「patterning method」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for patterning in microfabrication of a thin film formed of zinc oxide crystal without generating significant deterioration of conductive characteristics and visible light permeability by suppressing resolution of the thin film formed of the zinc oxide crystal in any process of development and photoresist peeling.例文帳に追加

酸化亜鉛系結晶からなる薄膜の微細加工において、現像及びホトレジスト剥離のいずれの処理においても酸化亜鉛系結晶からなる薄膜の溶解を抑制し、導電特性及び可視光透過性の大幅な劣化を生ずることなくパターニング可能な方法の提供すること。 - 特許庁

To provide an excellent actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition suppressing development defect even in patterning by ordinary light exposure and immersion exposure, having a wide exposure latitude and suppressing line edge roughness, and a pattern-forming method to use the composition.例文帳に追加

通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスを抑制できる、優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a substrate adaptable to a fine patterning, a mask blank and a transfer mask at a high yield, by detecting an internal defect (an optically non-uniform part) of a substrate for a mask blank at low maintenance cost and at a low inspection cost using an inspection device manufactured at low cost.例文帳に追加

低コストで製造可能な検査装置を用いて、低メンテナンスコスト及び低検査コストで、マスクブランク用基板の内部欠陥（光学的不均一部分)を検出して、微細なパターニングに適応した基板、マスクブランク及び転写用マスクを高い歩留まりで製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive film and a manufacturing method thereof capable of significantly improving insulation property, having high permeability and low-resistance, improving endurance and flexibility and allowing easy patterning, as well as a touch panel having an improved writing endurance and flexibility and a solar cell having improved conversion efficiency.例文帳に追加

絶縁性が著しく改善でき、高透過性、低抵抗であり、耐久性及び可撓性が向上し、簡易にパターニングが可能な導電膜及び導電膜の製造方法、並びに筆圧耐久性及び可撓性が向上したタッチパネル、及び変換効率が向上した太陽電池の提供。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display panel and a method for manufacturing the same, of which the manufacturing process is simplified and the manufacturing cost is saved by patterning a flattening layer and spacers of the liquid crystal display panel without conducting a photolithography process.例文帳に追加

本発明の目的は、液晶表示パネルの平坦化層およびスペーサーをフォトリソグラフィー工程を実施することなくパターニングすることにより、製造工程を単純化すると共に製造費用を節減し得る液晶表示パネルおよびその製造方法を提供することである。 - 特許庁

The manufacturing method of a laminated electronic component constituted by the laminate of a ceramic green sheet includes a process of patterning the external terminal electrode on the ceramic green sheet, and laminating and forming the same so as to provide unevenness along a boundary between a ceramic region of an electronic component and an external terminal electrode region .例文帳に追加

セラミックグリーンシートに外部端子電極をパターンニングして、電子部品のセラミック領域と外部端子電極領域との境界に凹凸を設けるように外部端子電極を形成するように積層する工程を含むことを特徴とする積層型電子部品の製造方法。 - 特許庁

A method of manufacturing an array substrate comprises the steps of forming a barrier layer in the lower portion of a source and drain electrodes using material unetched by wet etching liquid for a metal material constituting the source and drain electrodes, and patterning the barrier by anisotropic dry etching, thereby obtaining the desired CDs of a channel portion.例文帳に追加

ソース電極及びドレイン電極の下部に、ソース電極及びドレイン電極を構成する金属物質の湿式エッチング液にエッチングされない物質を利用してバリア層を形成して、バリア層を異方性の乾式エッチングによってパターニングし、望むチャンネル部のＣＤを得る。 - 特許庁

It has least the process, which forms the organic EL layer of at least one-layer which constitutes the EL element by patterning it with the photo lithography method, and the process, which forms the buffer layer which is not eluted in a solvent.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、ＥＬ素子を構成する少なくとも1層の有機ＥＬ層をフォトリソグラフィー法によりパターニングして形成する工程と、溶媒に不溶なバッファー層を形成する工程とを少なくとも有することを特徴とするＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method includes (1) depositing or growing a dielectric material in intrinsic and extrinsic regions of a device, (2) patterning the dielectric material by a dry or wet etching process or a lift-off process, and (3) performing vapor deposition of a field plate on the patterned dielectric material.例文帳に追加

（１）デバイスの真性および外因性領域に誘電性材料を堆積または成長させ、（２）乾式または湿式エッチングプロセス、あるいはリフトオフプロセスで誘電性材料をパターニングし、（３）パターニングされた誘電性材料上にフィールドプレートを蒸着させるステップを包含する方法。 - 特許庁

The method of patterning the converted film comprises a step for laying a pattern mask in the presence of air over the ordinal pressure on a surface of polysilazan applied to a base surface, exposing it to short-wavelength UV rays having wavelengths of 100-280 nm, and dissolving and removing unexposed portions by an developing solution.例文帳に追加

該転化膜をパタ−ン化する方法は、基体面に塗膜されたポリシラザン面に、常圧以上の空気の存在下でパタ−ンマスクを載置し、これに１００〜２８０ｎｍの波長を有する短波長紫外線を露光して後、未露光部分を現像溶剤にて溶解除去すること。 - 特許庁

The method comprises patterning a cell adhesive domain of micro order on a cell unbondable surface, voluntarily aggregated cells on the domain to efficiently form spheroids of a uniform size, and then noninvasively collecting cell spheroids formed under the conditions.例文帳に追加

細胞非接着性の表面上にマイクロオーダーの細胞接着性ドメインをパターニングし、このドメイン上で細胞を自発的に凝集させることでサイズの整ったスフェロイドを効率的に形成せしめた後、条件によって形成した細胞スフェロイドを非侵襲的に回収する手段の提供 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a semiconductor device which can make etching without giving a local damage to a base film, when patterning is made by using multilayer resist as a mask on a semiconductor substrate having a surface step and machining for a gate electrode, a fine wiring and so on are made.例文帳に追加

表面段差を有する半導体基板上において、多層レジストをマスクとしてパターニングを行い、ゲート電極や微細配線等を加工する際に、下地膜に局所的な損傷を与えずに、エッチングを行うことができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing semiconductor devices by patterning a wiring material film (film to be worked) 10 containing metal to be formed on a substrate 1 consists in first forming the resist patterns 13 across an antireflection film 11 consisting of a silicon material on the wiring material film 10.例文帳に追加

基板１上に形成された金属を含有する配線材料膜（被加工膜）１０をパターニングする半導体装置の製造方法であり、先ず、配線材料膜１０上にシリコン系材料からなる反射防止膜１１を介してレジストパターン１３を形成する。 - 特許庁

To provide a cycloolefin laminate wherein a metal part in a side contacting a photo-permeable supporting material can be blackened, an adhesion between a cycloolefin supporter and a patterned metal part can be improved, and the cycloolefin laminate having a low haze can be obtained even when the patterning metal part does not adhere to other base materials, and a method for manufacturing the laminate.例文帳に追加

光透過性支持体と接する側の金属部が黒化でき、シクロオレフィン支持体とパターニングされた金属部との接着性を改善し、かつパターニングされた金属部を他の基材と貼合せずとも、ヘイズの低いシクロオレフィン積層体、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

A method of manufacturing a crystal resonator includes forming metal films and resist films on both sides of a substrate; then patterning the outer form of the crystal resonator, respectively on the resist films on the front and rear sides of the substrate; and thereafter, removing the metal films exposed on both the sides of the substrate by etching, and then etching the crystal substrate.例文帳に追加

水晶振動子の製造方法において、基板の両面に金属膜、レジスト膜を形成した後、基板の表裏面のレジスト膜にそれぞれ水晶振動子の外形形状をパターニングし、その後、基板両面に露出した金属膜をエッチング除去、水晶基板のエッチングを行う。 - 特許庁

A method for patterning metal using nanoparticles containing precursors comprises: providing pre-nucleated metal nanoparticles in a composite; generating a metal atom by reducing a metal ion by exposure to radiation; and reacting the metal atom with the pre-nucleated metal nanoparticle, thereby growing the metal nanoparticles.例文帳に追加

予備核形成した金属ナノ粒子を複合材にして準備し、放射線への露光により金属イオンを還元することのより金属原子を生成し、前記金属原子を前記予備核形成した金属ナノ粒子と反応させ、それにより金属ナノ粒子を成長させる。 - 特許庁

In this non-inductive strain sensor and its measuring method, the strain measurement in the environment wherein the noise is generated under the high magnetic field and the extra-high voltage can be performed by a grid 2 comprising a one-turn coil subjected to patterning so as to be mutually overlapped on the front and back of an insulating substrate 1 in an approximately reverse U-shape.例文帳に追加

略逆Ｕ字状に絶縁基板１の表裏に互に重なる様にパターニングされた１ターンコイルから成るグリッド２によって強電界、強高電圧下でノイズが発生する環境下での歪測定を行なうことが可能な無誘導歪センサ及びその測定方法を得る。 - 特許庁

To provide the forming method of buried wiring wherein the material of an insulating substrate, in which the buried wiring is formed, is not limited so as to be high in thermal resistance and the corrosion resistance of terminal unit of the buried wiring can be improved while being capable of surely effecting the patterning thereof through reduced processes with excellent accuracy of film thickness.例文帳に追加

埋込配線が形成される絶縁性基板の材料が耐熱性の高いものに限定されず、当該埋込配線の端子部の耐食性を向上でき、パターニングが少ない工程で且つ良好な膜厚精度で確実に行われる埋込配線の形成方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a substrate for a display panel is provided with a film forming step to form an organic insulating film on a light transmitting substrate and a patterning step to pattern the organic insulating film so as to form first openings and second openings smaller than the first openings penetrating the organic insulating film.例文帳に追加

表示パネル用基板製造方法は光透過性基板上に有機絶縁膜を形成する成膜工程と、第１開口および第１開口よりも小さい第２開口が有機絶縁膜を貫通して形成されるように有機絶縁膜をパターニングするパターニング工程とを備える。 - 特許庁

Disclosed is the manufacturing method in which a translucent film and a light shielding film, and an intermediate film stopping etching using chlorine system upon occasion are provided, and chlorine-based gas and fluorine-based gas are used in combination as dry etching gas to carry out patterning in sequence without damaging a lower layer.例文帳に追加

透明基板上に、半透過膜と遮光膜と、必要に応じて塩素系ガスのエッチングを停止する中間膜とを設け、ドライエッチングガスとして塩素系ガスとフッ素系ガスを交互に組み合わせて、順次、下層に損傷を与えないようにパターン化していく製造方法を特徴とする。 - 特許庁

The method for patterning the organic thin-film that includes a step for forming the organic thin film on a substrate, a step for selectively printing a masking material on a part of the organic thin film, a step for dry-etching a portion exposed out of the organic thin film, and a step for removing the masking material.例文帳に追加

基板上に有機薄膜を形成するステップ、有機薄膜の一部分上にマスク物質を選択的にプリンティングするステップ、有機薄膜のうち露出された部分をドライエッチングするステップ、及びマスク物質を除去するステップを含む有機薄膜のパターニング方法である。 - 特許庁

A positioning method includes a step of executing part of a positioning procedure on a part of a substrate or on a part of a patterning device by using part of a positioning mechanism in a lithography device until the substrate or part of a lithography device or a part in the lithography device is thermally stabilized within a certain limit.例文帳に追加

この方法は、基板、又は、リソグラフィ装置の若しくはリソグラフィ装置内の部分がある限度内で熱的に安定化するまで、リソグラフィ装置の位置合わせ機構の部分を用いて基板の部分又はパターニングデバイスの部分の上で位置合わせ手順の部分を実行するステップを含む。 - 特許庁

To provide a knitted jacket requiring not so much time for preparation for start of production or change in design, applicable to complicated patterning, highly flexible in design, reducing time and costs required for a cutting process, slightly causing cut loss, and excellent in wearing feeling: and to provide a method for producing the jacket.例文帳に追加

製造開始の準備やデザインの変更にそれほどの時間と労力とを要することがなく、複雑な柄出しが可能でデザイン上の自由度が高く、裁断工程に要する時間とコストを削減することができ、カットロスが少なく、着心地の良いニット上着及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display wherein cost increase generated by patterning can be prevented, disturbance of liquid crystal injection due to presence of a protrusion in a liquid crystal layer can be avoided and reduction of contrast caused by light leakage at the time of black display can be avoided and to provide a manufacturing method of the same.例文帳に追加

パターニングによるコスト高を防止し、液晶層内の突起の存在により、液晶の注入が妨げられるのを回避し、かつ黒表示時に光漏れが発生し、コントラストが低下するのを回避し得る液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A method for producing the artificial marble in which the artificial marble is produced by injecting a material for producing the artificial marble obtained by additionally adding the patterning materials 1 into the matrix compound composed by mixing additives such as fillers and hardeners in a thermosetting resin into a casting mold, shaping and hardening it.例文帳に追加

熱硬化性樹脂に充填剤と硬化剤などの添加物を配合したマトリックスコンパウンドに更に柄材１を添加して得た人造大理石成形用材料を注型用金型に注入して成形硬化させて人造大理石を製造する人造大理石の製造方法である。 - 特許庁

In a method for manufacturing the cement type inorganic material wherein a wet sheet material made from a cement kneaded substance is press-molded, when the patterning of the wet sheet material is press-molded, a pattern forming part is vacuum-sucked and the atmosphere (A) around the wet sheet material is made under a high pressure condition.例文帳に追加

セメント混練物からの湿潤シート材をプレス成形するセメント系無機質材の製造方法において、プレス成形による湿潤シート材の模様付けに際し、模様形成部を減圧吸引するとともに、湿潤シート材の周囲の雰囲気（Ａ）を高気圧状態とする。 - 特許庁

The plasma display is manufactured by the manufacturing method of the plasma display panel in which on a barrier rib material coating film installed on a glass substrate, a glass containing material to form a step forming layer is formed at a position of the vertical barrier rib in a stripe shape, and patterning of the lattice-shaped barrier rib is carried out afterwards.例文帳に追加

ガラス基板上に設けられた隔壁材料塗膜上に、段差形成層となるガラス含有材料を縦隔壁位置にストライプ状に形成し、その後格子状の隔壁をパターニングすることを特徴とする、プラズマディスプレイパネルの製造方法により製造する。 - 特許庁

In this method of correcting a defect part of a barrier rib of a substrate (back plate) for the plasma display panel provided with the barrier rib formed by patterning a barrier rib forming material and baking the same at a predetermined temperature, a barrier rib mending material is packed in the defect part of the barrier, and re-baked again.例文帳に追加

障壁形成用材料をパターンニングし、所定の温度で焼成して障壁を形成したプラズマディスプレイパネル用の基板（背面板）の障壁の欠損箇所を修正する方法であって、障壁の欠損箇所を障壁補修材料で充填し、再度焼成する。 - 特許庁

To provide a chip type organic positive temperature coefficient thermistor element having a structure which does not require any step of patterning metallic foil, forming resist films, and so on, and to which a chip type organic positive temperature coefficient thermistor element manufacturing method by which the waste of materials can be reduced and yield can be improved can be applied.例文帳に追加

金属箔のパターニングやめっきレジスト膜の形成などの工程が不必要であり、材料の無駄が少なく歩留まりがよいチップ型有機正特性サーミスタ素子の製造方法を適用できる構造を有するチップ型有機正特性サーミスタ素子を提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing the polygonal semiconductor ring laser comprises steps of growing an n-type AlGaAs clad layer 11, an active layer region 12, an AlAs-current constriction layer 13, and a p-type AlGaAs clad layer 14 on an n-type GaAs substrate in Fig. (a); and patterning a first resist 1 thereon, in a shape of an optical waveguide.例文帳に追加

（ａ）において、ｎ型ＧａＡｓ基板上に、ｎ型ＡｌＧａＡｓクラッド層１１、活性層領域１２、ＡｌＡｓ電流狭窄層１３と、ｐ型ＡｌＧａＡｓクラッド層１４を成長させ、その上に第一のレジスト１を光導波路の形状にパターニングする。 - 特許庁

A method for manufacturing the semiconductor device includes a step of sequentially forming the polycrystalline silicon film 5, the tungsten silicide film 6 and an insulating film 7 on the gate insulating film 4 of the main surface of a semiconductor substrate 1, a step of patterning them, and a step of forming the gate electrode 8 having the laminated structure of the polycrystalline silicon film 5 and the tungsten silicide film 6.例文帳に追加

半導体基板１の主面のゲート絶縁膜４上に、多結晶シリコン膜５、タングステンシリサイド膜６および絶縁膜７を順に形成し、それらをパターニングして多結晶シリコン膜５およびタングステンシリサイド膜６の積層構造を有するゲート電極８を形成する。 - 特許庁

The method of this invention for manufacturing a display device, in which at least a first electrode film (11), a light emitting film (13) and a second electrode film (14) are formed on a substrate (10), and has a feature of patterning at least any of the films by means of laser etching.例文帳に追加

本発明の表示装置の製造方法は、基板上(10)に少なくとも第１の電極膜(11)、発光膜(13)及び第２の電極膜(14)を形成してなる表示装置の製造方法において、少なくともいずれかの膜をレーザエッチングによってパターニングすることを特徴とする。 - 特許庁

In this production method of the integrated circuit, the step parts in the integrated circuit are reduced by providing a step for sticking a first conductive material layer 14 on a first inductive material layer 12 and a step for forming a first conductive pattern 15 by patterning the first conductive material layer 14.例文帳に追加

第一の導電材料層１４を第一の誘電材料層１２の上に付着するステップと、第一の導電材料層１４をパターン化して第一の導電性パターン１５を形成するステップとを備える、集積回路中の段部を少なくする、集積回路の製造方法である。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL element having an organic layer and a pattern-like insulating layer formed between electrodes, wherein patterning of the insulating layer is easy, and there is no risk of exerting a bad influence on the organic layer when forming the insulating layer.例文帳に追加

電極の間に有機物層とパターン状絶縁層とが形成されている有機ＥＬ素子の製造方法において、絶縁層のパターニングが容易であり、絶縁層を形成する際に有機物層に対する悪影響を与える虞がない有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing a thin film transistor, a thin film having a three-layer (first metal layer 38/ITO layer 40/second metal layer 42) structure is used simultaneously as a source electrode, a drain electrode and a pixel electrode to thereby omit the via forming step and the patterning for forming the pixel electrodes.例文帳に追加

薄膜トランジスターの製造方法において、３層（第１金属層３８/ＩＴＯ層４０/第２金属層４２）構造の薄膜を、ソース電極とドレイン電極、および画素電極として同時に使用することにより、ビアホール形成工程と、画素電極形成のためのパターンニングを省略する。 - 特許庁

The manufacturing method of the RF power detecting device comprises a step of forming the sensor section for detecting power of the RF signal in the lower substrate; a step of patterning the signal transmission line on the upper substrate; and a step of bonding the upper substrate and lower substrate to each other.例文帳に追加

本発明によるＲＦパワー検出装置の製造方法は、下部基板にＲＦ信号パワーを検出するためのセンサ部を形成する段階と、上部基板に信号伝送線をパターニングする段階と、前記上部基板と下部基板とを結合する段階とを含む。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a flexible wiring circuit board of which patterning accuracy is never lowered and which hardly causes pattern defects even if a pattern pitch becomes very small, and which allows the reduction in size of manufacturing facilities relatively easily and can make the lead time relatively short.例文帳に追加

フレキシブル配線回路基板のパターンピッチが非常に小さくなった場合であっても、パターニング精度が低下せず、パターン不良も生じにくく、製造設備の小型化も比較的容易であり、リードタイムを比較的短くすることができる、フレキシブル配線回路基板の製造方法を提供する - 特許庁

The method includes growing a nitride semiconductor layer on a GaN substrate having a non-polar or semi-polar crystal plane, the upper surface of which has a predetermined angle of intersection with respect to the c plane, patterning the nitride semiconductor layer, and forming light emitting cells separated from one another.例文帳に追加

この方法は、上部表面がｃ面に対して一定の交差角をなす非極性または半極性の結晶面を有するＧａＮ基板上に窒化物半導体層を成長させ、前記窒化物半導体層をパターニングし、互いに分離された発光セルを形成することを含む。 - 特許庁

To provide a donor film allowing the patterning of an organic LED layer by a transfer method by preventing a problem that a transfer layer is transferred to a substrate even in a part not irradiated with laser or a part without radiating heat thereof, in a transfer process.例文帳に追加

転写工程において、レーザーを照射していない部分または熱を放射していない部分でも、転写層が基板に転写されてしまうといった問題を防止し、転写法による有機ＬＥＤ層のパターン化が可能となるドナーフィルムを提供することを課題とする。 - 特許庁

The coating method consists of a solid coating process for thinly coating one surface with a paint having a transparent feeling, a patterning process for forcibly spraying a high viscosity paint not diluted with a thinner from a spray gun to apply irregular patterns wherein fine lines and spots are mixed and a finish process for applying a clear paint to bake the same.例文帳に追加

透明感のある塗料を一面に薄く塗るベタ塗り工程と、シンナーで希釈しない高粘度の塗料をスプレーガンから強制的に吹き付けて、細かな線と点が混ざった不規則な模様をのせる模様付け工程と、クリアを塗って焼き付ける仕上げ工程とから成る。 - 特許庁

In the method for patterning, a photo-curable resin 24 is applied on a face of the member 10 to be etched with the hollow 13 on which the dry etching is applied, and a mold 50 having a pattern corresponding to a mask 24a with taper-shaped side face to be formed on the member to be etched is pressed on the photo-curable resin.例文帳に追加

空洞１３を有する被エッチング部材１０のドライエッチングを施す面に光硬化性樹脂２４を付与し、被エッチング部材上に形成すべきテーパー形状の側面を有するマスク２４ａに対応したパターンを有するモールド５０を光硬化性樹脂に押し付ける。 - 特許庁

In the patterning method, a photosensitive heat-resistant resin precursor is applied on a substrate, dried, patternwise exposed, developed, subjected to heat treatment 1 at 50-200°C for a short time within 5 hr after the development and further subjected to heat treatment 2 at 250-450°C.例文帳に追加

感光性耐熱樹脂前駆体を基板上に塗布、乾燥、パターン上に露光、現像した後、現像終了から５時間以内に５０℃〜２００℃で短時間熱処理１を実施した後、さらに２５０℃〜４５０℃で熱処理２を実施することを特徴とする感光性耐熱樹脂前駆体のパターン加工方法。 - 特許庁

To obtain a fading substrate capable of producing inexpensively and stably, by a simple method, a patterning controlled in the nice difference of various functions such as permeability, reflectivity, a hue or the like to a part of the colored metal oxide film formed on the surface of a transparent substrate.例文帳に追加

透明基板表面に形成された着色金属酸化物被膜の一部に、透過率、反射率、色調等の各種機能の微妙な差をコントロールしたパターニングを、簡単な方法で安価に且つ安定して製造が可能な退色基板およびその製造方法に関する。 - 特許庁

Further, the manufacturing method of the photoelectric conversion device according to an embodiment includes: a process where a radiation part 8 is formed by radiating laser light to a part of the light absorption layer 3; and a process where a removal part is formed by removing the radiation part 8 by mechanical processing and patterning is performed on the light absorption layer 3.例文帳に追加

さらに、本実施形態に係る光電変換装置の製造方法は、光吸収層３の一部に、レーザを照射してなる照射部８を形成する工程と、照射部８を機械加工で除去して除去部を形成し、光吸収層３をパターニングする工程とを備えている。 - 特許庁

To provide a multi-layer film pattern which can fully prevent generation of an overhang part which overhangs from an end plane of a multi-layer film pattern, as well as generation of a failure caused by that overhang in the manufacturing method of a multi-layer film including a process of patterning the multi-layer film pattern in batch using one photomask.例文帳に追加

一つのフォトマスクを用いて、多層膜を一括してパターニングする工程を含む、多層膜パターンの製造方法において、多層膜パターンの端面から張り出すひさし部分（オーバーハング部）の生成、及びこれに起因する不良の発生を充分に防止することができるものを提供する。 - 特許庁