「patterning method」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of manufacturing the same of a nanoparticle thin film pattern which makes fine patterning possible, a circuit pattern forming method, a nanoparticle thin film suited to it, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

微細なパターンニングを可能とするナノ粒子薄膜パターンの製造方法、回路パターン形成方法およびこれに適したナノ粒子薄膜およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new pattern forming method in which the number of steps in a double patterning method can be reduced and to provide a material for forming a coating film suitably used for the pattern forming method.例文帳に追加

ダブルパターニング法における工程数を低減できる新規なパターン形成方法、及び該パターン形成方法に好適に用いられる被覆膜形成用材料を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern measuring device for appropriately evaluating a pattern formed by a double patterning method prior to transfer using a mask, or appropriately evaluating the deviation of the pattern formed by the double patterning method.例文帳に追加

本発明は、ダブルパターニング法によって形成されるパターンの評価を、マスクを用いた転写前に適正に行うパターン測定装置、或いはダブルパターニング法によって形成されるパターンのずれの評価を適正に行うパターン測定装置の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a method for patterning by dry etching capable of easily forming a mask with a taper-shaped side face on a member to be etched with a hollow and well performing the patterning, a mold used for it and a method for manufacturing an inkjet head.例文帳に追加

空洞を有する被エッチング部材上にテーパー形状の側面を有するマスクを容易に形成して良好にパターニングを行うことができるドライエッチングによるパターニング方法及びそれに用いるモールド並びにインクジェットヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of patterning a thin film includes a process for laminating a deposition film 30 on the thin film 20, a process for laminating a photo resist layer 40 on the deposition film, a process for patterning the photoresist layer by photolithography, and etching and patterning the deposition film by using the patterned photoresist layer, and a process for etching and patterning the thin film by using the patterned deposition film as a pattern mask.例文帳に追加

薄膜２０上に、蒸着膜３０を積層する工程と、 前記蒸着膜上に、フォトレジスト層４０を積層する工程と、 フォトリソグラフィにより、前記フォトレジスト層をパターニングし、パターニングされた前記フォトレジスト層を用いて前記蒸着膜をエッチングしてパターニングする工程と、 パターニングされた前記蒸着膜をパターンマスクとして、前記薄膜をエッチングしてパターニングを行う工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

This optimization method records control variables such as a control dose and a focal point, in each of processes in a double patterning lithographic process, and measures characteristics of intermediate features such as a critical dimension and a sidewall angle in a double patterning process.例文帳に追加

ダブルパターニングリソグラフィプロセスにおける工程のそれぞれにおける制御線量、焦点等の制御変数が、記録され、ダブルパターニングプロセスにおける、クリティカルディメンション、側壁部角度等の中間フィーチャの特性が、測定される。 - 特許庁

Contact holes 12 and 13 are formed and patterning formation of a pixel electrode 16a is performed and patterning of a current source line 18 and an electroluminescence line 19 is performed by an electrolytic plating method, to the surface layer of a prepared transistor array substrate 1.例文帳に追加

この製造したトランジスタアレイ基板１の表層に対して、コンタクトホール１２，１３を形成し、更に画素電極１６ａをパターニング形成し、電解メッキ法により電流源ライン１８及びＥＬライン１９をパターニングする。 - 特許庁

For the surface layer of this manufactured transistor array substrate 1, contact holes 12 and 13 are formed, the patterning forming is carried out for a pixel electrode 16a, and the patterning is carried out for a current source line 18 and an EL line 19 by means of the electrolytic plating method.例文帳に追加

この製造したトランジスタアレイ基板１の表層に対して、コンタクトホール１２，１３を形成し、更に画素電極１６ａをパターニング形成し、電解メッキ法により電流源ライン１８及びＥＬライン１９をパターニングする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a selective reflection film, by which a uniform hue with high color purity (in particular a green or a red hue) is obtained and color separation (patterning) is carried out with high accuracy without being affected by irradiation unevenness or the like in patterning.例文帳に追加

パターニング時の照射ムラ等の影響を受けることなく、均一で色純度の高い色相（特に緑色若しくは赤色）が得られ、色分画（パターニング）を高精度に行い得る選択反射膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for smoothly patterning a glass film comprising Bi_2O_3 or the like, and to provide a glass optical amplification waveguide using the glass film.例文帳に追加

Ｂｉ_２Ｏ_３他含有ガラス膜を平滑にパターニングする方法及び当該ガラス膜を用いたガラス光増幅導波路の提供。 - 特許庁

To carry out a surface treatment at a low cost by a method which enables the control of liquid-repellency in patterning using an ink-jet manner.例文帳に追加

インクジェット方式を用いたパターニング方式においける表面処理を低コストでかつ撥液性の制御可能な方法で行うこと。 - 特許庁

To provide a method of producing a patterned birefringent product using a cholesteric structure efficiently in orientation and patterning processes.例文帳に追加

コレステリック構造を用いた複屈折パターンを有する物品を、配向、パターニングの工程において効率よく製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a display device in which a side etching of a laminated structure is prevented and a good shaped patterning can be made possible.例文帳に追加

積層構造のサイドエッチングを防止して良好な形状にパターニングすることができる表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for patterning a surface which can keep the etching selection ratio of a substrate to a mask high irrelevantly to a mask opening rate.例文帳に追加

マスク開口率によらずにマスクに対する基板のエッチング選択比を高く保つことができる表面パターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for detecting a defect in a mask by patterning a reference substrate by using the mask immediately after the mask is manufactured.例文帳に追加

マスクの製造の直後に、マスクによって参照基板をパターン形成するマスクの欠陥を検出する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for patterning a carbon nanotube certainly at a predetermined position while keeping perpendicularity of the carbon nanotube.例文帳に追加

カーボンナノチューブの垂直性を維持しつつ所定の位置に確実にカーボンナノチューブのパターンニングを行うことができる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device for improving patterning accuracy in the vicinity of a chip outer edge, and also to provide a template for imprint.例文帳に追加

チップ外縁付近のパターニング精度を向上させる半導体装置の製造方法及びインプリント用テンプレートを提供する。 - 特許庁

To provide a conductor clad laminated sheet reduced in its dimensional change at the time of patterning of a conductor film, and its manufacturing method.例文帳に追加

導体フィルムのパターニング時の寸法変化が低減された導体張積層板およびその製造方法を提供することである。 - 特許庁

Then, the binary coded pattern index of inputted information is found in an input pattern index part 100 by the similar patterning method.例文帳に追加

そして、入力する情報の２進符号化パターン・インデックスを、同様のパターン化手法で、入力パターン・インデックス部１００において求める。 - 特許庁

To enable processes, where a light transmitting film is patterned to be lessened in number in a semiconductor device manufacturing method that comprises film patterning processes.例文帳に追加

膜のパターニング工程を含む半導体装置の製造方法に関し、光透過性の膜をパターニングの際の工程を減らすこと。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of suppressing the agglomeration of a silicon layer without patterning the silicon layer.例文帳に追加

シリコン層のパターニングを行うことなく、シリコン層の塊状化を抑制することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The nitride film 28 is formed by patterning the silicon nitride film deposited by a plasma CVD method so that the channel of the transistor T may be covered.例文帳に追加

窒化膜２８は、プラズマＣＶＤ法により堆積したシリコン窒化膜をトランジスタＴのチャンネル部を覆うようにパターニングして形成する。 - 特許庁

SUBSTRATE FOR PATTERNING ORGANIC THIN FILM, ORGANIC FIELD LIGHT-EMITTING ELEMENT AND ITS MANUFACTURING METHOD, ORGANIC EL DISPLAY, AND ORGANIC EL ILLUMINATION例文帳に追加

有機薄膜パターニング用基板、有機電界発光素子およびその製造方法、並びに有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ照明 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device for achieving a fine-pitch pattern and improving stability in patterning precision.例文帳に追加

微細ピッチのパターンを実現可能であってパターニング精度の安定性を向上できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inkjet recording method capable of easily securing suitable quality in patterning to a building material.例文帳に追加

建築材に対する模様付けにおいて好適な品質を容易に確保できるインクジェット記録方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor element in which the electrical characteristics of patterns formed by a double patterning process can be controlled, and also to provide a method of controlling the patterns.例文帳に追加

ダブルパターニングされたパターンの電気的特性をコントロール可能な半導体素子及びそのパターンコントロール方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for etching a wafer with the use of an advanced-patterning-film (APF) in order to reduce a curvature and to improve a ratio between an upper part and a lower part.例文帳に追加

湾曲を軽減し上下比を改善するためにアドバンスドパターニングフィルム（ＡＰＦ）を用いてウェハをエッチングする方法である。 - 特許庁

To reuse sand blasting waste generated in mass quantity in patterning a rib of a plasma display panel in a sand blasting method.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルのリブをサンドブラスト加工法でパターニングする際に大量に発生するサンドブラスト廃材の良好な再利用を図る。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which has an electrode of a low resistance and can reduce the number of patterning processes, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

低抵抗な電極部を有し、且つパターニング工程数の削減可能な半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an anode for a lithium metal polymer secondary battery made of anode current collector with surface patterning, and manufacturing method of the same.例文帳に追加

表面パターニングされた負極集電体からなるリチウム金属ポリマー二次電池用の負極及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a piezoelectric vibrator having excellent characteristics, while patterning of a photoresist layer can be accurately performed.例文帳に追加

フォトレジスト層のパターンニングを精度良く行うことができ、特性の良い圧電振動子の製造方法を提供するためのものである。 - 特許庁

To provide a method of forming an electrode for a gas discharge panel in which an oxidization of a copper layer side exposed by patterning can be prevented.例文帳に追加

パターニングによって露出したＣｕ層の側面の酸化を防ぐことができるガス放電パネルの電極形成方法を提供する。 - 特許庁

The method also comprises the step of patterning a three-layer nonmetallic film 6 below the same resist pattern 9 by plasma etching (second stage of second etching).例文帳に追加

さらに、同一のレジストパターン９下で、プラズマエッチングにより下方の三層非金属膜６をパターニングする（第２のエッチングの第２段階）。 - 特許庁

To provide a hologram exposure device and a hologram exposure method capable of precisely forming holograms in a multiple patterning hologram optical element.例文帳に追加

多面付けホログラム光学素子に精度良くホログラムを形成することができるホログラム露光装置およびホログラム露光方法を提供する。 - 特許庁

As a result, the circuit can be formed at the internal surface of the insulating base material 4 in the three-dimensional shape with the patterning method using the electromagnetic wave.例文帳に追加

この結果、電磁波を用いたパターニング方法で立体形状の絶縁基材４の内面に回路形成を行なうことができる。 - 特許庁

To provide an imprint mold suitable for micro patterning, a production method therefor, and a patterned body produced using an imprint mold.例文帳に追加

微細なパターンの形成に好適なインプリントモールド及びその作製方法、インプリントモールドを用いて製造されるパターン形成体を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern by which a fine resist pattern with excellent lithography properties can be formed in a double patterning process.例文帳に追加

ダブルパターニングプロセスにおいて、微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて形成できるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for fabricating a semiconductor device in which fine patterning can be used while eliminating short-circuiting of a gate electrode and a contact member.例文帳に追加

ゲート電極とコンタクト部材との短絡のない、かつ、微細化にも対応しうる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new pattern forming method that can reduce the number of steps in a double patterning method, and to provide a material for forming a metal oxide film suitably used for the pattern forming method, and a use method of the material.例文帳に追加

ダブルパターニング法における工程数を低減できる新規なパターン形成方法、該パターン形成方法に好適に用いられる金属酸化物膜形成用材料およびその使用方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ink composition for reverse printing which allows for printing with uniform thickness and high definition patterning, and to provide a printing method and a manufacturing method of a display device.例文帳に追加

均一な膜厚かつ高精細なパターニングで印刷を行うことができる反転印刷用インキ組成物，印刷方法および表示装置の製造方法を提供する - 特許庁

To provide removal plate cleaning method and device for a removal plate, inexpensively patterning a plurality of substrates highly accurately by using a reverse relief printing plate printing method.例文帳に追加

反転凸版印刷法を用いて安価に複数枚の高精細なパターニングを可能とする、除去版の除去版洗浄方法及び除去版洗浄装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a masking coating on a metal surface by an inkjet method, that is, means for heightening the patterning precision of the masking coating and making the surface smooth.例文帳に追加

インクジェット方式で金属表面にマスキング皮膜を形成する方法であって、マスキング皮膜のパターニング精度を高め、かつ表面を平滑にする手段を提供すること。 - 特許庁

To provide a patterning method for easily forming a fine pattern on a surface having a three-dimensional spread, a wiring substrate using the method, and to provide an electronic apparatus.例文帳に追加

容易に３次元的な広がりを持った面に対し微細パターンを形成することができるパターン形成方法、該方法を用いた配線基板及び電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a thick film capable of patterning in a great film thickness and to provide a a multicolor light emitting device using the manufacturing method and a screen printing plate using the device.例文帳に追加

高膜厚でパターニングできる厚膜の製造方法を提供し、前記製造方法を利用した多色発光装置とこれに用いるスクリーン印刷版を提供する。 - 特許庁

To provide a screen mask for vapor deposition, capable of meeting the recent demand for high definition patterning and contributing to cost reduction, a vapor deposition method, and a method for manufacturing an organic EL(electroluminescent) device.例文帳に追加

高精細なパターニングに対応可能で、コスト低減に寄与することができる蒸着用スクリーンマスク、蒸着方法及び有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁