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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > second layerの意味・解説 > second layerに関連した英語例文

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second layerの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 21455



例文

The polarizer includes a polarizing element 420, a first protective layer 430, a second protective layer 440 and a surface treatment layer 410.例文帳に追加

偏光板は、偏光素子420、第1及び第2保護層430,440、及び表面処理層410を含む。 - 特許庁

A III-V compound semiconductor layer 25 forms a junction with an active layer 23 and forms a junction with a second cladding layer 27.例文帳に追加

III−V化合物半導体層25は活性層23と接合を成すと共に第2のクラッド層29と接合を成す。 - 特許庁

A second metal layer 32 is a metal diffusion preventing layer between a first metal layer 16 and a protruding electrode 34.例文帳に追加

第2の金属層32は、第1の金属層16及び突起電極34の間の金属拡散防止層である。 - 特許庁

The first substrate layer 4, the second substrate layer 5 and the magnetic layer 6 are formed in this sequence from the substrate 2 side.例文帳に追加

そして、基板2側から、第1の下地層4と、第2の下地層5と、磁性層6とが、この順で形成されている。 - 特許庁

例文

The floating gate 26 contains the amorphous silicon layer at least and the amorphous silicon layer is in contact with the second insulating layer 26.例文帳に追加

フローティングゲート26は、少なくともアモルファスシリコン層を含み、アモルファスシリコン層は、第2の絶縁層26と接触している。 - 特許庁


例文

The second conductivity type semiconductor layer 23 is provided between the first conductivity type semiconductor layer 25 and active layer 17.例文帳に追加

第2導電型半導体層23は第1導電型半導体層25と活性層17との間に設けられる。 - 特許庁

The barrier layer is used for avoiding diffusion of the metal of the contact layer into the second conductivity semiconductor layer.例文帳に追加

バリア層はコンタクト層の金属が第2の導電性半導体層に拡散するのを回避するために用いられる。 - 特許庁

The main substrate 1 has a laminated structure of the first main substrate layer 1a, the second main substrate layer 1b and the third main substrate layer 1c.例文帳に追加

主基板1は第1主基板層1a、第2主基板層1b、第3主基板層1cの積層構造をもつ。 - 特許庁

The first metal layer is provided on an opposite side of the light-emitting layer side of the second semiconductor layer, and contains silver or a silver alloy.例文帳に追加

第1金属層は、第2半導体層の発光層とは反対側に設けられ、銀または銀合金を含む。 - 特許庁

例文

Second, any metal in the electrode layer 3 is unlikely to thermally agglutinate because the buffer layer 4 serves as a capping layer.例文帳に追加

第2に、バッファ層4がキャップ層として機能するため、電極層3中の金属が熱的に凝集しにくくなる。 - 特許庁

例文

Further, an inorganic material, a polysiloxane resin, or a fluororesin is interveningly coated between the first layer and the second layer as an intermediate layer.例文帳に追加

第一層と第二層の間に、中間層として無機材料、ポリシロキサン樹脂またはフッ素樹脂をコーティングする。 - 特許庁

Typically, the first crystal layer 11 is a single crystal layer, and the second one 13 is an epitaxial growth layer.例文帳に追加

典型的に、第1の結晶層11は、単結晶層であり、第2の結晶層13はエピタキシャル成長層である。 - 特許庁

The anode 22 has a laminate comprising a first catalyst layer 26, a second catalyst layer 27, and a gas diffusion layer 28.例文帳に追加

アノード22は、第1の触媒層26、第2の触媒層27、およびガス拡散層28からなる積層体を有する。 - 特許庁

Also, the first protective layer 21 and the second protective layer 23 are hydrophilic and the skin protective component layer 22 is hydrophobic.例文帳に追加

また、第1の保護層21及び第2の保護層23は親水性であり、皮膚保護成分層22は疎水性である。 - 特許庁

The first magnetic layer 12, a granular layer 14 and the second magnetic layer 16 are successively laminated and formed on a non-magnetic substrate 10.例文帳に追加

非磁性基板10上には、第一磁性層12,グラニュラ層14,第二磁性層16が順に積層形成される。 - 特許庁

The magneto-optical recording medium 100 has a reproducing layer 3, a first recording layer 6 and a second recording layer 6' on a substrate 1.例文帳に追加

光磁気記録媒体100は基板1上に再生層3、第1記録層6及び第2記録層6’を備える。 - 特許庁

A second region Ra2 comprises a second metal layer L2 and via V2 provided in the second laminate LB2.例文帳に追加

第2の領域Ra2は第2の積層体LB2内に設けられた第2の金属層L2とビアV2とを有する。 - 特許庁

A second transistor Tr2 and a second resistor R2 connected in series thereto are provided on this second wiring layer 6.例文帳に追加

この第2配線層6の上に、第2トランジスタTr2とこれに直列に接続された第2抵抗体R2を設ける。 - 特許庁

A first via opening and a second via opening are respectively passed through the second insulating layer and extended into the second gap.例文帳に追加

第1のバイア開口および第2のバイア開口が、各々、第2の絶縁層を通って第2の間隙内まで延出する。 - 特許庁

Second outer layer through-hole conductors 62 connect respective second terminal electrodes 32 to a second internal electrode 421.例文帳に追加

第2の外層スルーホール導体62は、第2の端子電極32のそれぞれを第2の内部電極421に接続する。 - 特許庁

In addition, the second semiconductor layer 102 is different in lattice constant from the first semiconductor layer 101 and also the second semiconductor layer 102 is different in band gap energy from the first semiconductor layer 101, and the second semiconductor layer 102 is different in lattice constant from the third semiconductor layer 103 and also the second semiconductor layer 102 is different in band gap energy from the third semiconductor layer 103.例文帳に追加

加えて、第2半導体層102が、第1半導体層101と格子定数が異なる、また、第2半導体層102が、第1半導体層101とバンドギャップエネルギーが異なる、また、第2半導体層102が、第3半導体層103と格子定数が異なる、また、第2半導体層102が、第3半導体層103とバンドギャップエネルギーが異なる。 - 特許庁

The antireflection layer 130 includes a first layer 131, a second layer 132, a third layer 133, a fourth layer 134, a fifth layer 135, a sixth layer 136, a transparent conductive layer 137 as a seventh layer and an eighth layer 138 arranged in the order outward from the lens base 110 side.例文帳に追加

この反射防止層130は、レンズ基材110側から外側に向けて順に配置された第1層131、第2層132、第3層133、第4層134、第5層135、第6層136、第7層である透明導電層137及び第8層138から構成される。 - 特許庁

A TMR device comprises: a shield layer; a seed layer; an antiferromagnetic layer; a second anti-parallel layer including a portion subjected to plasma processing; a ruthenium layer having a thickness of 4 Å; a CoFex layer; a first anti-parallel layer; a tunnel barrier layer; a magnetic free layer; and a cap layer, in order.例文帳に追加

本発明のTMRデバイスは、シールド層と、シード層と、反強磁性層と、プラズマ処理部分を含む第2の反平行層と、4Åの厚さを有するルテニウム層と、CoFex 層と、第1の反平行層と、トンネルバリア層と、磁気フリー層と、キャップ層とを順に備える。 - 特許庁

Prepared first is an SOI substrate which has a first silicon layer 2, a first silicon oxide layer 4, and a second silicon layer 6 laminated in order, wherein the thickness T1 of the first silicon layer 2 is equal to the thickness T3 of the second silicon layer 6.例文帳に追加

まず、第1シリコン層2と第1酸化シリコン層4と第2シリコン層6が順に積層されており、第1シリコン層2の厚みT1と第2シリコン層6の厚みT3が等しいSOI基板を用意する。 - 特許庁

The transmission part 211 has a first layer 361 formed as the outermost periphery, a second layer 362 adjacent to the first layer 361 at its radial inside, and a third layer 363 adjacent to the second layer 362 at its radial inside.例文帳に追加

伝送部211は、最外周である第1層361と、この第1層361の径方向内側で隣接する第2層362と、この第2層362の径方向内側で隣接する第3層363とを有する。 - 特許庁

A (first) nickel iron layer 13, a (second) antiferromagnetic layer 14, a nonmagnetic layer 31, a (second) nickel iron layer 32, and a read layer 15 are sequentially laminated on both sides of a spin valve structure 10 while keeping in contact with a side slope 10S.例文帳に追加

スピンバルブ構造10の両側に、側斜面10Sに接するように、(第1の)ニッケル鉄層13、(第2の)反強磁性層14、非磁性層31、(第2の)ニッケル鉄層32およびリード層15を順次設ける。 - 特許庁

The nano-structure 30 is composed by laminating a first hard magnetic layer 34, a first soft magnetic layer 35, a second hard magnetic layer 36, a second soft magnetic layer 37 and a third hard magnetic layer 38.例文帳に追加

ナノ構造体30を、第1の硬質磁性層34と第1の軟質磁性層35と第2の硬質磁性層36と第2の軟質磁性層37と第3の硬質磁性層38とを積層して構成する。 - 特許庁

The L2 layer includes a second ground layer 34 formed by being held between the first ground layer 32 and an insulating layer 16 in a second region Q1 which connotes the first region P1 and is a part of the layer in a plane view.例文帳に追加

L2層は、平面視において前記第1領域P1を包摂し層の一部である第2領域Q1に、第1グランド層32と絶縁層16を挟んで形成された第2グランド層34を備える。 - 特許庁

A recording device applies a first voltage to make in F-orientation state a first liquid crystal layer and a second liquid crystal layer among display layers including the first liquid crystal layer, the second liquid crystal layer and a photosensitive layer.例文帳に追加

記録装置は、第1の液晶層および第2の液晶層および感光層を含む表示層のうち第1の液晶層および第2の液晶層をF配向状態にする第1の電圧を印加する。 - 特許庁

In this case, the first wire 11 is formed in a first layer in a crossing region AR1, and formed in the first layer, a second layer lower than the first layer, and a third layer between the first and second layers in peripheral regions AR2.例文帳に追加

ここで、第1配線11は、交差領域AR1では第1層に形成し、周辺領域AR2では第1層、第1層より下層の第2、及び第1,第2層間の第3層に形成する。 - 特許庁

The film has a first organic layer 12 formed on a surface of a base material Z in the atmosphere, a second organic layer 14 formed on the first organic layer 12 in a vacuum, and the inorganic layer 16 formed on the second organic layer 14 in a vacuum.例文帳に追加

基板Zの表面に大気中で成膜された第1有機層12を有し、その上に、真空中で成膜された第2有機層14を有し、その上に、真空中で成膜された無機層16を有する。 - 特許庁

A semiconductor laser diode 10 includes a substrate 1, a buffer layer 2, a first cladding layer 3, an active layer 4, a second cladding layer 5, a contact layer 6, a first electrode 7, a second electrode 8 and a resonator end surface.例文帳に追加

半導体レーザダイオード10は、基板1と、バッファ層2と、第1のクラッド層3と、活性層4と、第2のクラッド層5と、コンタクト層6と、第1の電極7と、第2の電極8と、共振器端面とを備える。 - 特許庁

The glass layer has a first glass layer 4 comprising a first glaze 2 and a second glass layer 5 formed on the outside of the first glass layer 4 and comprising a second glaze 3 having a lower coefficient of linear thermal expansion than the first glass layer.例文帳に追加

ガラス層は、第1釉薬2からなる第1ガラス層4と、第1ガラス層4より外面側に形成され、第1ガラス層より線熱膨張係数が小さい第2釉薬3からなる第2ガラス層5とを有する。 - 特許庁

Electrons in a direction perpendicular to a rectangular direction of the substrate are transmitted from one side of the first conductive layer and the first second conductive layer to the other side of the first conductive layer and the second conductive layer through the phosphor layer.例文帳に追加

電子が、基板の垂直方向に対して大略直角な方向に、第1導電層と第2導電層の一方から燐光物質層を介して第1導電層と第2導電層の他方に伝送される。 - 特許庁

A wiring pattern 20 containing the first layer 12 and the second layer 14 which are patterned is formed by etching the metal layer 16, and a part of the first layer 12 is left outside the second layer 14 of the wiring pattern 20.例文帳に追加

金属層16をエッチングして、パターニングされた第1の層12及び第2の層14を含む配線パターン20を形成し、第1の層12の一部を配線パターン20の第2の層14の外に取り残す。 - 特許庁

The optical waveguide member 10 comprises a first clad layer 12 and a second clad layer 14, which are jointed together in a laminated manner, and a core layer 16 which is formed between the first clad layer 12 and the second clad layer 14.例文帳に追加

光導波路部材10は、互いに積層して接合される第1クラッド層12及び第2クラッド層14と、それら第1及び第2クラッド層12、14の間に形成されるコア層16とを備える。 - 特許庁

The three-dimensional image display device includes a first layer 1 having a plurality of dots, a second layer 2 having a plurality of dots and opposed to the first layer, and a modulation member 3 provided separately from the first layer and the second layer.例文帳に追加

三次元画像表示装置は、複数の点を有する第1層1と、複数の点を有し、第1層に対向する第2層2と、第1層及び第2層とは別に設けられた変調部材3とを備えている。 - 特許庁

Five-layered radome plate 200 comprises three layers of a skin material and two layers of a core material, starting from the left; a first skin layer 43, first core layer 52, second skin layer 44, second core layer 53 and third skin layer 45.例文帳に追加

5層レードーム板200は、左から順に第1スキン層43、第1コア層52、第2スキン層44、第2コア層53、および第3スキン層45の順で、スキン材が3層、コア材が2層から構成される。 - 特許庁

This heat-insulating container comprises a first fiber layer 11 of a predetermined density and a second fiber layer 12 of the density lower than that of the first fiber layer 11, and the second fiber layer 12 is formed on the inner side of the first fiber layer 11.例文帳に追加

所定密度の第1繊維層11と、第1繊維層11よりも低密度の第2繊維層12とを備え、第2繊維層12が第1繊維層11の内側に形成された断熱容器である。 - 特許庁

The multi-layer insulating sheet 1 at least includes a first layer 2 containing a first filler, and a second layer 3 which is laminated on one side surface 2a of the first layer 2 and is a surface layer containing a second filler.例文帳に追加

多層絶縁シート1は、第1のフィラーを含む第1の層2と、第1の層2の一方の面2aに積層されており、表面層であり、かつ第2のフィラーを含む第2の層3とを少なくとも有する。 - 特許庁

The light detecting part 120 contains a second contact layer 112, a light absorbing layer 113 provided above the second contact layer 112, and a first contact layer 114 provided above the light absorbing layer 113.例文帳に追加

光検出部120は、第2コンタクト層112と、第2コンタクト層112の上方に設けられた光吸収層113と、光吸収層113の上方に設けられた第1コンタクト層114とを含む。 - 特許庁

Next, a first upper layer insulation film, a first upper layer re-wiring, a second upper layer insulation film, a second upper layer re-wiring 4 and a third upper layer insulation film are sequentially formed in a laminate, and finally, solder balls are formed.例文帳に追加

次に、第1の上層絶縁膜、第1の上層再配線、第2の上層絶縁膜、第2の上層再配線4、第3の上層絶縁膜を順次、積層状に形成し、最後に、半田ボールを形成する。 - 特許庁

A semiconductor light-emitting element comprises an n-type first semiconductor layer, a p-type second semiconductor layer, and a light-emitting layer provided between the first semiconductor layer and the second semiconductor layer.例文帳に追加

実施形態に係る半導体発光素子は、n形の第1半導体層と、p形の第2半導体層と、前記第1半導体層と前記第2半導体層との間に設けられた発光層と、を備える。 - 特許庁

The glass layer has a first glass layer 4 comprising a first glaze and a second glass layer 5 which comprises a second glaze, is formed on the outer face side of the first glass layer 4, and has a linear thermal expansion coefficient smaller than the first glass layer 4.例文帳に追加

ガラス層は、第1釉薬からなる第1ガラス層4と、第1ガラス層4より外面側に形成され、第1ガラス層4より線熱膨張係数が小さい第2釉薬からなる第2ガラス層5とを有する。 - 特許庁

A magnetic random access memory according to an embodiment has a magnetic resistance effect element, on which a first magnetic layer, a first interface magnetic layer, a non-magnetic layer, a second interface magnetic layer, and a second magnetic layer are sequentially laminated.例文帳に追加

実施形態に係る磁気ランダムアクセスメモリは、第1の磁性層、第1の界面磁性層、非磁性層、第2の界面磁性層、及び第2の磁性層が順に積層された磁気抵抗効果素子を有する。 - 特許庁

The server cluster of 2 layers contains multiple servers belonging to a first layer, each of those first layer servers manages one or more of second layer servers, and these second layer servers may be allocated under another first layer server.例文帳に追加

2層のサーバクラスタは第1層に属する複数のサーバを含み、この第1層サーバの各々は1以上の第2層サーバを管理し、これら第2層サーバは他の第1層サーバの配下に再割り当てしても良い。 - 特許庁

A second ground layer 15 is extended over one principal surface of a second inter-layer insulator layer 14, and the other principal surface is stuck to the one principal surface of the first inter-layer insulator layer 11 via a first adhesive 16.例文帳に追加

また、第2層間絶縁体層14の一主面に第2グランド層15が張着され、その他主面が第1接着剤16を介して第1層間絶縁体層11の一主面側に貼り付けられる。 - 特許庁

A touch type transparent keyboard includes a transparent base material layer, a transparent key icon layer, a first insulating layer, a shield layer, a second insulating layer, a position detection layer and a transparent protective layer successively laminated and arranged from the bottom to the top.例文帳に追加

本発明のタッチ式透明キーボードは、下から上に向って順次に積層配置される透明基材層、透明なキーアイコン層、第一絶縁層、シールド層、第二絶縁層、位置検知層及び透明保護層を備える。 - 特許庁

A second dielectric layer 14 is formed on the shield metal layer 13, the insulation layer 12 not covered with the shield metal layer 13, and the first metal layer 115 not covered with the shield metal layer 13 and the insulation layer 12.例文帳に追加

遮蔽金属層13、遮蔽金属層13に覆われない絶縁層12、及び遮蔽金属層13と絶縁層12に覆われない第1金属層115には、第2誘電体層14が形成される。 - 特許庁

例文

A first barrier layer of the light-emitting layer 17 functions as an injection barrier layer, and the layer thickness of a third well layer is set within a range of 90 to 105% of the layer thickness of a second well layer.例文帳に追加

発光層17の第1障壁層は、注入障壁層として機能するとともに、第3井戸層の層厚は、第2井戸層の層厚に対して90%以上105%以下の範囲内で設定される。 - 特許庁




  
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