「second layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

The film thickness of the second protective layer 9 is made smaller than the total film thickness of the first printing layer 8 and the second printing layer 8b and the film thickness of the first protective layer 7 is made greater than 2 μm.例文帳に追加

第２の保護層９の膜厚を第１の印刷層８ａおよび第２の印刷層８ｂの合計の膜厚以下とし、第１の保護層７の膜厚を２μｍ以上とする。 - 特許庁

A second fiber layer 41 formed with a fluid absorptive core material 4 abuts the bottom surface of the first fiber layer 13 and a third fiber layer 42 abuts the bottom surface of the second fiber layer 41.例文帳に追加

第１繊維層１３の下面には吸液性芯材４を形成する第２繊維層４１が当接し、第２繊維層４１の下面には第３繊維層４２が当接する。 - 特許庁

The refraction factor of a boundary surface between the first intermediate layer 15A and the second intermediate layer 15B gradually changes as a result of blending of the first intermediate layer 15A and the second intermediate layer 15B.例文帳に追加

第１中間層１５Ａと第２中間層１５Ｂとの界面は、第１中間層１５Ａと第２中間層１５Ｂが混じり合うことで徐々に屈折率が変化している。 - 特許庁

The second insulator layer 28 is provided to cover the metallic layer 26e and the first insulator layer 4a, and the resistor 34 is provided on the second insulator layer 28.例文帳に追加

第２絶縁体層２８は、金属層２６ｅ及び第１絶縁体層４ａを覆うように設けられており、抵抗体３４は、第２絶縁体層２８上に設けられている。 - 特許庁

The display device includes a second insulating layer 408 between the active layer 409 and the first insulating layer 404, the second insulating layer having a hydrogen content of less than 3×10^21 (atoms/cm^3).例文帳に追加

活性層４０９と第１の絶縁層４０４との間に、含有水素量が３×１０^２１（ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３）未満である第２の絶縁層４０８を有する。 - 特許庁

A bandgap on the first buffer layer 21 is larger than a bandgap on the first active layer 23, while a bandgap on the second buffer layer 31 is larger than a bandgap on the second active layer 33.例文帳に追加

第１のバッファ層２１のバンドギャップは、第１の活性層３３のバンドギャップよりも大きく、第２のバッファ層３１のバンドギャップは、第２の活性層３３のバンドギャップよりも大きい。 - 特許庁

The melting temperature of the first PP layer 2a is higher than that of the second PP layer 2b, and the melting temperature of the second PP layer 2b is higher than that of the PE layer 2c.例文帳に追加

第二のＰＰ層２ｂよりも第一のＰＰ層２ａの溶融温度が高く、かつ、ＰＥ層２ｃの溶融温度よりも第二のＰＰ層２ｂの溶融温度が高くなるようにしてある。 - 特許庁

Two elastic layers of a first elastic layer 8 and a second elastic layer 7 are provided on the surface of a core bar 4, and the hardness of the first elastic layer 8 is made lower than that of the second elastic layer 7.例文帳に追加

芯金４の表面に第１弾性層８、第２弾性層７の２つの弾性層を設け、第１弾性層８の硬度を第２弾性層７の硬度よりも小さくする。 - 特許庁

Relating to the refractive indices of the respective layers of the films 13, that of the second layer 13b is highest and those of the first layer 13a and the third layer 13c are lower than the refractive index of the second layer 13b.例文帳に追加

また、光学多層膜１３における各層の屈折率は、第２層１３ｂが最も高く、第１層１３ａ及び第３層１３ｃが第２層１３ｂの屈折率よりも低い。 - 特許庁

There are provided a first memory layer (24a), a second memory layer (24b) disposed below the first memory layer, and a photographing layer (20) disposed above the first and second memory layers.例文帳に追加

第１のメモリ層（２４ａ）、第１のメモリ層の下方に配置された第２のメモリ層（２４ｂ）、及び、第１及び第２のメモリ層の上方に配置された撮像層（２０）が含まれている。 - 特許庁

Moreover on those layers, a first insulating layer 71, a first metal layer 72, a second insulating layer 73, and a second metal layer 74 are formed in each predetermined area in order.例文帳に追加

これらの上に更に各々所定領域において第１絶縁層７１，第１金属層７２，第２絶縁層７３および第２金属層７４が順に形成されている。 - 特許庁

A first offset impurity layer 42 is formed under the first semi-recessed LOCOS layer 40, and a second offset impurity layer 52 is formed under the second semi- recessed LOCOS layer 50.例文帳に追加

第１のセミリセスＬＯＣＯＳ層４０の下に、第１のオフセット不純物層４２が形成され、第２のセミリセスＬＯＣＯＳ層５０の下に、第２のオフセット不純物層５２が形成されている。 - 特許庁

The light emitting device has a first layer 3 and a second layer 4 making contact with the first layer 3 between a first electrode 2 and a second electrode 5 and further, includes a layer of a matrix form.例文帳に追加

第一電極２と第二電極５との間に、第一層３、該第一層３に接触している第二層４を有する発光デバイスであって、該発光デバイスは、マトリックスの層を含む。 - 特許庁

The present invention comprises a method of bit stream decoding comprising receiving a first layer data and a second layer data, combining the received first layer data and the received second layer data, and decoding the combined data.例文帳に追加

第一層データおよび第二層データを受信し、受信された第一、第二層データを組み合わせ、この組み合わされたデータを復号化する、ビデオビットストリームを復号化する方法を含む。 - 特許庁

A first electrode layer 2 and a first organic EL layer are formed in turn on a substrate 1, and on the other hand, a second electrode layer 6 and a second EL layer are formed in turn on a support body 8.例文帳に追加

基材１上に、第一電極層２と第一有機ＥＬ層を順次形成し、一方で支持体８上に、第二電極層６と第二有機ＥＬ層を順次形成する。 - 特許庁

A plurality of ground layer opening portions 14a having rectangle opening are provided on positions of the ground layer 14 formed on the second wiring layer which are opposite to the signal line 13 via the second insulation layer.例文帳に追加

第二配線層に形成されたグランド層１４の、第二絶縁層を介して信号線路１３に対向した位置に、矩形に開口されたグランド層開口部１４ａを複数備える。 - 特許庁

A first insulating layer 41, a first metal layer 42, a second insulating layer 43, and a second metal layer 44 are further formed respectively in turn on in each prescribed region further on these layers.例文帳に追加

これらの上に更に各々所定領域において第１絶縁層４１，第１金属層４２，第２絶縁層４３および第２金属層４４が順に形成されている。 - 特許庁

The semiconductor package 1 is constituted by stacking a first conductive layer 12, a first insulating layer 14, a second conductive layer 15, and a second insulating layer 16 in order on a semiconductor substrate 11.例文帳に追加

本発明の半導体パッケージ１は、半導体基板１１に第一導電層１２、第一絶縁層１４、第二導電層１５、第二絶縁層１６を順に重ねてなる。 - 特許庁

The method also includes forming the second group III-V intrinsic layer 210a over the insulator layer and forming the group III-V semiconductor layer 220 over the second group III-V intrinsic layer.例文帳に追加

更に前記絶縁層の上に第２のＩＩＩ−Ｖ族真性層２１０ａを形成し、該第２のＩＩＩ−Ｖ族真性層の上にＩＩＩ−Ｖ族半導体層２２０を形成する。 - 特許庁

A hologram laminate includes a hologram recording layer in which a hologram is recorded, a first adhesion layer, a pattern layer having a first region and a second region, and a second adhesion layer.例文帳に追加

ホログラム積層体は、ホログラムが記録されるホログラム記録層と、第１の接着層と、第１の領域および第２の領域を有するパターン層と、第２の接着層とを備える。 - 特許庁

The second glass transition point temperature given to a second layer 2 which is the other layer is relatively controlled to the first glass transition point temperature to be given to the first layer out of the two-layer structure.例文帳に追加

その２層構造のうちの第１層に与える第１ガラス転移点温度に対して他層である第２層２に与える第２ガラス転移点温度を相対的に制御する。 - 特許庁

The first protective layer 8 and the second protective layer are formed mutually from the same kind of material, and the first lubrication layer 9 and the second lubrication layer are formed mutually from the same kind of material.例文帳に追加

第１の保護層８と第２の保護層とを互いに同種の材料から構成し、第１の潤滑層９と第２の潤滑層とを互いに同種の材料から構成する。 - 特許庁

A conductor layer 60 of Ge is formed on a second wiring layer 25 of Al, and heated while sandwiched between the second wiring layer 25 and a wiring layer 14 of the sensor portion 10.例文帳に追加

Ａｌの第２配線層２５の上にＧｅの導体層６０を形成し、該導体層６０を第２配線層２５とセンサ部１０の配線層１４とで挟んだ状態で加熱する。 - 特許庁

The optical fiber 5 is communicated from a first wiring layer to a second wiring layer through the cut-out portion 2a, and from the second wiring layer to the third wiring layer through the cut-out portion 3a.例文帳に追加

光ファイバ５を、切り欠き２ａを通して第１配線層から第２配線層へ連絡し、切り欠き３ａを通して、第２配線層から第３配線層へ連絡する。 - 特許庁

This antireflection film is produced by successively forming a first light absorbing layer 3, a first transparent layer 4 having low refractive index, a second light absorbing layer 5 and a second transparent layer 6 having low refractive index on a substrate 2.例文帳に追加

基材２上に、第１の光吸収層３と、第１の低屈折透明層４と、第２の光吸収層５と、第２の低屈折率透明層６とを順次形成する。 - 特許庁

The fuse element including a first layer formed of an oxide or a nitride and a second layer that becomes high resistant by nitridation or oxidation, in which the first layer and the second layer are in contact with each other, is manufactured.例文帳に追加

酸化物又は窒化物からなる第１の層と、窒化又は酸化することにより高抵抗化する第２の層により、第１の層と第２の層が接するヒューズ素子を作製する。 - 特許庁

The columnar diamond is held by a first holding layer and a second holding layer in the longitudinal direction, and the first holding layer and the second holding layer face mutually to hold the columnar diamond so as to nip it.例文帳に追加

柱状ダイヤモンドは、長手方向に第１の保持層と第２の保持層とにより保持され、第１の保持層と第２の保持層は対面し、柱状ダイヤモンド挟み込むように保持する。 - 特許庁

After a conductor layer 21 (a plate electrode), which is used for filling the second aperture with a second conductor layer, is formed on the film 20, the upper part of the layer 21 is polished or etched back to planarize the surface of the layer 21 (a).例文帳に追加

第２の導電体で第２の開口を埋め込む導電体層２１（プレート電極）を形成した後、導電体層の上部を研磨又はエッチバックで平坦化する（ａ）。 - 特許庁

A second conducting layer pattern 32 is formed so that the whole overlaps with the first conducting layer pattern 24 by etching the second conducting layer 26 with the metal layer 30 as a mask.例文帳に追加

金属層３０をマスクとして第２の導電膜２６をエッチングして、全体が第１の導電膜パターン２４とオーバーラップするように第２の導電膜パターン３２を形成する。 - 特許庁

A second insulating layer 42 is formed on the first insulating layer 41 so as to cover the wiring patterns W1, R1, and a third insulating layer 43 is formed on the second insulating layer 42.例文帳に追加

第１の絶縁層４１上に配線パターンＷ１，Ｒ１を覆うように第２の絶縁層４２が形成され、第２の絶縁層４２上に第３の絶縁層４３が形成される。 - 特許庁

The surfaces of the semiconductor layer and the first insulation layer are covered with a second insulation layer and a second MPE is carried out to form an etching stopper (ES) on the surface of the semiconductor layer above the gate electrode structure.例文帳に追加

また、該半導体層と第1絶縁層の表面を第2絶縁層で覆い、第2MPEを行い、該ゲート電極構造上方の該半導体層の表面にエッチングストッパー(ES)を形成する。 - 特許庁

At least one of the first optical layer and the second optical layer contains a functional group with high polarity, and the content is different between the first optical layer and the second optical layer.例文帳に追加

第１の光学層および第２の光学層の少なくとも一方が、極性の高い官能基を含み、その含有量が第１の光学層と第２の光学層とで異なる。 - 特許庁

First and second stacked bodies 1A, 1B are formed, by pressing a three-layer structure sandwiching an electrolyte layer 2 in between a first electrode layer 3 and a second electrode layer 4.例文帳に追加

第１の電極層３と第２の電極層４との間に電解質層２を挟み込んだ三層構造をプレスすることにより第１，第２の積層体１Ａ，１Ｂを形成する。 - 特許庁

After a first electrode consisting of a first metal which is in Schottky contact with the upper layer semiconductor layer is formed, a second electrode consisting of a second metal is formed in the upper layer semiconductor layer.例文帳に追加

上層半導体層にショットキー接触する第１の金属からなる第１の電極を形成した後、上層半導体層に第２の金属からなる第２の電極を形成する。 - 特許庁

By contacting a catalyst layer 14 and the second electrolyte layer 11b, the electrolyte membrane 11 and the catalyst layer 14 are hot pressed at around the glass-transition temperature of the second electrolyte layer 11b.例文帳に追加

触媒層１４と第２の電解質層１１ｂとを接触させて電解質膜１１と触媒層１４とを第２の電解質層１１ｂのガラス転移温度程度でホットプレスする。 - 特許庁

A second antiferromagnetic layer 33 is formed on both the side edges C of the element of a free magnetic layer 28, and a ferromagnetic layer 34 is provided on the second antiferromagnetic layer 33.例文帳に追加

フリー磁性層２８の素子両側端部Ｃ上には第２反強磁性層３３が形成され、前記第２反強磁性層３３上に強磁性層３４が設けられている。 - 特許庁

The semiconductor laser includes a first conductive clad layer 20, an active layer 30, a current block 40, a second conductive clad layer 50, a contact layer 60, a first electrode 70, a second electrode 80, and a through-electrode 90.例文帳に追加

第1導電型クラッド層20と、活性層30と、電流ブロック部40と、第2導電型クラッド層50と、コンタクト層60と、第1電極70と、第2電極80と、貫通電極90とを備えて構成される。 - 特許庁

As either one layer of the heat sensitive recording material, a second protective layer or a light transmittance adjusting layer provided between the heat sensitive recording layer and the protective layer, an intermediate layer provided between the heat sensitive recording layer and the protective layer or the like are exampled.例文帳に追加

感熱記録材料のいずれかの層とは、例えば、１）感熱記録層と保護層との間に設けられた第２の保護層または光透過率調整層、２）感熱記録層の間に設けられた中間層等が挙げられる。 - 特許庁

A substrate, an n-type clad layer, an active layer, a p-type clad layer, and a multiple ohmic contact layer are sequentially stacked, and the multiple ohmic contact layer is a nitride-based light-emitting element formed by a first transparent thin-film layer, an Ag layer, and a second transparent thin-film layer.例文帳に追加

基板、ｎ型クラッド層、活性層、ｐ型クラッド層、マルチオーミックコンタクト層が順次に積層されており、マルチオーミックコンタクト層は、第１透明薄膜層／Ａｇ／第２透明薄膜層より形成される窒化物系発光素子である。 - 特許庁

Also, a common second metal cap layer 37 for covering a hard mask 32 and a second wiring 34 (second barrier metal 35 and second wiring layer 36) is laminated on the surface of the hard mask 32.例文帳に追加

また、ハードマスク３２の表面に、ハードマスク３２と、第２配線３４（第２バリアメタル３５及び第２配線層３６）と、を覆う共通の第２メタルキャップ層３７を積層した。 - 特許庁

Further, a second patterned spacer layer 116 that is positioned above a second counter/reference electrode layer 114 has a second sample-receiving chamber including first and second end openings.例文帳に追加

更に第二カウンター／参照電極層１１４の上に配置された第二パターンスペーサー層１１６が第一及び第二末端開口部を備えた第二試料受け取り室を有する。 - 特許庁

The second wiring layer is provided on the first insulator layer and in a second opening opposite to the second main surface, and connected to the second electrode provided on the side surface.例文帳に追加

第２の配線層は、第２の主面に対する反対側の第１の絶縁層上及び第２の開口内に設けられ、側面に設けられた第２の電極と接続された。 - 特許庁

The first layer has a first carrier and a first catalyst substance carried by the first carrier, and the second layer has a second carrier and a second catalyst substance carried by the second carrier.例文帳に追加

第１層は第１担体と第１担体に担持された第１触媒物質とを有すると共に、第２層は第２担体と第２担体に担持された第２触媒物質とを有する。 - 特許庁

The organic electroluminescent element comprises a first electrode, a second electrode, and at least a luminous layer interposed between the first electrode and the second electrode, the luminous layer is formed of a first luminous layer and a second luminous layer, while an exciton pinning layer is interposed between the first luminous layer and the second luminous layer, and its manufacturing method is provided.例文帳に追加

第１電極と、第２電極と、第１電極と第２電極との間に介在する少なくとも発光層を備える有機層と、を含み、発光層は、第１発光層及び第２発光層から形成されるが、第１発光層と第２発光層との間にエキシトンピンニング層が介在する有機電界発光素子及びその製造方法である。 - 特許庁

Since the method includes the step of irradiating the second conductive layer with the laser beam, even when the second conductive layer composed of the conductive particles and the resin is formed on the first conductive layer, it is possible to expand the part where the first conductive layer and the second conductive layer come into contact with each other, and to repair an faulty electrical connection between the first conductive layer and the second conductive layer.例文帳に追加

レーザービームを照射する工程を含むことにより、第１の導電層上に、導電性粒子と樹脂からなる第２の導電層を形成した場合でも、第１の導電層と第２の導電層が接する部分を増加させ、第１の導電層と第２の導電層の間の電気的な接続不良を改善することができる。 - 特許庁