「patterning method」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a development processing method capable of accurately controlling a line width of a second resist pattern in a second development processing of double patterning by LLE and accurately controlling a line width of a first resist pattern as well.例文帳に追加

ＬＬＥによるダブルパターニングの２回目の現像処理において、２回目のレジストパターンの線幅を精度良く制御でき、１回目のレジストパターンの線幅も精度良く制御できる現像処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical semiconductor device and a method of manufacturing the optical semiconductor device making it possible to precisely carry out a patterning in a manufacturing process of the optical semiconductor device having a light emitting device portion and a functional portion.例文帳に追加

発光素子部と機能部とを有してなる光半導体素子の製造工程において、精密にパターニングすることを可能にする光半導体素子の製造方法および光半導体素子の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a method of growing and patterning nanowire stably at high temperature using a new material that can overcome a problem of instability of conventional lift off material at high temperature.例文帳に追加

従来のリフトオフ材料が持っている高温での不安定性の問題を克服することができる新規材料を利用して、高温で安定してナノワイヤを成長及びパターニングすることができる方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching solution for electrically conductive polymers having excellent etching power to the polymers and provide a patterning method to use the etching solution for conductive polymers.例文帳に追加

導電性高分子に対し優れたエッチング処理能力を有する導電性高分子用エッチング液を提供すること、さらには前記導電性高分子用エッチング液を用いたパターニング方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for patterning, which is adaptable to problems associated with productivity and quality in arranging protrusions for controlling an alignment direction and columnar or rib shaped spacers defining liquid crystal layer thickness in a liquid crystal display.例文帳に追加

液晶ディスプレイにおける、配向方向制御用突起や液晶層厚さを規定する柱状またはリブ状のスペーサを配設する際の生産性や品質の問題に対応できるパターンニング方法を提供する。 - 特許庁

A process of manufacture of an organic EL display device simultaneously performs patterning of a cathode 4 and transferring of a light emitting layer 5 by a transferring method using a laser beam, simplifies the process and improves display performance.例文帳に追加

有機ＥＬ表示装置の製造方法において、レーザー光を用いる転写法により、陰極のパターニングと発光層の転写を同時に行い、プロセスの簡略化と表示性能の向上を実現した。 - 特許庁

The manufacturing method for BiCMOS forms a gate in a CMOS region by patterning a conductive layer for the gate while forming a conductive layer pattern that defines an aperture for opening an active region in a bipolar transistor region.例文帳に追加

ゲート用導電層をパターニングしてＣＭＯＳ領域にゲートを形成すると同時にバイポーラトランジスタ領域の活性領域をオープンする開口部を定義する導電層パターンを形成するＢｉＣＭＯＳ製造方法。 - 特許庁

To provide a method and material for patterning of a polymerizable, amorphous matrix with electrically active material such as a light emitting material disposed therein; and to provide an element formed using the same.例文帳に追加

重合性非晶質母材を前記母材に配置された発光材料など、電気活性材料でパターン化するための材料および方法、並びに前記材料および方法を用いて形成された素子を提供する。 - 特許庁

To provide a polymerizable fluoromonomer and a fluoropolymer for a resist suitable for use in microfabrication by immersion exposure or by a double patterning process based on immersion exposure, a resist material and a method of pattern formation using the same.例文帳に追加

液浸露光や、液浸のダブルパターンニングプロセスで行われる微細加工に適するレジスト用の含フッ素重合性単量体および含フッ素重合体、それらを使ったレジスト材料及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new method and an instrument used therefor, performing comparatively easily a processing for patterning a physiologically active substance or a functional organic material such as a protein on a substrate, while keeping activity thereof.例文帳に追加

タンパク質等の生理活性物質又は機能性有機材料を、それらの活性を保持したまま基板上にパターニングできる処理操作が比較的容易である新規な方法及びそれに用いる器具を提供すること。 - 特許庁

To provide an electrochromic display device, capable of suppressing movement of a charge held in an electrochromic layer to an adjacent pattern via a display electrode, by only patterning of one electrode, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

一方の電極のパターンニングだけで、エレクトロクロミック層に保持されていた電荷が表示電極を介して隣のパターンに移動することを抑制可能なエレクトロクロミック表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL display which can simultaneously perform a formation of a hole injection layer and an addition of liquid-repellent on a barrier, thereby forming an organic EL element with high patterning accuracy.例文帳に追加

正孔注入層の形成と隔壁上における撥液性の付与とを同時に行うことができ、高いパターニング精度で有機ＥＬ素子を形成することができる有機ＥＬディスプレイの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laminate for forming a substrate with wiring having a low resistance, excellent patterning performance and high resistance properties to the ozone generated as a result of cleaning by irradiation with UV rays, the substrate with wiring and a method of forming the same.例文帳に追加

低抵抗でパターニング性能に優れ、かつ、紫外線照射による洗浄などで発生するオゾンに対して耐性の高い、配線付き基体形成用積層体、配線付き基体およびその形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a patterning process without causing a deformation of a resist pattern and an increase in LWR (line width roughness) in forming a silicon oxide film on a photoresist pattern, in a sidewall spacer method.例文帳に追加

側壁スペーサー法において、フォトレジストパターン上に珪素酸化膜を形成したときのフォトレジストパターンの変形やＬＷＲの増大を防ぐことができるパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a deposited mask that allows high-accuracy patterning, and has a thin precise pattern mask, and its manufacturing method, and to provide organic electroluminescent equipment with a high numerical aperture by using the deposited mask.例文帳に追加

高精度のパターニングが可能な、薄い精密パターンマスクを有する蒸着マスクとその製造方法を提供すること、その蒸着マスクを使用することで開口率の高い有機電界発光装置を提供すること。 - 特許庁

The method and the equipment for lithography comprises an illumination system which supplies a beam of radiation, a patterning device which patterns the beam, and a projecting system which projects the patterned beam on the target of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィの方法及び装置は放射線のビームを供給する照明システム、ビームにパターン形成するパターン形成デバイス、及び、パターン形成されたビームを基板の目標部分上に投影する投影システムを含む。 - 特許庁

To provide a simple and easy method by which pattern edges can be sharply exposed at a user's request in a patterning technique by photolithography in the vacuum deep UV region, therefore a fine pattern can be accurately formed.例文帳に追加

真空深紫外線領域でのフォトリソグラフィー手法によるパターニング技術において、パターン端が所望通りに綺麗に露光でき、もって微細なパターンを正確に描画できる簡便な手法の確立が課題である。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a transparent substrate with a circuit pattern, having a circuit pattern not generating a disconnection when used as an electrode of an electronic circuit, etc., without pattern exfoliation and residual resist, and with good patterning accuracy.例文帳に追加

パターン剥がれやレジスト残りがなくパターン精度が良好で、電子回路等の電極として用いたときに断線を生じない回路パターンを有する回路パターン付き透明基板を製造する方法の提供。 - 特許庁

In a lithography method for manufacturing such product as a semiconductor device or a mask for lithography, etc., a material is applied to a substrate for patterning, and a product is manufactured by a series of steps using a patterned layer.例文帳に追加

半導体デバイス又はリソグラフ用マスクのような製品を製造するためのリソグラフ方法において、基板上に材料を塗布し、パターン付けし、パターン付層を用いる一連のステップにより製品を製造する。 - 特許庁

According to the principle of this invention, it becomes possible to form the low resistance metallic film on the whole surface of the data wiring and the source electrodes by using a diffracting exposure method in the process for patterning the data wiring and the source electrodes.例文帳に追加

本発明の原理に従えば、データ配線及びソース電極をパターンする工程で回折露光方式を用いて、データ配線及びソース電極の全面に低抵抗金属膜を形成することが可能となる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor element that prevents a tunnel insulating film formed on a lower part thereof from being damaged when patterning a charge storage film.例文帳に追加

本発明は、電荷貯蔵膜をパターニングする時に下部に形成されたトンネル絶縁膜が損傷するのを防止することができる半導体素子の製造方法を提供することを可能にすることを目的としている。 - 特許庁

A manufacturing method of a semiconductor device comprises a process of forming the wiring layer on a semiconductor substrate, a process of patterning the wiring layer, and a process of covering the wiring layer with a protective insulating film.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置の製造方法は、半導体基板上に配線層を形成する工程と；前記配線層をパターニングする工程と；前記配線層を保護絶縁膜で覆う工程とを含む。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a semiconductor device, which can form dual oxide by a simplified process of forming and patterning a protection film such as a photosensitive organic film and forming an oxide film once.例文帳に追加

感光性有機膜等の保護膜の成膜及びパターニングと１回の酸化膜形成という単純化された工程によってデュアルオキサイドを形成することができる半導体装置の製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a TFT array substrate in which a process is simplified by directly exposing and patterning a protective film without using a photoresist, and the unit price of the process is reduced, and also to provide its manufacturing method.例文帳に追加

フォトレジストを用いることなく保護膜を直接露光及びパターニングすることによって工程を簡素化し工程単価を節減することができるＴＦＴアレイ基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method in which metal elements composing an anti-diffusion layer are prevented from diffusing into other layer by forming a more compact anti-diffusion layer exhibiting good adhesiveness, and to provide an electronic device and an electronic apparatus.例文帳に追加

より緻密でかつ密着性の良い拡散防止層を形成し、拡散防止層を構成する金属元素が他の層に拡散することを防止したパターン形成方法、電子デバイス、及び電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive pattern generation method that eliminates the need for using a printer for patterning and its complicated process, and enables easy generation and miniaturization of conductive patterns.例文帳に追加

パターニングのための印刷装置を用いず、またそれによる複雑な処理工程を必要とすることなく、導電パターンの生成を簡易に行え、導電パターンの微細化を実現できる導電パターンの生成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method in which metal elements composing an anti-diffusion layer are prevented from diffusing into other layer by forming a more compact anti-diffusion layer exhibiting good adhesiveness, and to provide an electronic device and an electronic apparatus.例文帳に追加

より緻密でかつ密着性の良い拡散防止層を形成し、拡散防止層を構成する金属元素が他の層に拡散することを防止したパターン形成方法、薄膜トランジスタ、及び電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin film transistor where it is not necessary to execute a plurality of photo-lithograph processes, and it realizes increase in the margin of patterning in a process for forming the gate electrode of a linewidth area whose microfabrication is progressed.例文帳に追加

微細化が進んだ線幅領域のゲート電極の形成工程において、複数回のフォトリソグラフ工程が不要であり、パターニングのマージンを拡大できる薄膜トランジスタの作製方法を提供する。 - 特許庁

In a substrate forming method, a layer of a radiation sensitive material is arranged on a substrate surface, and is exposed by a patterning device (a lithography device) having a calibration pattern including a first set of pattern features and a second set of pattern features.例文帳に追加

基板形成方法は放射感応性材料の層を基板表面に設け、第一セットのパターンフィーチャ及び第二セットのパターンフィーチャを含むキャリブレーションパターンをもつパターンニングデバイス（リソグラフィ装置）により露光する。 - 特許庁

This method has a process of forming an insulating layer on a base on which bumps for interlayer connection are formed, a process of sandwiching the base with stainless plates to thermocompression-bond a copper foil onto the insulating layer, and a process of patterning the copper foil.例文帳に追加

層間接続のためのバンプが形成された基材上に絶縁層を形成する工程と、ステンレス板で挟み込み絶縁層上に銅箔を熱圧着する工程と、銅箔をパターニングする工程とを有する。 - 特許庁

To provide a method for forming a microparticle-adsorbed pattern whereby functional microparticles can be tightly adsorbed on an arbitrarily selected region irrespectively of its area, and a functional patterning material having a wide scope of application can be obtained.例文帳に追加

面積に係わらず、選択的な任意の領域に機能性微粒子を強固に吸着させることができ、応用範囲の広い機能性パターン材料を得られる微粒子吸着パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a simple processing method for patterning a chopstick, having excellent designability due to a synergistic effect of a combined pattern using a plurality of tubular films to which a pattern is applied and a pattern layer being a base.例文帳に追加

模様が施された複数のチューブ状フィルムと下地である模様層とを使った組み合わせ模様による相乗効果により、優れた意匠性を有する箸の簡単な模様付け加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a film pattern on a substrate in which a thin film of fine and thin line can be formed conveniently while preventing or suppressing aggregation of patterning material particles.例文帳に追加

基板上に膜パターンを形成するに際し、薄膜で、微細且つ細線な膜を簡便に形成することが可能で、パターン形成用の材料粒子の凝集を防止ないし抑制することが可能な方法を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner which can control a patterning dimension of a layered substrate having a plurality of layers formed on a substrate by exposure to be within a specified range, and to provide a method for manufacturing a layered substrate.例文帳に追加

基板上に複数の層が露光処理によって形成されてなる積層基板のパターニング寸法を、所定の範囲内に調整できる露光装置、および、上記積層基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method further includes: patterning the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; and projecting the patterned radiation beam onto a target portion of a substrate.例文帳に追加

この方法はさらに、放射ビームの断面がパターンを有するように放射ビームをパターニングして、パターニングされた放射ビームを形成すること、および、パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分上へ投影することを含む。 - 特許庁

To provide a wiring board incorporating semiconductor element components which can enhance degree of freedom in patterning of wiring by narrowing the area of a connection conductor connected with an terminal of the semiconductor element component, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

半導体素子部品の端子に接続される接続導体を面積狭小化して配線パターン形成の自由度を向上することができる部品内蔵配線板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a conductive material having superior conductivity and adhesion by forming an ink reception layer with good fixability on a substrate, and patterning and baking a metal particulate dispersion on the substrate.例文帳に追加

基板上に定着性に優れるインク受容層を形成後、該基板上に金属微粒子分散液をパターニングして、焼成する導電性と密着性に優れる、導電材の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method capable of accurately processing a processing object layer even when the processing object layer is formed by containing a material unsuitable for a wet process or a material having a large amount of etching shift.例文帳に追加

被加工層がウエットプロセスに適さない材料、またはエッチングシフト量の多い材料を含んで構成されている場合であっても、高精度に被加工層を加工することを可能とするパターニング方法を提供する。 - 特許庁

A method of using photoresist-type material, not only as a usual patterning material but also as an insulator interposed between magnetic layers or conductive layers and/or a planar material and including the formation of a multilayered element, is provided.例文帳に追加

フォトレジスト型材料が、従来のパターニング材料としてだけではなく、磁気層間または導電層間の絶縁および／またはプレーナ化材料としても使用される、多層素子の形成を含む方法が提供される。 - 特許庁

To provide a depositing method of a self-aggregate single molecule layer on a metal oxide using the micro-contact printing in the patterning substantially of the derivative and the surface, and a derivative substance manufactured thereby.例文帳に追加

本発明は、概ね誘導および表面のパターン化に関し、マイクロコンタクト・プリンティングを用いる金属酸化物に自己集合分子単一層の形成方法およびこれらにより製造された誘導体物体を提供する。 - 特許庁

To provide a fine patterning method for a semiconductor element by which a problem that critical dimension (CD) becomes poor by superimposition is eliminated to form a pattern finer than resolution of an exposure process.例文帳に追加

本発明は、重畳(overlay)により臨界寸法(Critical Demension; ＣＤ)が不良になる問題を除去し、露光工程の解像度より微細なパターンを形成することができる半導体素子の微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the thin-film transistor includes: a step of forming a semiconductor thin film of a zinc oxide-tin compound doped with boron on a substrate; and a step of patterning the semiconductor thin film to form a channel.例文帳に追加

本発明による薄膜トランジスタの製造方法は、基板上にボロンドープされた酸化亜鉛−スズの化合物で半導体薄膜を形成するステップと、半導体薄膜をパターニングし、チャネルを形成するステップとを含む。 - 特許庁

In the method for patterning a chemically amplifying type resist by using an antireflection film containing a photoacid producing agent as a base layer, the antireflection film in the region where a sparse pattern is to be formed is preliminarily subjected to alkali treatment.例文帳に追加

光酸発生剤を含有する反射防止膜を下地層として用いた化学増幅型レジストのパターニング方法において、疎なパターンを形成する領域の反射防止膜に対しあらかじめアルカリ処理を行う。 - 特許庁

In a method of forming a dielectric, the first and second layers are formed on a glass substrate, the second layer is developed after receiving light for patterning, and the first and second layers are baked collectively.例文帳に追加

さらに、第１の層と第２の層とをガラス基板上に設け、第２の層を光照射後現像してパターニングした後、第１の層と第２の層を一括して焼成する誘電体の形成方法を提供する。 - 特許庁

In a reticle contraction correction model for describing contraction amounts of two reticles used in a double patterning method, parameters relating to contraction (reticle contraction correction parameters (a time constant and a saturation value)) are optimized.例文帳に追加

ダブルパターニング法において使用される２つのレチクルのそれぞれの伸縮量を記述するレチクル伸縮補正モデルについて、伸縮に係るパラメータ（レチクル伸縮補正パラメータ（時定数と飽和値））を最適化する。 - 特許庁