「second layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

A second metallic layer 9 is then deposited on the first metallic layer 7 and the adhesive layer so as to cover a most part of the first layer.例文帳に追加

続いて、第１の層の大部分を覆うように第１の金属層７と接着層に第２の金属層９を堆積する。 - 特許庁

The first semiconductor layer 3, the second semiconductor layer 4, the third semiconductor layer 5, and the fourth semiconductor layer 6 contain a nitride semiconductor.例文帳に追加

第１半導体層３、第２半導体層４、第３半導体層５及び第４半導体層６は、窒化物半導体を含む。 - 特許庁

The element comprises the electron transport layer including the fullerene and a second conductive layer zoning a negative electrode layer on the electron transport layer.例文帳に追加

この素子には、フラーレンを含む電子輸送層と、電子輸送層上の陰極電極層を画定する第２の導電性層がある。 - 特許庁

An n-type source region 4 is formed to be a multilayer structure having a first layer 4a as an upper layer and a second layer 4b as a lower layer.例文帳に追加

ｎ型ソース領域４を上層部となる第１層４ａおよび下層部となる第２層４ｂを備えた多層構造にする。 - 特許庁

In the laminated piezoelectric element 10, a surface electrode layer 11 is located to a first layer, and a piezoelectric layer 12 is arranged to a second layer.例文帳に追加

積層圧電素子１０においては、第１層に表面電極層１１が配置され、第２層に圧電層１２が配置されている。 - 特許庁

The base material layer 12 has three-layered structure consisting of the first polyolefin layer 121, barrier layer 122, and second polyolefin layer 123.例文帳に追加

基材層１２は、第一のポリオレフィン層１２１、バリア層１２２および第二のポリオレフィン層１２３からなる３層構成となっている。 - 特許庁

An electron supply layer 12 that is a second semiconductor layer is formed on an electron transit layer 11 that is a first semiconductor layer.例文帳に追加

第１の半導体層である電子走行層１１上に、第２の半導体層である電子供給層１２が形成されている。 - 特許庁

The current confining layer 18 includes a first semiconductor layer 18A, a second semiconductor layer 18B and a third semiconductor layer 18C.例文帳に追加

電流狭窄層１８は、第１の半導体層１８Ａと、第２の半導体層１８Ｂと、第３の半導体層１８Ｃとを有する。 - 特許庁

An insulation layer 5 and a wiring layer 8 are formed on the second resin layer, and a first semiconductor chip 10 is mounted on the wiring layer.例文帳に追加

第２の樹脂層上に絶縁層５および配線層８を形成し、配線層上に第１の半導体チップ１０を実装する。 - 特許庁

A 2DEG layer 8 is formed along a hetero-junction surface between the electron travelling layer 3 and the electron supply layer (second semiconductor layer) 6.例文帳に追加

電子走行層３と電子供給層（第２の半導体層）６とのヘテロ接合面に沿って２ＤＥＧ層８が形成される。 - 特許庁

A passivation layer (18) sticks to the dielectrics layer, while a second thick dielectrics layer (20) is formed on the surface of the passivation layer.例文帳に追加

パシベーション層（１８）は誘電体層の上に付着され、第２の厚い誘電体層（２０）はパシベーション層の表面上に形成される。 - 特許庁

A second conductive layer 7 is disposed on the second conductive interlayer insulating film 6.例文帳に追加

第二導電層７が第二の導電層間絶縁膜６上に配置されている。 - 特許庁

The second light diffusion layer 5 is configured of a second polarizing plate 51 and a light diffusion film 52.例文帳に追加

第２光拡散層５は、第２偏光板５１と、光拡散膜５２とから構成する。 - 特許庁

The second wiring layer is not provided with wiring in the upper part of the second element region 1b.例文帳に追加

第２配線層は、第２素子領域１ｂの上方には配線を具備していない。 - 特許庁

Each of the second portions has a portion overlapping the second semiconductor layer when viewed from the stack direction.例文帳に追加

第２部分は、積層方向にみたときに、第２半導体層と重なる部分を有する。 - 特許庁

The second alignment layer is made of a plurality of second one-dimensional nano-structures which are aligned.例文帳に追加

前記第二配向層は、整列した複数の第二一次元ナノ構造体からなる。 - 特許庁

The protective layer is disposed on the second electrode and covers at least a part of the second electrode.例文帳に追加

保護層は第２電極上に配置され、第２電極の少なくとも一部をカバーする。 - 特許庁

A second VCC through-hole 19 is also provided between the second VCC layer 17 and the pad 5.例文帳に追加

第２ＶＣＣ層１７とパッド５の間には第２ＶＣＣスルーホール１９が設けられる。 - 特許庁

A material of the second semiconductor region 24 is different from that of the second mask layer 25a.例文帳に追加

第２の半導体領域２４の材料は、第２のマスク層２５ａの材料と異なる。 - 特許庁

The second electrode 18 is formed of a free ferromagnetic layer 28 of second thickness t2.例文帳に追加

第２電極（１８）は、第２厚さ（ｔ２）を有する自由強磁性層（２８）より成る。 - 特許庁

Next, a second electric conduction film 28B is made to laminate via a second insulating layer 17B.例文帳に追加

次に、第２の絶縁層１７Ｂを介して第２の導電膜２８Ｂを積層させる。 - 特許庁

In the present step, second grooves 7a are not yet formed in the second layer 7.例文帳に追加

本工程において、第２の層７には、まだ第２の溝７ａは形成されていない。 - 特許庁

A second dielectric substance layer 36 lies on the mutual connection line 32 and is provided with a second groove 38 therein.例文帳に追加

第２の誘電体層が相互接続ライン上にあり、その中に第２の溝をもつ。 - 特許庁

The second wiring is formed in the second direction in one another layer of the flexible film.例文帳に追加

第２配線は、前記フレキシブルフィルムの他の一つの層に第２方向に形成されている。 - 特許庁

A second speedy thermal treatment is executed and a titanium silicide layer changes to a second form.例文帳に追加

第２の急速な熱処理が行われ、ケイ化チタン層が第２の形態に変化する。 - 特許庁

On the other hand, a second wiring 28B is connected to the end of the second electrode layer 23.例文帳に追加

一方、第２の電極層２３の端部には、第２の配線２８Ｂが接続される。 - 特許庁

A second PV cell including a negative electrode, a second dye layer, and a positive electrode is also formed.例文帳に追加

陰極、第２の色素層および陽極を含む第２のＰＶセルも形成される。 - 特許庁

The second conductive layer 40 is provided with a second connecting part 41 and a second contact 42 is formed above the second connecting part 41.例文帳に追加

第２導電層４０には第２接続部４１が設けられ、第２接続部４１の上方には第２コンタクト４２が形成されている。 - 特許庁

The first recording layer 12 provided with guide vallyes 12A existing between first and second light transparent layers 10 and 14 and the second recording layer 16 on the surface of the opposite second recording layer 14 are formed.例文帳に追加

光記録媒体は多数の記録層の中少なくとも一つ以上の記録層が入射光が強いと反射率が高い非線形光学特性を持つ物質で形成させた。 - 特許庁

A second base material is prepared which has a second insulating layer 101b and a second conductor layer 100b formed on one surface in a thickness-direction of the first insulating layer 101b.例文帳に追加

第二の絶縁層１０１ｂと、第二の絶縁層１０１ｂの厚さ方向の一方の面に形成された第二の導体層１００ｂとを有する第二の基材を用意する。 - 特許庁

Likewise, a second reaction layer is formed at a discharge device 120g, a second gas diffusion layer, at a discharge device 120h, and a second current-collecting layer, at a discharge device 120i.例文帳に追加

同様に、吐出装置１２０ｇにおいて第２の反応層を、吐出装置１２０ｈにおいてガス拡散層を、吐出装置１２０ｉにおいて第２の集電層を形成する。 - 特許庁

The laminated structure 10 comprises a first-conductivity first cladding layer, a second-conductivity second cladding layer, and an active layer 15 held by the first and second cladding layers.例文帳に追加

積層構造１０は、第１導電型の第１のクラッド層と、第２導電型の第２のクラッド層と、第１および第２のクラッド層に挟まれた活性層１５とを有している。 - 特許庁

The second core 3 includes a second superconductive layer 3a used as a returning line or a neutral conductor in DC feeding, and has no superconductive layer other than the second superconductive layer 3a.例文帳に追加

第二コア3は、直流送電において帰路線路又は中性線に用いられる第二超電導層3aを具え、第二超電導層3a以外の超電導層を有していない。 - 特許庁

The second recording structure includes a second recording layer disposed between the substrate and the cap layer, and Nb_2O_5 interface layers disposed between the substrate and the cap layer and between the second recording layers.例文帳に追加

第２記録構造が、基板およびキャップ層間に配置される第２記録層と、基板およびキャップ層間ならびに第２記録層間に配置されるＮｂ_２Ｏ_５インターフェース層とを含む。 - 特許庁

Or, the second layer containing the luminescent material of the carrier plate 2 is a second dielectric layer or a second protective layer.例文帳に追加

前面プレート（１）上の発光材料を含む前記第１層が第１誘電体層（４）である、または第１保護層（５）である、或いは発光材料を含む前記第１層が追加の層（１４）である。 - 特許庁

The transparent adhesive layer is formed between the first and second reaction layers, and therefore the second reaction layer of the first stack does not come off the first reaction layer of the second stack.例文帳に追加

透明接着層は、第１の反応層と第２の反応層との間に形成され、それにより、第１のスタックの第２の反応層は、第２のスタックの第１の反応層から外れない。 - 特許庁

Then a second pair of transparent substrates and a second precursor for a light-controlling layer are used to form a second light-controlling layer 16 in the same process as that of the first layer, and one of the transparent substrates is removed.例文帳に追加

第２の一対の透明基板と第２の調光層前駆体を用いて同様の工程を行い第２の調光層を形成し、一方の透明基板を除去する。 - 特許庁

A transparent insulating film is attachedly formed on the second electrode layer, and it is patterned such that the electrode parts of the second electrode layer are covered and that the wiring parts are exposed to form a second insulating layer.例文帳に追加

第２電極層上に透明な絶縁膜を着膜し、これを第２電極層の電極部が覆われ配線部が露出するようにパターニングし第２絶縁層を形成する。 - 特許庁

The second gate stack 112 comprises a gate dielectric host layer 105, a first metal gate electrode layer 106, a second gate dielectric capping layer 108, and a second metal gate electrode 109.例文帳に追加

第２ゲートスタック１１２は、ゲート誘電体ホスト層１０５、第１金属ゲート電極層１０６、第２ゲート誘電体キャップ層１０８、第２金属ゲート電極層１０９を含む。 - 特許庁

The pad P1 has a three layer structure composed of an Au layer (a first metal layer 11) exposed from the first main surface 20A of the first insulation layer 20, a Pd layer (a second metal layer 12) laminated on the first metal layer 11, and a Cu layer (a third metal layer 13) formed between the second metal layer 12 and the wiring layer 21.例文帳に追加

このパッドＰ１は、第１絶縁層２０の第１主面２０Ａから露出されるＡｕ層（第１金属層１１）と、第１金属層１１に積層されたＰｄ層（第２金属層１２）と、第２金属層１２と配線層２１との間に形成されたＣｕ層（第３金属層１３）とからなる３層構造を有している。 - 特許庁

The semiconductor integrated circuit has a multilayered structure, and comprises a first semiconductor layer, first semiconductor layer transistor formed in the first semiconductor layer, interconnection layer deposited on the first semiconductor layer and is formed with a metal interconnection, second semiconductor layer deposited on the interconnection layer, and second semiconductor layer transistor formed in the second semiconductor layer.例文帳に追加

多層構造で構成される半導体集積回路であって、第１半導体層と、第１半導体層に形成された第１半導体層トランジスタと、第１半導体層上に堆積され、金属配線が形成された配線層と、配線層上に堆積された第２半導体層と、第２半導体層に形成された第２半導体層トランジスタとを備える。 - 特許庁

In this semiconductor element having a multiperiod layer wherein the first layer W and the second layer B having the band width wider than the first layer W, are laminated at multiple period, a δ-layer which is sufficiently thin when compared with the first layer W and the second layer B and quickly changes an energy band is provided on the boundary between the first layer W and the second layer B.例文帳に追加

第１層Ｗと第１層Ｗよりもバンド幅の広い第２層Ｂとを多重周期で積層した多重周期層を有する半導体素子において、第１層Ｗと第２層Ｖとの境界に、第１層Ｗと第２層Ｂの厚さに比べて充分に薄く、エネルギバンドを急変させるδ層が設けられている。 - 特許庁

After formation of the sacrificial layer 31, a second barrier film 13 made of MnSiO is formed between the Cu layer 20 and a second insulating layer 6 by heat treatment.例文帳に追加

そして、犠牲層３１の形成後、熱処理により、Ｃｕ層２０と第２絶縁層６との間に、ＭｎＳｉＯからなる第２バリア膜１３が形成される。 - 特許庁

A first glaze layer 2 comprising the first glaze is formed on the surface of the substrate 1, and a second glaze layer 3 comprising the second glaze is formed on the upper side of the first glaze layer 2.例文帳に追加

基体１の表面に、第１釉薬からなる第１釉薬層２と、より表面側に第２釉薬からなる第２釉薬層３とを形成する。 - 特許庁

The abrasive layer 7 comprises a first layer 13 with first abrasive particles diffused therein and a second layer 15 with second abrasive particles diffused therein.例文帳に追加

研磨層７は、第１の研磨粒子が分散さえた第１層１３と、第２の研磨粒子が分散された第２層１５とから構成されている。 - 特許庁