「patterning method」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

In a method for manufacturing an organic EL display device, an organic compound layer is formed by vapor deposition after a layer used for patterning the organic compound layer has been formed, and thereby, the organic compound layer such as a luminous layer is formed at a uniform film thickness without being affected by the surface tension at a side face of the layer used for patterning the organic compound layer.例文帳に追加

有機化合物層をパターニングするための層を設けた後は、有機化合物層を蒸着法により形成することで、有機化合物層をパターニングするための層の側面部の表面張力の影響を受けずに、均一な膜厚で発光層などの有機化合物層を形成する。 - 特許庁

To provide a method of patterning a dielectric film which allows patterning and reduces or fully removes a residue after etching paste thermal treatment, by etching the dielectric film having such a thickness not capable of being etched in single etching paste processing through simple processing using the etching paste to form a patterned film.例文帳に追加

一度のエッチングペーストによる処理ではエッチングできない程度の厚さを有する誘電体膜を、エッチングペーストを用いた簡単な処理でエッチングしてパターニングを形成できるとともに、エッチングペーストの熱処理後に発生する残渣を低減もしくは完全に除去できる誘電体膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method of an organic semiconductor layer which can be applied to general organic semiconductor layers or photoresist without using a special protective material such as parylene and can minimize deterioration in performance of the organic semiconductor layer due to patterning, and further to provide a method of manufacturing an organic semiconductor device, an organic semiconductor pattern formed based on that method and an organic semiconductor device, and a display device.例文帳に追加

パリレンなどの特殊な保護材料を用いず、一般的な有機半導体層やフォトレジストに適用でき、パターニングによる有機半導体層の性能低下を抑制できる、有機半導体層のパターニング方法及び有機半導体装置の製造方法を提供し、更にこの方法に基づいて作製された有機半導体パターン及び有機半導体装置、並びに表示装置を提供すること。 - 特許庁

A system, method, and product for manufacturing a semiconductor device by a lithography which are accompanied by a lithography double patterning process for adding a coloring matter to a first or second lithography pattern are provided.例文帳に追加

第１または第２リソグラフィパターンに色素を付加するリソグラフィダブルパターニングプロセスを伴う、半導体デバイスをリソグラフィにより製造するシステムおよび方法、ならびに製造物が提供される。 - 特許庁

To provide a method of patterning a non-volatile memory gate capable of forming a gate-stack of NVM on a semiconductor substrate having the NVM region and a non-NVM region arranged so as not to overlap with the NVM region.例文帳に追加

不揮発性メモリ（ＮＶＭ）領域及び前記ＮＶＭ領域と重ならないよう非ＮＶＭ領域を有する半導体基板の上にＮＶＭのゲートスタックを形成する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for producing a coating mate rial for simultaneous patterning on double side, by which optional coating film patterns are precisely applied on both surfaces of a base material whose dimen sional stability is poor.例文帳に追加

寸法不安定性の基材の両面に任意の塗膜パターンを精度良く塗工可能にする両面同時パターン塗工材の製造方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a display element and its manufacturing method in which characteristics such as low cost, high throughput and flexibility of optical material selection are maintained and a patterning precision is improved.例文帳に追加

表示素子及びその製造方法において、低コスト、高スループット及び光学材料の自由度が高いこと等の特徴を維持しつつ、パターニングの精度を向上させることを目的とする。 - 特許庁

To provide a display element and its manufacturing method in which characteristics of a low cost, a high throughput and a wide selection of optical materials are maintained and a patterning precision is improved.例文帳に追加

表示素子及びその製造方法において、低コスト、高スループット及び光学材料の自由度が高いこと等の特徴を維持しつつ、パターニングの精度を向上させることを目的とする。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which can achieve both excellent developability and excellent conformability to an immersion liquid, and a patterning method using the composition.例文帳に追加

優れた現像性と優れた液浸液追随性との両立を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

An apparatus and method is disclosed which allows for stress relaxation in the substrate prior to further patterning to reduce, minimize or prevent such misalignment from residual strain.例文帳に追加

残留ひずみによるこのようなミスアライメントを低減させ、最小化し、または防止するために次のパターニングの前に基板内の応力緩和を可能にする装置および方法を開示する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a wiring board suitable for a mounted circuit device for easily forming a plated layer for enabling highly reliable bonding, and for executing fine wiring patterning.例文帳に追加

信頼性の高いボンディングを可能とするメッキ層を容易に形成でき、かつ微細な配線パターン化もできる実装回路装置用に適する配線板の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a multiple patterning circuit board which can uniformly vacuum-suck a mask for solder ball alignment and can improve the yield of ball loading.例文帳に追加

はんだボール整列用マスクを均一に真空吸着することができ、ボール搭載の歩留まりを向上することができる多数個取り配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

An insulating film 30 is formed on a semiconductor substrate where a channel layer 20 is formed by a CVD method, etc. for patterning with a resist, and a gate opening 31 is formed using an RIE, etc.例文帳に追加

チャンネル層２０が形成された半導体基板に絶縁膜３０をＣＶＤ法等で成膜し、レジストでパターンニングした後、ＲＩＥ等を用いてゲート開口部３１を形成する。 - 特許庁

The method further comprises steps of then forming a thick insulating film 9 in the opening, patterning the polysilicon film 3 with the thick insulating film 9 as a mask, and forming a floating gate.例文帳に追加

次に、前記開口内に厚い絶縁膜９を形成し、当該厚い絶縁膜９をマスクにして前記ポリシリコン膜３をパターニングしてフローティングゲートを形成することを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method comprises 11 processes including a manufacturing process of a metal sacrificial layer, a resist cone forming process, a resist film patterning process, a shape memory alloy film manufacturing process, and the like.例文帳に追加

その製造方法は、金属犠牲膜の製造工程、レジスト錐形成工程、レジスト膜パターンニング工程、形状記憶合金膜製造工程などを含む１１の工程からなる。 - 特許庁

To provide a method of forming wiring, capable of obtaining practically sufficient low resistance by sintering at a low temperature and short time after patterning a conductive fine particle material on a substrate.例文帳に追加

基板上に、導電性の微粒子材料をパターニングした後、低温且つ短時間の焼結で、実用上充分に低い抵抗が得られる配線形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method wherein, when etching a chemically stable material, the dry etching technique is mainly used while partially using the lift-off technique and thereby what is called the fence can be prevented and there is no overetching, and to provide a high-durability ink jet head using the same.例文帳に追加

化学的に安定な材料をエッチングする場合、ドライエッチングを主に、部分的にリフトオフをすることで、フェンスを防止し、オーバーエッチングのないパターン形成をする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that has a gate electrode having a width narrower than the minimum width formable by the patterning technology and an LDD structure the side wall thickness of which can be changed as the size of the gate electrode is reduced, and to provide a method of manufacturing the device.例文帳に追加

パターンニング技術によって形成可能な最小の幅よりもさらに細幅のゲート電極を有する半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To make high-grade microfabrication possible by a double-patterning process or the like by providing a pattern-freezable resist material and a pattern-forming method including a step of curing a resist film.例文帳に追加

パターン硬化可能なレジスト材料、レジスト膜を硬化させる工程を含むパターン形成方法を提供することにより、ダブルパターニングプロセス等により高度な微細加工を可能にする。 - 特許庁

The method for manufacturing the piezoelectric substrate comprises the steps of forming a protective film having a lattice-like exposure part of a predetermined width by vapor-depositing or adhering by sputtering gold thin films on both side surfaces of the AT cut crystal substrate, and patterning the gold thin films.例文帳に追加

ＡＴカット水晶基板の両面に金薄膜を、蒸着、あるいはスパッタで付着、パターン化し、所定幅の格子状露出部を有する保護膜を形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a three-dimensional photonic crystal which manufactures the three-dimensional photonic crystal while adjusting the positions of two-dimensional patterning plates stacked on each other by nano manipulation.例文帳に追加

積み重ねた２次元パターニングプレートの位置をナノマニピュレーションにより調整しながら３次元フォトニック結晶を製造する３次元フォトニック結晶の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an application device and an application method for applying application liquid onto a substrate to form a desired structure, the device having simple construction for achieving improved throughput and degree of freedom in patterning.例文帳に追加

基板上に塗布液を塗布することで所望の構造物を形成する塗布装置および塗布方法において、簡単な装置構成で、優れたスループットおよびパターン自由度を得る。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a piezoelectric actuator which prevents a particle size in a piezoelectric layer of a piezoelectric element from increasing and has a function as an etching stop layer during patterning of the piezoelectric layer.例文帳に追加

圧電素子の圧電体層の大粒化を防止し、しかも圧電体層のパターニングの際のエッチングストップ層としての機能も有する圧電アクチュエーターの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cell culture patterning substrate and a method for manufacturing the same which can be used to culture the cells on the substrate in an intended shape.例文帳に追加

本発明は、基材上に目的とする形状に細胞を培養するために用いられる細胞培養用パターニング基板、およびその製造方法を提供することを主目的としている。 - 特許庁

To provide a protective film forming composition suitable for liquid immersion exposure, the composition preventing decrease in the transmittance of an immersion liquid and degradation in a resist profile, and to provide a patterning method using the composition.例文帳に追加

液浸液の透過率が低下せず、レジストプロファイルが劣化しない、液浸露光に好適な保護膜形成組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

The manufacturing method is such that a capacitor lower electrode layer 113, a ferroelectric film 114 and a capacitor upper electrode layer 115 are formed in this order, and a dry etching using a photo resist 116 and a patterning follow.例文帳に追加

容量下部電極層１１３、強誘電体膜１１４、および容量上部電極層１１５をこの順で成膜した後、フォトレジスト１１６を用いてドライエッチングし、パターニングする。 - 特許庁

To improve the accuracy of patterning while maintaining characteristics, such as low cost, high throughput and a high degree of freedom of optical materials in a display element and its method of manufacturing.例文帳に追加

表示素子及びその製造方法において、低コスト、高スループット及び光学材料の自由度が高いこと等の特徴を維持しつつ、パターニングの精度を向上させることを目的とする。 - 特許庁

The substrate processing method comprises a step for providing the substrate, a step for forming the thin film on the substrate, and a step for patterning the thin film in the same device by using a laser.例文帳に追加

その基板処理方法は、基板を与える段階、基板上に薄膜を形成する段階、及び薄膜を同一装置内においてレーザを用いてパターニングする段階を有する。 - 特許庁

The flexible zone includes at least a portion of the flexible membrane 20 and a conductor 22 formed by patterning the conductor membrane at a suitable stage in the manufacturing method.例文帳に追加

可撓性領域は、可撓性薄膜２０の少なくとも一部分と、製造方法の適切な段階で導体薄膜をパターン化することにより形成した導体２２とを有する。 - 特許庁

To provide a wiring board manufacturing method which can remove catalyst particles on an insulator layer exposed through patterning given to a plating layer, without interfering with a subsequent plating process.例文帳に追加

めっき層をパターン加工して露出した絶縁物層上の触媒粒子を，後のめっき工程に支障を来すことなく除去する配線板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

An epitaxial mask 4 comprising a metallic oxide in major proportions is formed on the substrate 1 by patterning the photosensitive mask layer with a photolithography method and further by conducting an oxidation treatment or a reductional treatment.例文帳に追加

この感光性マスク層をフォトリソグラフィによりパターニングし、更に酸化処理又は還元処理して、基板１上に金属酸化物を主成分とするエピタキシャルマスク４を形成する。 - 特許庁

To provide a method of forming fine patterning of a semiconductor device in which patterns differing in pattern density or pattern width and having various sizes and various pitches are formed on one substrate at the same time.例文帳に追加

同じ基板上にパターン密度またはパターン幅の相異なる多様な大きさ及び多様なピッチのパターンを同時に形成できる半導体素子の微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified photoresist composition suitable for resist patterning on a substrate whose surface has steps, to provide a method for manufacturing a semiconductor device using the composition and to provide a semiconductor substrate.例文帳に追加

表面に段差を有する基板のレジストパターニングに適した化学増幅型フォトレジスト組成物、これを用いた半導体装置の製造方法及び半導体基板を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL element excellent in emission characteristics, by which patterning of an organic EL layer is easy, and a superb change of wettability is obtained.例文帳に追加

本発明は、有機ＥＬ層のパターニングが容易であり、良好な濡れ性の変化が得られ、発光特性に優れる有機ＥＬ素子の製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which enhances the resistance to a developer without increasing a film thickness of a protective film in a double exposure technology, and achieves a micro patterning.例文帳に追加

ダブル露光技術において、保護膜の膜厚を増加せずに現像液耐性を向上させ、微細パターニングを実現する半導体デバイスの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a polishing amount measuring method capable of easily and surely measuring the polishing amount of a thin layer formed by patterning on a substrate and of achieving polishing with high accuracy.例文帳に追加

基板上にパターニングして形成した薄膜の研磨量を容易にかつ確実に測定することを可能とし、高精度の研磨加工を可能にする研磨量計測方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an original pattern for optical elements equipped with a liquid crystal layer which makes it possible to perform patterning with a high efficiency and a high quality, and also provide an original pattern for optical elements.例文帳に追加

効率的にかつ高い品質でパターニングを行うことが可能な液晶層を備えた光学素子用原版の製造方法および光学素子用原版を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a flat and uniform organic EL display element capable of forming a organic layer with corrected patterning error, prevented from the generation of leakage and uneven brightness.例文帳に追加

平坦で均一であり、かつパターニングエラーが補正された有機層の形成が可能であり、リーク、輝度ムラ等の発生が防止された有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method capable of accurately forming a drawing pattern with a desired shape, especially a thick-film and fine-line pattern, while reducing a tact time (the number of processes) and not requiring a pattern forming device with high drawing accuracy.例文帳に追加

タクトタイム（工程数）を低減し、かつ描画精度が高いパターン形成装置を必要とせずに、所望する形状の描画パターン、特に厚膜細線パターンが精度よく形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an organic EL element capable of color-coding, of executing low-cost and large-area patterning, of simply forming organic compound layers, and of increasing the number of layers thereof.例文帳に追加

塗り分けが可能で、低コストで大面積のパターニングが可能であり、簡便に有機化合物層の作成と多層化を行うことができる有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrostatic induction-type power generation element having an electret which is superior in thermal stability of the retained charge and is constituted of a film formed by patterning, and to provide a method of manufacturing the element.例文帳に追加

保持した電荷の熱安定性に優れた、パターニングにより形成された膜から構成されるエレクトレットを具備する静電誘導型発電素子およびその製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a copper coating polyimide film substrate, which does not have a minute depression on a metal layer surface, and to decrease depressions on a metal layer surface and defects at patterning of wiring.例文帳に追加

金属層表面に微小な凹みが無い銅被覆ポリイミドフィルム基板の製造方法を提供し、金属層表面の凹みや配線パターニング時に欠陥を減少させる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method capable of improving the patterning accuracy of charge transferring electrodes, in a solid-state imaging element having the charge transferring electrodes of monolayer electrode structure.例文帳に追加

単層電極構造の電荷転送電極を有する固体撮像素子において、電荷転送電極のパターニング精度を向上させることが可能な製造方法を提供する。 - 特許庁

In a metal gate electrode forming method, a selective oxidation process to silicon which is executed after gate electrode patterning is executed in a gas atmosphere containing gas which contains nitrogen atoms.例文帳に追加

金属ゲート電極形成方法において、ゲート電極パターニング後実施されるシリコンに対する選択的酸化工程を、窒素原子を含有するガスを含むガス雰囲気で実施する。 - 特許庁

To provide a material for forming an insulating layer that enables patterning with a high aspect ratio by an alkali-developing type photolithography method and is excellent in electrical and thermal-mechanical reliability.例文帳に追加

アルカリ現像型のフォトリソグラフィー法によるハイアスペクト比でのパターン加工が可能であり、かつ、電気的・熱機械的な信頼性に優れる絶縁層形成用材料を提供する。 - 特許庁