「patterning method」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of manufacturing a nano-carbon material composite substrate capable of favorably patterning and growing a nano-carbon material on a substrate.例文帳に追加

本発明は、基板にナノ炭素材料を好適にパターニングして成長させること出来るナノ炭素材料複合基板製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern formation method with which it becomes possible to precisely and simply inspect the quality of a process for patterning a photosensitive resin film using a semiconductor lithography technique.例文帳に追加

半導体リソグラフィ技術を用いて感光性樹脂膜をパターニングする工程の良否を正確且つ簡易に検査することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor element in which patterning of a silicon oxide film by photolithographic technique is possible without requiring hydrophobic treatment.例文帳に追加

本発明は、疎水化処理を要することなく、フォトリソグラフィー技術による酸化シリコン膜のパターニングが可能な半導体素子の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To form a device pattern of uniform thickness on a substrate while reducing the production process and production cost in a device patterning method employing a liquid ejection head.例文帳に追加

液体吐出ヘッドを用いたデバイスパターン形成方法において、製造工程および製造コストを抑えつつ、基板上に均一な膜厚のデバイスパターンを形成可能にする。 - 特許庁

To provide: a polymer for a resist suitable for dry exposure, immersion exposure, and double patterning; a resist material including the same; and a pattern formation method using the resist material.例文帳に追加

ドライ露光、液浸露光、ダブルパターンニングに適するレジスト用重合体、それを含むレジスト材料、ならびにそのレジスト材料を用いるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method includes a stage S100 where, on and after the patterning of copper foil, the front face 40 and side face 50 of each copper foil mesh 80 are subjected to coating treatment with an electrically conductive substance 60.例文帳に追加

銅箔のパターン化以後、銅箔メッシュ８０の前面４０及び側面５０を導電性物質６０によってコーテイング処理する段階Ｓ１００を含む。 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION CONTAINING HYDROXY GROUP-SUBSTITUTED BASE POLYMER AND SILICON-CONTAINING CROSSLINKING AGENT HAVING EPOXY RING AND METHOD OF PATTERNING SEMICONDUCTOR ELEMENT USING THE SAME例文帳に追加

ヒドロキシ基で置換されたベースポリマーとエポキシリングを含むシリコン含有架橋剤を含むネガティブ型レジスト組成物及びこれを利用した半導体素子のパターン形成方法 - 特許庁

To provide an etching method for a silver alloy film where, in a silver alloy film having an adhesive layer, a side etching width is reduced, and desired fine patterning is made possible.例文帳に追加

密着層を有する銀合金膜において、サイドエッチング幅を低減せしめ、所望の微細なパターニング加工を可能とする銀合金膜のエッチング方法を提供する。 - 特許庁

In addition, a lift-off method without requiring an etching process for patterning a source electrode and a drain electrode of the pixel part, and source wiring extending in the terminal part is employed.例文帳に追加

さらには、画素部のソース電極及びドレイン電極と端子部に延在するソース配線のパターニングにエッチング工程を必要としないリフトオフ方法を採用する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device whose manufacturing cost is reduced by omitting a step of patterning a mask insulating film for selectively adding 15 group elements.例文帳に追加

１５族元素を選択的に添加するためのマスク絶縁膜のパターニングの工程が不要となることで製造コストを低減した半導体装置の作製方法を提供する。 - 特許庁

The first interlayer insulation film 140 is utilized not only as a patterning mask but also as a barrier for forming a gate electrode 160 by ink jet method.例文帳に追加

この第１層間絶縁膜１４０をパターニング用のマスクとして利用するだけでなく、インクジェット法を用いてゲート電極１６０を形成するための隔壁として利用する。 - 特許庁

To obtain a method of manufacturing a semiconductor device capable of forming dual damascene wiring at high yield by inhibiting patterning failure because of abrasive particles.例文帳に追加

研磨粒子によるパターン形成不良を抑制して、高い歩留まりでデュアルダマシン配線を形成可能な半導体装置の製造方法を得ることを目的とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the fine pattern of the semiconductor device using a double exposure patterning process capable of forming a secondary photoresist pattern by simple exposure without using an exposure mask is disclosed.例文帳に追加

露光マスクなしに単純露光により２次フォトレジストパターンを形成可能な二重露光パターニング工程を用いた半導体素子の微細パターン形成方法が開示される。 - 特許庁

The method includes a step for pattering a substance film to form a substance film pattern after forming the substance film on a wafer having a plurality of independent patterning regions.例文帳に追加

独立した複数のパターニング領域を有するウェーハ上に物質膜を形成した後、物質膜をパターニングして物質膜パターンを形成する段階を含む。 - 特許庁

The method also includes developing design and/or guidelines for splitting a pattern to be processed using the multiple patterning lithographic process based on the evaluation.例文帳に追加

方法は、前記評価に基づいて多重パターニングリソグラフプロセスを用いて処理すべきパターンを分割するための設計及び／又は分割指針を導出することを含む。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device capable of performing precise patterning with improved reproducibility even if a transparent substrate is used, and to provide the semiconductor device.例文帳に追加

透明基板を用いた場合においても、高精度且つ再現性高いパターニングを行なうことが可能な半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁

In addition, the manufacturing process of a digital circuit can be remarkably simplified when embossing lithography is used as the patterning method used on the flexible substrate.例文帳に追加

さらに、フレキシブル基板上で用いられるパターニング方法として、エンボス加工リソグラフィを用いることにより、デジタル回路の製造工程を著しく簡単にすることができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing photomask blanks providing a favorable mask pattern accuracy and pattern transfer accuracy by having a favorable flatness in patterning a light-shielding film.例文帳に追加

遮光膜のパターニング時に良好な平坦度を有することで、良好なマスクパターン精度及びパターン転写精度が得られるフォトマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a multilayer circuit board that enhances the adhesion strength between wiring and an insulating resin film while avoiding a defect in patterning accompanying microfabrication.例文帳に追加

微細化に伴うパターニング不良を回避しながら、配線と絶縁樹脂膜との間の密着強度を高めることができる多層回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve uniformity within a wafer surface in the size of circuit pattern obtained in the trimming process of a photoresist mask formed with a double patterning technology using a freezing method.例文帳に追加

フリージング法を用いたダブルパターニング技術により形成されたフォトレジストマスクのトリミング工程において、得られる回路パターン寸法のウエハ面内の均一性を改善する。 - 特許庁

To provide a method of forming a conductive circuit with high conductivity by patterning a metal particulate dispersed liquid on a substrate in a circuit shape and then heating and sintering the liquid.例文帳に追加

金属微粒子分散液を基板上に回路状にパターニングして、加熱焼成により導電性の高い導電回路を形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a simple method for producing fluorine-containing adamantyl esters having great usefulness as a resist material for patterning of an electronic circuit board which is obtained by polymerizing the esters.例文帳に追加

重合体とすることによって電子回路基板のパターニング用レジスト材料などとして有用性の高いフッ素含有アダマンチルエステル類の簡略な製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which is used as a second resist composition in the formation of a resist pattern through double patterning, and to provide a method of forming a resist pattern.例文帳に追加

ダブルパターニングによるレジストパターンの形成において、第二のレジスト組成物として用いることができるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter array having simplified manufacturing steps, particularly a method for manufacturing the color filter array substrate provided with an overcoat layer having a flat surface, and to provide a thin film patterning apparatus capable of performing the patterning step without using a photolithography step and capable of simplifying the manufacturing step and a method for manufacturing the color filter array substrate utilizing the same.例文帳に追加

本発明は、製造工程を単純化したカラーフィルタアレイ基板の製造方法、特に、平坦面を有したオーバーコート層を備えたカラーフィルタアレイ基板の製造方法、フォトリソグラフィ工程を使用せずにパターニング工程を行えると共に、製造工程の単純化を可能にした薄膜パターニング装置及びそれを利用したカラーフィルタアレイ基板の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an EL element that is capable of forming an organic EL layer in high precision by a photolithography method or the like and also capable of patterning in high precision the second electrode layer that is formed on the organic EL layer by a vapor deposition method.例文帳に追加

有機ＥＬ層をフォトリソグラフィー法等により高精細に形成し、かつ有機ＥＬ層上に蒸着法で形成する第２電極層も高精細にパターニングすることが可能なＥＬ素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a color filter using a negative type photosensitive composition containing colorants for the color filter, the method for manufacturing the color filter realizing satisfactory patterning and having high hardenability resulting in reduced change in film thickness and dispersion.例文帳に追加

カラーフィルター用の着色剤を含有するネガ型感光組成物を用いた、パターニングが良好で、かつ高い硬化性により膜厚変化や分光変化を低減したカラーフィルターの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electromechanical conversion element that carries out selective patterning by simplified steps, and to provide an electromechanical conversion element manufactured by the manufacturing method, a droplet discharging head, and a droplet discharging apparatus.例文帳に追加

簡素化した工程で選択的にパターン化可能な電気機械変換素子の製造方法と、その製造方法により製造した電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

A reducing agent 54 is discharged for patterning by the ink jet method in a groove between partitions 50a and 50b of a glass substrate 50 formed by sandblasting method, that is, a desired region where an electrode is formed (Fig.d).例文帳に追加

サンドブラスト法等により形成されたガラス基板５０の隔壁５０ａ，５０ａ間の溝内、すなわち電極を形成すべき所望の領域に、インクジェット法で還元剤５４を吐出してパターニングする（図１（ｄ））。 - 特許庁

To provide a highly reliable wiring board whose opening shape is proper in patterning of solder resist of the wiring board having a plurality of conductor circuits in a resin insulating layer, and to provide a manufacturing method of the wiring board for improving productivity by a reel-to-reel method.例文帳に追加

樹脂絶縁層に複数の導体回路を有する配線基板のソルダーレジストのパターニングにおいて、開口形状が良好であり、かつ信頼性の高い配線基板を提供するところにある。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a cylindrical aggregate obtained by patterning an oriented carbon nanotube (CNT) and to provide a method for manufacturing a field emission type cold cathode using the aggregate and capable of emitting an electron uniformly at a low voltage.例文帳に追加

配向性カーボンナノチューブ（CNT）のパターン化された柱形状集合体の製造法及びこれを用いた低電圧で均一な電子放出可能な電界放出型冷陰極の製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of preventing resist poisoning and the damage of a low-k dielectric insulating material or at least a method of minimizing the damages in a patterning approach of dual damascene structure using the via first of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体素子のビアファーストを用いたデュアル・ダマシン構造のパターニングの方法において、レジスト汚染と低ｋ誘電体絶縁材料の損傷を避けるか、少なくとも最小にする方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electromechanical conversion element capable of performing selective patterning in a simplified process, the electromechanical conversion element manufactured by the method, and a droplet discharging head and a droplet discharging device.例文帳に追加

本発明は、簡素化した工程で選択的にパターン化可能な電気機械変換素子の製造方法、該製造方法により製造した電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate for a vertical magnetic recording medium being superior in flatness, patterning accuracy, and mechanical strength, and its manufacturing method, and a vertical magnetic recording medium using the substrate and its manufacturing method.例文帳に追加

平坦性、パターニング精度および機械的強度に優れた垂直磁気記録媒体用基板およびその製造方法、並びに、その基板を用いた垂直磁気記録媒体およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a display device, which attains a high yield with a simple process, a liquid crystal display device and a method for patterning a metal film, with which corrosive reduction of a base transparent conductive film is prevented.例文帳に追加

簡易な工程により、高歩留りを実現する表示装置の製造方法、液晶表示装置並びに下地の透明導電膜の腐食還元を防止することができる金属膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for fabricating a flat panel display element which reduce the process time and minimize pattern defects by executing a patterning process by a method of not executing a photolithographic process.例文帳に追加

本発明の目的は、フォト工程を行わない方法で、パターニング工程を実行し、工程時間を減らしてパターン不良を最小化するようにした平板表示素子の製造方法及び装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a resin relief printing plate for forming a large size organic EL element using a relief printing method, in which splay developing method is used when patterning with a photolithographic method to obtain a printing plate with a high pattern accuracy and free from nonuniformity of development, and a relief printing plate obtained by the method.例文帳に追加

サイズが大型化した有機ＥＬ素子を凸版印刷法によって形成するための樹脂凸版を、フォトリソグラフィー法でパターニングする際に、スプレー式現像方法をもちいながら、パターン精度が高く、かつ現像ムラ等を無くした製版を行う方法とその方法で得られる印刷用凸版を提供する。 - 特許庁

The method for patterning on the surface of the rock wool board comprises the steps of forming the stripe-like grooves 2 on the surface of the rock wool board 1 by cutting, and thereafter continuously pressing the stripe-like rugged part by the patterning roll 5 having the pins 4 of different diameters and protruding lengths and implanted thereto to form the rugged pattern 6.例文帳に追加

ロックウール基板１の表面にストライプ状の凹溝２を切削加工で形成し、その後でストライプ状の凹凸部に直径、突出長さの異なるピン４を植設した模様付けロール５で連続的に押圧して凹凸模様６を形成することを特徴とするロックウールボードの表面模様付け方法にある。 - 特許庁

The manufacturing method of an element comprises a step of patterning a mold on a substrate, a step of applying a carbon nanotube in the groove formed by the patterning and on the whole surface of the mold, a step of filling the groove with the carbon nanotube applied on the whole surface of the mold, and a step for removing the mold.例文帳に追加

本発明による素子を製造する方法は、基板の上にモールドをパターニングする段階と、パターニングによって形成された溝及びモールド前面に炭素ナノチューブを塗布する段階と、モールド前面に塗布された炭素ナノチューブを溝に満たして入れる段階及びモールドを取り除く段階を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a patterning method capable of automatically rearranging each warp of a plurality of warp sheets obtained by arranging a plurality of warps in one layer sheet-like shape every raw material to one layer sheet-like shape in the order of predetermined raw material and automatically patterning warp in the order of predetermined raw material.例文帳に追加

複数本の経糸を素材別の一層のシート状に並べてなる複数枚の経糸シートの各経糸を予め定められた素材の順番に経糸を一層のシート状に自動的に並び替えることができ、予め定められた素材の順番に経糸を自動的に柄組みすることができる。 - 特許庁

In a semiconductor production process, the method for patterning protein including a metal on a semiconductor substrate comprises a step for forming a thin film of a charged material on a photoresist, a step for patterning the charged material, and a step for adsorbing supermolecules of protein including a metal to the charged material.例文帳に追加

半導体製造プロセスにおいて、フォトレジスト上に電荷を帯びた材料の薄膜を形成する工程と、該電荷を帯びた材料をパターニングする工程と、金属内包タンパク質超分子を該電荷を帯びた材料に吸着させる工程とを含むことを特徴とする金属内包タンパク質を半導体基板上にパターニングする。 - 特許庁

Namely, although in a prior art manufacturing method of an elastic boundary wave device, patterning which does not cover an electrode with the clad layer is required, when the clad layer is formed, since such a clad layer patterning is not required in this embodiment, the number of processes at the time of manufacturing can be reduced, and this leads to reduction in the manufacturing cost.例文帳に追加

すなわち、従来の弾性境界波デバイスの製造方法では、クラッド層を形成する際、電極をクラッド層で覆わないようにパターニングする必要があったが、本実施の形態ではこのようなクラッド層のパターニングが必要でないため、製造時の工程を削減することができ、製造コストを削減することができる。 - 特許庁

To provide a patterning method which remarkably enhances the productivity of pattern formation to base material, does not require the vacuum environment, allows the pattern to be continuously and stably formed and treated on the base material and enhances the maintenance and to provide a film forming apparatus which performs the patterning.例文帳に追加

基材上へのパターンの形成の生産性を大幅に高めるとともに、真空環境をつくる必要もなく、パターンを基材上に連続的に、安定して形成、処理することができるメンテナンス性の向上したパターニング方法及び該パターニングを行う製膜装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor element comprises a step of cutting one substrate obtained by patterning, and laminating the non-single crystal semiconductor layer containing at least the hydrogen, the group III element and the nitrogen and at least two electrodes, in accordance with the patterning of the semiconductor layer and the electrodes.例文帳に追加

少なくとも水素とＩＩＩ族元素と窒素とを含む非単結晶半導体層及び少なくとも二つの電極をパターニングして積層した、一枚の基板を、前記非単結晶半導体層及び前記電極のパターニングに従って、切断することを特徴とする半導体素子の製造方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes a resist pattern forming step of forming a resist film from the resist composition on a surface to be processed, and exposing and developing the resist to form a resist pattern, and a patterning step of patterning the object surface by etching using the resist pattern as a mask.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、被加工表面上に前記レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成した後、露光し、現像することによりレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、該レジストパターンをマスクとしてエッチングにより被加工表面をパターニングするパターニング工程とを含む。 - 特許庁

To provide a method of improving close adhesiveness between a copper patterning layer and a insulated resin layer without a process to form a coarse surface of the copper patterning layer surface through the chemical process using chemicals for a blackening process of the prior art in order to eliminate the problem that reduction of manufacturing period and manufacturing cost is dented.例文帳に追加

従来の技術の黒化処理等の薬品を用いて化学処理による銅パターン層表面の表面粗化を処理せずに、銅パターン層と絶縁樹脂層の密着力を向上させる方法を提供し、工期短縮と製造コストの削減を損なう問題を解消することにある。 - 特許庁