer 110, thereby naturally patterning the metal film 120a in the predetermined shape.例文帳に追加

ベース基板１００を用意し、該ベース基板１００上に一定な形状の凹凸パターン１１１のパターン層１１０を形成し、該パターン層１１０上に該凹凸パターン１１１により互いに分離された金属薄膜１２０ａを形成し、該パターン層１１０から該金属薄膜１２０ａを分離することによって自然に該金属薄膜１２０ａを該一定な形状にパターニングする。 - 特許庁

To provide a method for detecting failure of database patterns of a photomask in which different space widths are applied according to critical dimensions of lines of the patterns of the photo mask to detect patterning failure varied according to illuminating systems, sub-films and thicknesses of resist, and to preliminarily detect failure, such as collapse or bridges, generated from the different lengths of pattern lines having the same critical dimension.例文帳に追加

フォトマスクパターンのライン臨界大きさ別に差等的なスペース幅を適用することで、照明系、サブ膜、レジスト厚さなどによって変わるパターニング不良を検査することができ、同一の臨界大きさを有するが、パターンラインの相異なる長さにより発生する崩れまたはブリッジなどの不良を予め検査できるフォトマスクデータベースパターンの不良検査方法を提供する。 - 特許庁