「patterning method」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a deposition method and display material in a display material manufacturing process which realize accurate deposition of thin films of different characteristics by patterning on the same substrate and flat and uniform coating of liquid materials.例文帳に追加

特性の異なる薄膜を同一基板上に精度よくパターニング成膜することと、液体材料を平坦かつ均一に塗布させることを可能とする表示体製造プロセスにおける成膜方法および表示体を提供すること。 - 特許庁

To provide an intermediate layer material composition for a three- layer resist process soluble in an organic solvent, excellent in storage stability and free of a problem in trailing shape and line edge roughness in patterning of an upper layer resist and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

有機溶剤に可溶であり、保存安定性に優れ、かつ上層レジストパターニング時に裾引き形状、ラインエッジラフネスに問題のない３層レジストプロセス用中間層材料組成物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for nano imprint excellent in pattern formability and mold releasability, can form a good pattern, and give a pattern after the etching that is small in line edge roughness, and to provide a pattern and a patterning method using this.例文帳に追加

パターン形成性およびモールド剥離性に優れ、良好なパターンが形成でき、かつエッチング後に得られたパターンのラインエッジラフネスが小さいナノインプリント用組成物、これを用いたパターンおよびパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Further, in this patterning method for the insulating layer, by simplifying a conventional usual lithographic process, an etching process and a stripping process, the processes are simplified, process cost is reduced and process time is shortened.例文帳に追加

また、本発明による絶縁層のパターニング方法は、従来の通常的なリソグラフィ工程、エッチング工程及びストリッピング工程を単純化することによって、工程の単純化、工程コストの低減及び時間短縮の効果をもたらす。 - 特許庁

A method of manufacturing the multilayer wiring board has a process of forming an insulating layer 5 on a base on which bumps 4 for interlayer connection are formed, a process of sandwiching the base with stainless plates 22 and thermocompression-bonding the copper foil 3 onto the insulating layer 5, and a process of patterning the copper foil 3.例文帳に追加

層間接続のためのバンプが形成された基材上に絶縁層を形成する工程と、ステンレス板で挟み込み絶縁層上に銅箔を熱圧着する工程と、銅箔をパターニングする工程とを有する。 - 特許庁

The conductive pattern material manufacturing method comprises a step of providing the ITO film on the substrate, a step of directly coupling graft polymer on the surface of the ITO film, and a step of depositing the conductive material on the graft polymer, and further comprises a step of patterning the ITO film before or after the step of directly coupling the graft polymer.例文帳に追加

基板上にパターン状に設けられたＩＴＯ膜表面に、グラフトポリマーを直接結合させて、該グラフトポリマーに導電性材料を付着させてなることを特徴とする導電性パターン材料。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display panel whose manufacturing stages are simplified by performing patterning without a photolithography stage and whose manufacturing cost is reducible, and also provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

本発明の目的は、フォトリソグラフィー工程を実施することなく、パターニングを行うことにより製造工程を単純化すると共に製造費用を節減し得る液晶表示パネルおよびその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a polymerizable monomer for use in a resist, suitable for microfabrication performed by dry exposure, immersion exposure or a double patterning process, and to provide a polymer of the same, a resist material using the same, and a pattern formation method.例文帳に追加

ドライ露光、液浸露光やダブルパターンニングプロセスで行われる微細加工に適するレジスト用重合性単量体およびそれら重合体の提供それらを使ったレジスト材料およびパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and its manufacturing method, in which the variation of patterning is reduced by forming resist of a constant film thickness on an element region, regardless of the existence ratio between the element region and an isolation region.例文帳に追加

素子領域と素子分離領域との存在比によらず、素子領域上に一定の膜厚のレジストを形成することにより、パターニングのばらつきが低減された半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In this pattern forming method, a first mask pattern 320A is formed in a first region A by patterning a dual mask layer on a substrate 300, and a second mask pattern 320B which is wider than the first mask pattern 320A is formed in a second region B.例文帳に追加

基板３００上のデュアルマスク層をパターニングして第１領域Ａには第１マスクパターン３２０Ａを形成し、第２領域Ｂには第１マスクパターン３２０Ａより幅広である第２マスクパターン３２０Ｂを形成する。 - 特許庁

To provide pattern forming method wherein a thin film on a lift-off pattern formed of a resist film is removed by ion milling to improve the permeability of the lift-off liquid and apply the lift-off patterning.例文帳に追加

本発明は、リフトオフによるパターン形成方法に関し、より詳細にはレジスト膜で形成したリフトオフパターン上の薄膜をイオンミーリングで除去し、リフトオフ液の浸透性を良くしてリフトオフパターニングを行なうパターン形成方法に関する。 - 特許庁

The method utilizes a substrate in which a semiconductor layer is initially formed on a flexible substrate, etc., and includes patterning a gate electrode and an insulating film to make undercut produced, and then forming a source and drain electrodes through vaporization and lifting off.例文帳に追加

また、半導体層が最初からフレキシブル基板等の上に形成された基板を利用し、ゲート電極と絶縁膜をパターニングし、アンダーカットを生じさせ、その後、ソース、ドレイン電極を蒸着形成し、リフトオフすることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a laminated common mode choke coil which can secure a large area for patterning and forming a conductor pattern, greatly improve inductance value, and reduce floating capacity, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

導体パターンをパターンニング形成するための領域を大きく確保でき、インダクタンスを大値に向上できると共に、浮遊容量を低減することができる積層コモンモードチョークコイルおよびその製造方法を提供すること - 特許庁

In the circuit integration type molding by directly patterning a conductor film on the molding to integrate a circuit and the manufacturing method thereof, the molding is configured with a resin material having an electromagnetic wave absorbing characteristics.例文帳に追加

成形品に直接的に導体膜をパターンニングして回路を一体化してなる回路一体型成形品でおよびその製造法あって、前記成形品を電磁波吸収特性を有する樹脂材料から構成してなるものである。 - 特許庁

To provide a method for patterning source/drain electrodes and an active layer by etching without using any lift-off methods in the case of a material having properties capable of etching with at least the same type of etchant.例文帳に追加

ソース／ドレイン電極と活性層が、少なくとも同じ種類のエッチャントによってエッチング可能な性質を有する材料である場合において、リフトオフ法を使用せず双方をそれぞれエッチングによってパターニングする方法を提供する。 - 特許庁

To provide a microarray substrate and its manufacturing method capable of immobilizing DNA firmly in high density with chemical combination with layers carrying DNA immobilized firmly to base material surface, and easily patterning finely.例文帳に追加

ＤＮＡを化学的結合で強固にかつ高密度で固定化でき、しかも、ＤＮＡを担持した層が基材と強固に固定されており、また、容易に微細なパターニングが可能であるマイクロアレイ用基板とその作製方法を提案する。 - 特許庁

To provide a method for fabricating a semiconductor device in which sufficient contact can be ensured between first and second gate electrodes even when a contact hole of micro diameter is made in a semiconductor device subjected to fine patterning.例文帳に追加

微細化された半導体装置において微小径のコンタクトホールを形成する場合においても，第１のゲート電極と第２のゲート電極との間で充分なコンタクトを取ることができる半導体装置の製造方法を提供する - 特許庁

To provide a method for manufacturing a ferroelectric capacitor of a semiconductor element where an electrode can be formed without performing a patterning of a capacitor electrode by etching, process is stabilized and a parasitic capacitance is suppressed.例文帳に追加

エッチングによるキャパシタ電極のパターニングを行わずに電極を形成することができ、かつ工程の安定性及び寄生キャパシタンスの抑制が可能である半導体素子の強誘電体キャパシタ製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure method and an exposure device, capable of locally optimizing such factors as incident angle, polarizing direction, and exposure amount, according to places in a sample when patterning the solid sample having a rough on its surface.例文帳に追加

表面に凹凸のある立体サンプルにパターニングを行うに際して、サンプル内の場所に応じて部分的に、入射角度、偏光方向、露光量などの条件の最適化が可能な露光方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁

In a preferred embodiment, the method includes patterning a substrate to identify a plurality of cavity areas to be etched on the substrate and filling at least one of the cavity areas with a distinctive filler material.例文帳に追加

好適な態様において、本方法は、基板をパターニングして基板にエッチングされる複数のくぼみ領域を識別し、少なくとも１つのくぼみ領域を弁別的充填材料２０３，２０５，２０６，２０７で充填する工程を含む。 - 特許庁

Furthermore, in fabricating the semitransmissive liquid crystal display, the fabricating method includes a step for forming a projecting and recessing structure without especially increasing the number of patterning steps only for the purpose of forming the projecting and recessing structure in the manufacturing process.例文帳に追加

さらに半透過型の液晶表示装置を作製するにあたり、その製造プロセス中において、凹凸構造を形成するためだけのパターニング工程を特に増やすことなく、凹凸構造を形成することを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the liquid jet head includes a step of laminating a first metal layer 191 enhancing adhesion and a second metal layer 192 serving as wiring on one surface of a channel formation substrate 10 where a piezoelectric actuator is formed, a step for patterning the second metal layer 192 by wet etching, and a step for patterning the first metal layer 191 by dry etching.例文帳に追加

圧電アクチュエーターが一方面に形成された流路形成基板１０の当該一方面に密着を向上する第１の金属層１９１と、配線となる第２の金属層１９２とを積層する工程と、前記第２の金属層１９２をウェットエッチングによりパターニングする工程と、前記第１の金属層１９１をドライエッチングによりパターニングする工程と、を具備することを特徴とする。 - 特許庁

This application provides this method for manufacturing a plasma display panel characterized by comprising steps of: forming a barrier rib material on a lower plate, on which address electrodes and a dielectric are provided; forming a black top material comprising a photosensitive material on the barrier rib material; patterning the black top material to form the black tops; and patterning the barrier rib material using the black tops to form the barrier ribs.例文帳に追加

アドレス電極と誘電体が備えられた下板上に隔壁材料を形成する段階と、前記隔壁材料上に、感光性材料を含むブラックトップ材料を形成する段階と、前記ブラックトップ材料をパターニングしブラックトップを形成する段階と、前記ブラックトップを用いて前記隔壁材料をパターニングする段階とを備えてなることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a color filter substrate by which patterning processes such as pattern exposure and development are performed to form alignment controlling protrusions by using an exposure mask having a pattern exposure region where transmittance is changed stepwise in an alignment controlling protrusion forming step for forming the alignment controlling protrusions by performing the patterning processes such as pattern exposure and development to a transparent photosensitive resin layer.例文帳に追加

透明感光性樹脂層をパターン露光、現像等のパターニング処理を行って配向制御突起を形成する配向制御突起形成工程において、段階的に透過率が変化するパターン露光領域を有する露光マスクを用いて、パターン露光、現像等のパターニング処理を行って配向制御突起を形成するカラーフィルタ基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In a method for forming a pattern of a film, a patterning region is formed by applying a triazine compound on a substrate and then irradiating a desired region in the substrate, where the triazine compound is applied, with ultraviolet rays, and a film of an inorganic nanoparticle is formed in the desired region by immersing the substrate in an inorganic nanoparticle dispersion so that the inorganic nanoparticle is bonded to the patterning region.例文帳に追加

基板にトリアジン系化合物を付着させ、前記トリアジン系化合物を付着させた前記基板の所望領域に紫外線を照射することでパターニング領域を形成し、前記基板を無機ナノ粒子分散液に浸漬して前記パターニング領域に無機ナノ粒子を接着させることにより、所望領域に無機ナノ粒子の皮膜を形成することを特徴とする皮膜のパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a method for forming a metal oxide thin film pattern by applying a photosensitive metal-organic material precursor solution onto a substrate without using a photosensitive prepolymer resin and directly patterning a coating film layer of the applied solution by a nanoimprint system and to provide the metal oxide thin film pattern patterned directly by this forming method and a method for producing an LED element including a photonic crystal layer by using this forming method.例文帳に追加

本発明は、感光性プレポリマーレジンを使用せずに、感光性金属有機物前駆体溶液を基板に塗布して、ナノインプリント方式で直接パターニングする金属酸化薄膜パターンの形成方法、当該形成方法によって直接パターニングされた金属酸化薄膜パターン、および、当該形成方法によって光結晶層を含むＬＥＤ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide: a method for forming a solder layer in which the solder layer is formed on a surface of a terminal with high patterning precision even when terminals have high density without using a large-scale device; a method for connection between the terminals that uses the solder layer formed by the method for forming the solder layer; a semiconductor device having high reliability; and an electronic apparatus.例文帳に追加

大掛かりな装置を用いることなく、高密度な端子であっても高いパターニング精度で端子の表面に半田層を形成することができる半田層の形成方法、かかる半田層の形成方法により形成された半田層を用いた端子間の接続方法、信頼性の高い半導体装置、および、電子機器を提供すること。 - 特許庁

The tree classification method and pruning method are such that garden trees are classified in five categories from the viewpoint of a tree form, and shown as tree forms made by patterning peculiar features for each classification, based on each physiological ecology for each classification, and the pruning method backed up from the physiological ecology.例文帳に追加

課題を解決するために、樹形という観点から庭木を5つに分類して、分類毎に其々の生理生態と生理生態から裏付けされた剪定方法に基づいて、分類毎に特徴的な形態をパターン化した樹形とて現したことを特徴とする樹木の分類法と剪定のメソッドを提供して課題解決を図るものである。 - 特許庁

To provide an accurate and efficient method of manufacturing a resin sheet with color filter by which the position of patterning is prevented from deviating in lamination of the color filter and to provide a resin sheet with color filter.例文帳に追加

カラーフィルター付き樹脂シートの製造方法において、カラーフィルターを積層する際にパターニングの位置ずれを防止し精度よく効率的なカラーフィルター付き樹脂シートの製造方法、およびカラーフィルター付き樹脂シートを提供することを課題とする。 - 特許庁

Thin films 12a of respective layers consisting of a diffractive Fresnel lens are collectively formed in batch by forming a releasing layer 11 on a substrate 10, depositing an Al thin film 12A on the releasing layer 11 and patterning the Al thin film 12 by photo-lithography method.例文帳に追加

基板１０の上に離型層１１を形成し、離型層１１の上にＡｌ薄膜１２Ａを着膜し、Ａｌ薄膜１２Ａをフォトリソグラフィー法によってパターニングして回折型フレネルレンズを構成する各層の薄膜１２ａを一括して形成する。 - 特許庁

To provide an organic EL element with a barrier rib, capable of accurately patterning an organic layer such as a light emitting layer using a coating system, and capable of preventing disconnection of an electric wire, and also to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は、隔壁を有し、塗布方式により発光層などの有機層を精度良くパターニングすることが可能であり、電極の断線を防ぐことが可能な有機ＥＬ素子およびその製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide an intermediate layer composition for a multilayer resist process which is soluble in an organic solvent and is excellent in preservation stability and also in a trailing shape during upper layer patterning, line edge roughness and pattern peeling of an upper resist and to provide a a method for forming a pattern.例文帳に追加

有機溶剤に可溶であり、保存安定性に優れ、かつ上層レジストパターニング時の裾引き形状、ラインエッジラフネス、上層レジストのパターン剥れに優れた多層レジストプロセス用中間層組成物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method for a hybrid integrated circuit device 10 is constituted such that a first electric conduction film 28A is made to laminate via a first insulating layer 17A, and a first wiring layer 18A is formed by patterning a first electric conduction film 28A.例文帳に追加

本発明の混成集積回路装置１０およびその製造方法は、第1の絶縁層１７Ａを介して第1の導電膜２８Ａを積層させて、第1の導電膜２８Ａをパターニングすることにより、第1の配線層１８Ａを形成する。 - 特許庁

The legalized block mask patterns and the legalized phase mask patterns that have been colored define features of a block mask and an alternating phase shift mask, respectively, for use in a dual exposure method for patterning features in a resist layer of the substrate.例文帳に追加

ルール適合化ブロック・マスク・パターンおよびカラーリングされたルール適合化位相マスク・パターンが、それぞれ、基板のレジスト層に構造体をパターン化する二重露光方法で使用するためのブロック・マスクおよび交番位相シフト・マスクの構造体を定義する。 - 特許庁

The method is furthermore comprised of removing a residual layer through etching, after forming the resist pattern over the whole substrate, patterning the polymer thin film (S116), removing the resist coated on the polymer thin film, and completing the second large area stamp (S117).例文帳に追加

さらに、基板全体にレジストパターンが形成した後、エッチングを介して残留レイヤーを取り除いて、高分子薄膜をパターニング(S116)し、高分子薄膜にコーティングされたレジストを取り除いて大面積の第２スタンプを完成(S117)する、各段階を含む。 - 特許庁

To provide a method which enables the easy and sure growth of CNT (Carbon Nano Tube) in a predetermined area with an arbitrary form and size on the substrate without patterning catalyst materials, namely without damaging other parts on the substrate and polluting the corresponding catalyst materials.例文帳に追加

触媒材料をパターニングすることなく、従って基板上の他の部分にダメージを与えたり、当該触媒材料が汚染されたりすることなく、容易且つ確実に基板上の任意の形状・面積の所定領域にＣＮＴを成長させる。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist underlayer film to form a resist underlayer film, having a lowered reflectance, a high etching resistance, and high heat and solvent resistances, in particular, without wiggling during substrate etching, and to provide a patterning process that uses the film.例文帳に追加

反射率を低減でき、エッチング耐性が高く、高い耐熱性、耐溶媒性を有し、特に基板のエッチング中によれの発生がないレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成方法及びこれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

Silicon nitride film (second HCD-SiN film 9) is formed by a heat CVD method using hexachlorodisilane above the ALD-SiN film 3, and a hole 11a is formed by patterning the silicon nitride film, thereby forming a sacrificial layer pattern.例文帳に追加

ＡＬＤ−ＳｉＮ膜３の上方にヘキサクロロジシランを用いた熱ＣＶＤ法によって窒化シリコン膜（第２ＨＣＤ−ＳｉＮ膜９）を成膜し、これをパターニングすることによって孔１１ａを形成することで犠牲層パターンを形成する。 - 特許庁

This method can reduce the warp of the semiconductor wafer by the high fusing point metal, so this can reduce the faults in the subsequent patterning process for forming wiring, especially, in the exposure pattern by a stepper.例文帳に追加

本願の代表的な発明によれば、高融点金属膜による半導体ウエハの反りを低減できるので、以降の配線を形成するためのパターニング工程、特にステッパーによる露光工程においてフォーカスの不良を低減することができる。 - 特許庁

To provide a method for economically and easily manufacturing artificial marble having various patterns by efficiently injecting a liquid resin becoming a base material and a patterning liquid resin in a hermetically closed mold and easily adjusting a form of patterns.例文帳に追加

基材となる液状樹脂と模様付け用の液状樹脂を密閉した成形型に効率的に注入し、また容易に模様の形態を調整して多様な模様付き人工大理石を経済的にかつ容易に製造する方法を提案する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method which can manufacture a poly crystalline silicon TFT array substrate high in reliability without generating defective displays, such as point defect by preventing the deviation of patterning resulting from thermal expansion or shrinkage of a glass substrate.例文帳に追加

ガラス基板の熱膨張あるいは収縮に起因したパターニングのずれを防止し、点欠陥等の表示不良を生じることのない信頼性の高い多結晶シリコンＴＦＴアレイ基板を製造可能な製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a composition of an intermediate layer material for a three-layer resist process, which is soluble in an organic solvent, excellent in storage stability and free from problems of a tailing pattern during patterning the upper layer resist, peeling of the pattern and line edge roughness, and to provide a method for forming a pattern.例文帳に追加

有機溶剤に可溶であり、保存安定性に優れ、かつ上層レジストパターニング時に裾引き形状、パターン剥れ、ラインエッジラフネスに問題のない３層レジストプロセス用中間層材料組成物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a flexible type of element substrate for liquid crystal display device capable of patterning and forming a columnar spacer which has sufficient adhesiveness for a part corresponding to a black matrix according to photolithography without generating any malfunction.例文帳に追加

何ら不具合が発生することなく、フォトリソグラフィに基づいてブラックマトリクスに対応する部分に十分な接着性が得られる柱状スペーサをパターン化して形成できるフレキシブルタイプの液晶表示装置用素子基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a partial graining method capable of forming gloss parts and grained pattern parts partially with excellent adhesion by performing easily and intentionally controlled patterning.例文帳に追加

容易に且つ意図的に制御した模様付けを行って部分的に光沢部分とシボ模様部分とを形成することができ、密着性にも優れたものとすることができる部分的シボ模様付け方法及び部分的シボ模様付け化材料を提供する。 - 特許庁

The method includes, for at least one process condition, obtaining values for at least one metric expressing a splitting correlated process quality as function of design parameters of the pattern and/or split parameters for the multiple patterning lithographic process.例文帳に追加

方法は、少なくとも１つのプロセス条件に関して、多重パターニングリソグラフプロセスに関するパターンの設計パラメータ及び／又は分割パラメータの関数として、分割に関連したプロセス品質を表す少なくとも１つの計量に関する値を得ることを含む。 - 特許庁