「patterning method」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a surface acoustic wave filter for accurately patterning an interdigital electrode on a piezoelectric substrate at a prescribed interval and a prescribed finishing height and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

圧電体基板上の櫛形電極を、所定の間隔でかつ所定の仕上り高さに精度よくパターニングできる表面弾性波フィルタおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a photomask which can suppress the influence of the "stray light" while achieving high patterning precision for the circuit patterns transferred on a wafer without largely increasing the costs.例文帳に追加

ウェハに転写される回路パターンの高いパターニング精度を実現しつつ、大幅なコストアップ無しに“迷光”の影響を抑えることが可能なフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method of a semiconductor element, which can simultaneously form patterns having a variety of widths, and can increase a pattern density in part of regions by double patterning technique.例文帳に追加

多様な幅を有するパターンを同時に形成しつつ、一部領域ではダブルパターニング技術によりパターン密度を増加させることができる半導体素子のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Toluene solution of NPD as hole transportation material is formed to a film by a spin coat method on a substrate 1 wherein an indium/tin oxide layer 2 is subjected to patterning, and an NPD film 3 is formed.例文帳に追加

インジウム・スズ酸化物層２がパターニングされた基板１の上に、正孔輸送材料であるＮＰＤのトルエン溶液をスピンコート法にて膜状化して、ＮＰＤ膜３を形成した。 - 特許庁

To provide a method for patterning a photomask which is hardly affected by errors of stage movement even when the real amount of stage movement for scanning the photomask has errors with respect to the set amount of movement.例文帳に追加

フォトマスクを走査するステージが、設定移動量に対して実移動量が誤差を保有していても、その誤差の影響を受けにくいフォトマスクのパターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a simple method which accomplishes patterning of a micron order and uniaxial orientation of a one dimensional conjugated oligomer simultaneously and a molecular oriented conjugated oligomer.例文帳に追加

磁場を用いて一次元共役系オリゴマーのミクロンオーダーのパターニングと一軸配向を同時に実現することができる簡便な方法と、分子配向共役系オリゴマーを提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of reducing a watermark defect and forming an excellently shaped resist pattern, and to provide a resist film using the same and a patterning method.例文帳に追加

ウォーターマーク欠陥を減少させると共に、良好な形状のレジストパターンを形成可能とするレジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The present invention discloses a mask for forming a fine pattern to completely transfer a first and a second pattern from the mask through a double patterning step onto a transfer object below, and a method for forming the mask.例文帳に追加

二重パターニング工程でマスク上の第１及び第２パターンをそのまま下部の被転写物に転写させる微細パターンを形成するためのマスク及びその形成方法である。 - 特許庁

To provide a reticle for a stepper which can arrange convex portions more uniformly on a substrate which laminates semiconductor layers, and to provide a manufacturing method for a patterning substrate, a manufacturing method for a semiconductor multilayer substrate, and a manufacturing method for a semiconductor light-emitting element, using the reticle.例文帳に追加

半導体層を積層する基板上に凸部をより一様に配置しうるステッパー用レチクル、そのレチクルを用いた、パターン加工基板の製造方法、半導体積層基板の製造方法および半導体発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for patterning a metal foil, which can form a pattern to have different thickness depending on parts with a simple process, and to provide an electric wiring substrate and a manufacturing method therefor, a semiconductor device and a manufacturing method therefor, and a circuit board and an electronic device.例文帳に追加

簡単な工程で、部分的に異なる厚みを有するように形成することができる金属箔のパターニング方法、配線基板及びその製造方法、半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器を提供することにある。 - 特許庁

To provide a resist pattern causing no intermixing on an interface between an upper resist layer and a lower resist layer and thereby, having a favorable profile, and to provide a method for forming a resist pattern, and a method for patterning a thin film using the resist pattern, and a method for manufacturing a thin film magnetic head.例文帳に追加

上側レジスト層と下側レジスト層との界面でインターミキシングが起きず、従って良好な形状を有するレジストパターン、このレジストパターンの形成方法、このレジストパターンを用いた薄膜のパターニング方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern verifying method, used in a double patterning method in which after a first pattern is formed in a film to be processed, a second pattern is formed in the film to be process, verifying a pattern in consideration of a superposition error.例文帳に追加

被加工膜に第１のパターンを形成してから被加工膜に第２のパターンを形成するダブルパターニング法に用いられ、重ね合わせ誤差を考慮してパターンを検証することができるパターン検証方法を提供する。 - 特許庁

To provide a direct-write patterning method which can very easily and simply cope with the direct writing method from data from a computer in a bright room, even with printed boards having through-holes, and at more improved production efficiency.例文帳に追加

スルーホールを有するプリント基板でも、極めて簡便に、かつ明室下で可能なコンピュータからのデータの直接描画方法に対応することができ且つ生産効率のさらに向上した直描作製方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an optical element materializing a liquid crystal phase region which applies a desired phase difference in a retardation control layer, with high resolution, and to provide an optical element having high patterning quality obtained by the method.例文帳に追加

位相差制御層において所望の位相差を付与する液晶相領域を高解像度で実現することのできる光学素子を製造する方法、およびこれにより得られる高いパターニング品質の光学素子を提供する - 特許庁

To provide a manufacturing method of an electron source in which the lower electrode can be patterned in cross-sectionally trapezoidal shape and the yield of manufacture can be made greater compared with the case of patterning the lower electrode using a lift-off method.例文帳に追加

下部電極を断面台形状の形状にパターニングすることができ且つリフトオフ法を利用して下部電極をパターニングする場合に比べて製造歩留まりを高めることができる電子源の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist patterning method yielding finer resist patterns than resolution of an exposure apparatus and capable of processing, in a relatively short process, even a multilayer photoresist film (having a plurality of layers), and to provide a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

露光装置の解像度に比べて微細なレジストパターンが得られると共に、多層（複数層）のフォトレジスト膜を用いても比較的に短いプロセスで処理できるレジストパターニング方法及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of microdevice capable of realizing an MEMS(Micro Electro Mechanic System) or rugate filter with a high operating characteristic by patterning a thick functional material film in a high aspect ratio by an easy and practical manufacturing method.例文帳に追加

簡易で実用的な製造方法によって厚膜の機能性材料膜を高アスペクト比にパターニングして、動作特性の高いＭＥＭＳやルゲートフィルタなどを実現することが可能な微細装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL element which carries out patterning of an organic EL layer by using a photolithography method, and which is superior in light-emitting characteristics and life characteristics.例文帳に追加

本発明は、フォトリソグラフィー法を用いて有機ＥＬ層をパターニングする有機ＥＬ素子の製造方法であって、発光特性および寿命特性に優れる有機ＥＬ素子の製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin film pattern having a narrow pattern, which is independent of the kind of a resist film and an optical limit of an exposure apparatus or the like, and thus to further provide a method for making a thin film patterning narrower.例文帳に追加

レジスト膜の種類や露光器などの光学的限界によらず、狭小なパターンを有する薄膜パターンを作製する方法を提供し、もって薄膜パターニングを狭小化する方法を提供することをも目的とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method and photolithography method by which a resist film can be removed without leaving residues in the edge sections of a substrate, at the time of patterning the resist film on the substrate through silylation.例文帳に追加

シリル化プロセスにより基板上にレジスト膜をパターン加工するときに、基板のエッジ部において残渣を残すことなく前記レジスト膜を除去することができる半導体装置の製造方法およびフォトリソグラフィー方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photomask and a method for manufacturing a photomask, which achieve patterning without requiring an additional investment even when a line-and-space pattern having a fine pitch width is to be formed on a process object, and to provide a method for manufacturing a liquid crystal display device and a method for transferring a pattern.例文帳に追加

被加工体に微細なピッチ幅のライン・アンド・スペース・パターンを形成する場合であっても、追加投資を殆ど必要とせずにパターニングを行うことができるフォトマスク、フォトマスクの製造方法、液晶表示装置の作製方法及びパターン転写方法を提供することを目的の一とする。 - 特許庁

To provide a resist pattern which does not give rise to intermixing at the boundary between an upper layer resist layer and a lower layer resist layer and consequently has a good shape, a method of forming this resist pattern, a patterning method of a thin film by using this resist pattern and a method of manufacturing a thin-film magnetic head.例文帳に追加

上側レジスト層と下側レジスト層との界面でインターミキシングが起きず、従って良好な形状を有するレジストパターン、このレジストパターンの形成方法、このレジストパターンを用いた薄膜のパターニング方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an EL display unit in which a full color display is made possible, by forming a blue charge transport organic luminescent layer on a neighboring layer through vacuum vapor deposition method, after patterning red and green organic luminescent layers for each pixel by ink-jet method, and provide a manufacturing method of the EL display unit.例文帳に追加

赤、緑の有機発光層をインクジェット方式により画素毎にパターニングし、その隣接層に青色の電荷輸送型有機発光層を真空蒸着法等にて形成することにより、フルカラー表示可能なＥＬ表示体およびＥＬ表示体の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The ferromagnetic thin membrane layer 15 has 0.5-50 oersted coercive force, may have a squareness ratio regulated so as to be 0.7-1.0, may be formed into the pattered one by a thin film-removing means such as a laser processing method, an etching method and a lift-off method, and further may have a bar code mark formed by patterning.例文帳に追加

上記強磁性薄膜層１５は、保磁力が０．５〜５０エルステッドで、かつ角型比が０．７〜１．０に調整されているようにでき、レーザ加工法、エッチング法、リフトオフ法等の薄膜除去手段によりパターン化されたものとすることができ、また、バーコードマークをパターン化して設けることができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a micro-structure body by combining a plurality of micro-structure layers, which easily removes residual substances generated in patterning.例文帳に追加

複数の微細な構造層を組み合わせて微細構造体を製造する方法において、パターニングの際に発生した残渣を容易に除去可能な製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a method for forming deposited films for forming patterns on a substrate without masking or a patterning process relating to general metallic films, dielectric films, and more particularly organic material films.例文帳に追加

一般的な金属膜、誘電体膜、そして特に有機物膜に関し、マスク成膜やパターニングプロセスなしに、基板上へのパターン形成を可能にする堆積膜の形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for patterning a conductive film in which short circuit due to deposition of plating particles can be prevented when a conductive film is patterned by plating, and to provide a process for manufacturing a droplet ejection head.例文帳に追加

メッキによる導電膜パターンの形成時に、メッキ粒子の析出に起因するショートを防止した、導電膜パターンの形成方法、及び液滴吐出ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method that allows the reduction in tact time for pattern-forming, allows pattern layers and dielectric layers to be fired together, and is capable of reducing the total cost of pattern-forming.例文帳に追加

パターン形成のタクトタイムの短縮を可能とし、またパターン層と誘電体層の一括焼成を可能にし、パターン形成のトータル的低コスト化が可能なパターニング方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

According to constitution of the method, the patterning is performed for every thin film of plural quantities, by which the thin films can be thickened irrespective of a ratio of a width to a depth (an aspect ratio) of a final throughhole pattern.例文帳に追加

本発明の構成によれば、複数の薄膜毎にパターン形成を行うため、最終的な貫通孔パターンの幅と深さの比（アスペクト比）によらず、薄膜の厚膜化を行うことが出来る。 - 特許庁

To provide a patterning method for plating in which no resist is used and no influence is produced upon a pattern mask and which is capable of repeated use and requires relatively low equipment cost and can cope with the recent demand for finer pattern.例文帳に追加

レジストを用いることなしに、また、パターンマスクへの影響がなく、繰り返し使用が可能で設備コストが比較的小さく、微細なパターンに対応できるめっきのパターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of producing a cured film excellent in patterning property of a contact hole, ITO sputter resistance, and heat resistance transparency, which can be produced at high and stable sensitivity, with slit coating.例文帳に追加

高感度で安定した感度で製造でき、コンタクトホールのパターニング性能やＩＴＯスパッタ耐性、耐熱透明性に優れる硬化膜を、スリットコートで製造する製造方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain an electroconductive resin composition capable of patterning a fine shape and forming an electroconductive resin film having heat resistance, solvent resistance and mechanical strengths, and to provide a method for forming a pattern.例文帳に追加

微細な形状にパターニングすることができ、耐熱性、耐溶剤性、及び機械的強度を有する導電性樹脂膜を形成しうる導電性樹脂組成物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a display and the display wherein patterning can be made on a large-area substrate with a simple process, and improve light-emitting characteristics of the light-emitting layer.例文帳に追加

簡素な工程で大面積基板に発光層をパターニングすることができると共に、発光層の発光特性を向上させることができる表示装置の製造方法および表示装置を提供する。 - 特許庁

In an organic EL element inspection method, ultraviolet rays are condensed for spot irradiation, thus detecting patterning positions and emission colors in each emission layer, in an organic film arranged for each pixel.例文帳に追加

有機ＥＬ素子検査方法において、紫外光を集光してスポット照射することにより、画素ごとに配列された有機膜の各発光層におけるパターニング位置及び発光色を検出する。 - 特許庁

To provide a method of forming a fine pattern of a semiconductor device capable of forming a fine pattern having a line thickness of 60 nm or less by preventing the deformation when patterning a hard mask.例文帳に追加

ハードマスクをパターニングする際の変形を防止することにより、線幅が６０ｎｍ以下の微細パターンを形成することができる半導体素子の微細パターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

Because this method is free of generation of a large electric discharge during the sandblasting process, there is no risk of producing any defect in the electrode or barrier, and the patterning of the barrier can be conducted while the quality of the base board is well maintained.例文帳に追加

サンドブラスト加工中に大きな放電を起こすことがないことから、電極や障壁に欠陥を生じることなく、基板品質を良好に保って障壁のパターニングを行うことができる。 - 特許庁

The method for patterning the molding plate comprises the steps of first sandwiching under pressure the extrusion molded molding plate 1 between rolls 2 and 3, forming protruding positions 6 by recess positions 7 on the upper surface, and forming the recess positions 7 by the protruding parts 3a on the lower surface.例文帳に追加

押出成形された成形板１は、まずロール２，３によって狭圧され、その上面に凹部２ａによって凸所６が形成され、下面には凸部３ａによって凹所７が形成される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a color conversion filter capable of reducing the cost by reducing the quantity of material for manufacturing a color conversion layer, capable of preventing color mixture, and capable of patterning in high precision.例文帳に追加

製造に際しての色変換層形成用材料の使用量を軽減によりコストを低減し、混色が容易に防止でき、高精細なパターニングが可能な色変換フィルタの提供を主目的とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method or the like for a nozzle plate which is excellent in productivity without repetition of processes by photolithography, enables patterning of highly precise nozzle holes each including a taper shape, and is excellent in ejection characteristic.例文帳に追加

フォトリソグラフィーによる工程の繰り返しがなくて生産性に優れ、テーパ形状を含む高精度なノズル孔のパターニングが可能で、吐出特性に優れたノズル基板の製造方法等を提供する。 - 特許庁

To effectively reutilize waste water without marring the swelling properties of clay substance added to improve patterning properties by pressing in a sheet-manufacturing method in which a large amounts of waste water are generated.例文帳に追加

大量の排水が生じる抄造法において、プレスによる模様つけ性を良くするため添加される粘土物質の膨潤性を損なうことなく排水を有効に再利用可能とすることを課題とする。 - 特許庁

The method also comprises the steps of patterning the crystalline silicon film, forming an insular silicon region, forming a gate insulating film on the insular silicon region, and forming a gate electrode on the gate insulating film.例文帳に追加

そして前記結晶性シリコン膜をパターニングし、島状シリコン領域を形成し、前記島状シリコン領域上にゲート絶縁膜を形成し、前記ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成する。 - 特許庁

The organic EL element is formed by performing patterning by an optical etching method, so that the organic EL display device is manufactured inexpensively with high accuracy compared with a case wherein coating is carried selectively by different colors using vapor-deposition masks.例文帳に追加

光エッチング法によりパターニングを行って有機ＥＬ素子を形成するため、蒸着マスクを用いて塗り分けを行う場合に比べ、低コストかつ高精度に有機ＥＬ表示装置を製造できる。 - 特許庁

To provide a support structure for supporting a patterning device and/or table, and an improved material for a substrate table for holding a substrate in a lithographic apparatus, and also to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

リソグラフィ装置において、パターニングデバイス及び／又はテーブルを支持する支持構造、並びに、基板を保持する基板テーブルの改良型材料、及び、それらを製造する方法を提供すること。 - 特許庁

In this case, a method is employed which performs the electric inspection on the respective substrates 400 after cutting and dividing the multiple patterning substrate 500 into the respective substrates 400 (after performing the cutting process).例文帳に追加

この場合、多面付け基板５００を切断して各基板４００に分割した後（切断処理を実行した後）に各基板４００に対する電気的検査を実行する方法を採用することができる。 - 特許庁

To provide a substrate processing method reducing variations in line widths of first and second resist patterns between substrates and in a substrate surface when forming minute resist patterns by double patterning.例文帳に追加

ダブルパターニングにより微細なレジストパターンを形成する際に、基板間及び基板面内での１回目及び２回目のレジストパターンの線幅のばらつきを低減できる基板処理方法を提供する。 - 特許庁