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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > second layerの意味・解説 > second layerに関連した英語例文

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second layerの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 21455



例文

The carrier layer 1 is equipped with a first surface and a second surface.例文帳に追加

キャリア層1は、第1の面および第2の面を備えている。 - 特許庁

The saturation magnetization of the second magnetic layer 5 is made 8.80×10^-2-1.76×10^-1 Wb/m^2 and the gas pressure on the film forming of the second magnetic layer 5 is made 0.6-3.0 Pa.例文帳に追加

第2の磁性層5の飽和磁化を8.80×10^-2〜1.76×10^-1Wb/m^2とし、第2の磁性層5の成膜時のガス圧を0.6〜3.0Paとする。 - 特許庁

The rubber strip is laminated on the second support 20 superposing to the first rubber layer 92A to form the second rubber layer of the bead filler.例文帳に追加

第1のゴム層92Aに重ねて、第2の支持体20にゴムストリップを積層してビードフィラの第2のゴム層を形成する。 - 特許庁

The thickness of the flattened second film is made to be equal to the sum of the thickness H1 of the first layer and the thickness H2 of the second layer.例文帳に追加

平坦化された第2の膜の厚みを、第1の層の厚みH1と第2の層の厚みH2の和に等しくする。 - 特許庁

例文

Then the substrate 10 having the second resist layer 17 is immersed in a developing solution 20d to develop the second resist layer 17.例文帳に追加

次に、第2のレジスト層17を含む半導体基板10を現像液20dに浸漬して、第2のレジスト層17を現像する。 - 特許庁


例文

The first gate insulating film 131 and the second gate insulating film 132 include a first insulating layer 151 and a second insulating layer 152.例文帳に追加

第1ゲート絶縁膜131及び第2ゲート絶縁膜132は、第1絶縁層151及び第2絶縁層152を含む。 - 特許庁

The FET further includes a semiconductor layer of a second type situated under and in direct contact with the second segment of the etch stop layer.例文帳に追加

FETはエッチストップ層の第2の部分の下に直接接して位置する第2のタイプの半導体層をさらに含む。 - 特許庁

The foundation layer includes a first principal surface on the second semiconductor layer side and a second principal surface on the opposite side to the first principal surface.例文帳に追加

下地層は、第2半導体層の側の第1主面と、第1主面とは反対側の第2主面と、を有する。 - 特許庁

Successively, a second layer 14 is formed by injecting a second polymerizable composition inside the first layer 13 and polymerizing the composition.例文帳に追加

続いて、第1層13の内側に第2の重合性組成物を注入し、重合させて第2層14を形成する。 - 特許庁

例文

In the second region where the first core layer is removed, a second core layer 30 is formed of a compound semiconductor containing Al.例文帳に追加

第1のコア層が除去された第2の領域に、Alを含む化合物半導体からなる第2のコア層30を形成する。 - 特許庁

例文

The second magnetization fixation layer includes a third and a fourth magnetic layers which are separated by a second non-magnetic material layer 154.例文帳に追加

第2磁化固定層は第2非磁性体層154により分離された第3磁性体層及び第4磁性体層を含む。 - 特許庁

A portion of the conductive layer is removed to form the second gate electrode on the gate dielectric layer corresponding to the second area.例文帳に追加

導電層の一部が除去されて第2領域に対応するゲート誘電体層の上に第2ゲート電極が形成される。 - 特許庁

A first conductor layer 1 has a first ground electrode 11, and a second conductor layer 2 has a second ground electrode 21.例文帳に追加

第1導体層1は、第1グランド電極11を有する一方で、第2導体層2は、第2グランド電極21を有している。 - 特許庁

The second DBR 23 is provided on a first area 15b of the active layer 15 and the second semiconductor spacer layer 19.例文帳に追加

第2のDBR23は、活性層15の第1のエリア15b上及び第2の半導体スペーサ層19上に設けられる。 - 特許庁

In this case, a first deposition layer and a second deposition layer are formed on the first recessed part and the second recessed part, respectively.例文帳に追加

ここで、前記第1凹部には第1堆積層が形成されており、前記第2凹部には第2堆積層が形成されている。 - 特許庁

The tape 100 has a first base member 18, a first adhesive layer 17, a second base member 16, and a second adhesive layer 15.例文帳に追加

テープ100は、第1ベース部材18、第1接着層17と、第2ベース部材16と、第2接着層15を備える。 - 特許庁

A second adhesive layer and a metal layer 150a located thereon are formed on the second surface 113 of the substrate 110.例文帳に追加

第2粘着層と第2粘着層上に位置する金属層150aは基板110の第2表面113に形成される。 - 特許庁

Similarly, a second reaction layer and a second current collection layer are formed by a discharge device 20h and by a discharge device 20j, respectively.例文帳に追加

同様に、吐出装置20hにおいて第2の反応層を、吐出装置20jにおいて第2の集電層を形成する。 - 特許庁

Similarly, a second reaction layer is formed at a discharge device 20h, and a second collecting layer is formed at a discharge device 20j.例文帳に追加

同様に、吐出装置20hにおいて第2の反応層を、吐出装置20jにおいて第2の集電層を形成する。 - 特許庁

The first side has a first-type Mott channel layer 107 and the second side has a second-type Mott channel layer 106.例文帳に追加

第1のサイドは、第1のタイプのモット・チャネル層107を有し、第2のサイドは、第2のタイプのモット・チャネル層106を有する。 - 特許庁

The photodector includes a substrate having a first photodiode, a second photodiode, a third photodiode, a first color filter layer and a second color filter layer.例文帳に追加

光検出器は、第1、第2、および第3のフォトダイオードと、第1および第2の色素フィルタ層とを有する基板を含む。 - 特許庁

The liquid crystal layer is installed between the liquid crystal-polymer composite film and the second alignment layer, and a second lens is formed.例文帳に追加

液晶層を液晶及び高分子複合フィルムと第2配向層との間に設置するとともに、第2レンズを形成する。 - 特許庁

A first opening is formed in the passivation layer on the first electrode, and a second opening is formed in the passivation layer on the second electrode.例文帳に追加

第1電極上のパシベーション層に第1開口を形成し、第2電極上のパシベーション層に第2開口を形成する。 - 特許庁

The inductor of the second layer is connected via the contact 78 passing through the second interlayer insulating film to the inductor of a third layer.例文帳に追加

2層目のインダクタは、第2の層間絶縁膜を貫通するコンタクト78を介して3層目のインダクタに接続されている。 - 特許庁

The conductive filler 10 in the second sealing layer 9 is generally spherical, and has generally same thickness as the second sealing layer 9.例文帳に追加

第二の封止層9内の導電性フィラー10は略球体で第二の封止層9と略同一厚みを持たせた。 - 特許庁

Thereafter, the first solder and second solder are heated simultaneously and connected, respectively, to the first underlying layer and second underlying layer.例文帳に追加

次いで、第1の半田及び第2の半田を同時に加熱して、それぞれ第1の下地層及び第2の下地層と接続する。 - 特許庁

The optical member for the touch panel is provided with: a first layer and a second layer, arranged oppositely to each other; and a spacer formed between the first layer and the second layer, wherein at least either the first layer or the second layer is formed of an elastic body containing a filler.例文帳に追加

本発明のタッチパネル用光学部材は、対向配置された第1の層及び第2の層と、第1の層と第2の層との間に設けられたスペーサーとを備え、第1の層及び記第2の層の少なくとも一方がフィラーを含有する弾性体から形成されたものである。 - 特許庁

This optical recording medium 1 has a structure where a first recording layer 31, a first reflection layer 41, an intermediate layer 15, a protective layer 7, a second recording layer 32, a second reflection layer 42, and a second base 22 are sequentially stacked in this order on a first substrate 21 which becomes the light incidence side.例文帳に追加

光記録媒体1は、光入射側となる第1の基板21上に、第1の記録層31、第1の反射層41、中間層15、保護層7、第2の記録層32、第2の反射層42及び第2の基板22がこの順に積層された構成を有している。 - 特許庁

Then, a second electrode layer 4b is formed on the conductor layer 4a, the first electrode layer 2 is connected to the second electrode layer 4b via the connection opening 6, and at least the conductor layer 4a and the second electrode layer 4b near the connection opening 6 are removed.例文帳に追加

その後、導体層4a上に第2の電極層4bを形成し、接続開口部6を介して第1の電極層2と第2の電極層4bとを接続した後、接続開口部6の近傍における少なくとも前記導体層4aと第2の電極層4bとを除去する。 - 特許庁

A connection structure between transmission line layers 100 is composed of a second conductor layer 5B, a second dielectric layer 1B, a second ground conductor layer 2B, a third dielectric layer 1C, a first ground conductor layer 2A, a first dielectric layer 1A, and a first conductor 3A, which are all laminated.例文帳に追加

伝送線路層間接続構造100は、第2の導体層5B、第2の誘電体層1B、第2の地導体層2B、第3の誘電体層1C、第1の地導体層2A、第1の誘電体層1A、第1の導体層3Aが積層されて構成される。 - 特許庁

A second conductivity type second semiconductor layer 3 is provided in contact with a first conductivity type first semiconductor layer 1 having through holes, an insulating layer 5 is provided on the backside of the first semiconductor layer 1, and an overlying conductive layer 7 is connected electrically with the second semiconductor layer 3.例文帳に追加

貫通孔が設けられた第1導電型の第1半導体層1に接して第2導電型の第2半導体層3を設け、第1半導体層1の裏面には絶縁層5を設け、その上の導電層7は第2半導体層3に電気的に接続する。 - 特許庁

This superconductor multilayer structure is provided with a first thin dielectric layer which is formed on a first superconductor layer on a substrate by using high frequency sputtering, a second dielectric layer which is formed thickly on the first dielectric layer by using DC reactive sputtering, and a second superconductor layer formed on the second dielectric layer.例文帳に追加

基板上の第一超電導体層に高周波スパッタリングにより形成した薄い第一誘電体層と該第一誘電体層に直流反応性スパッタリングにより厚く形成した第二誘電体層と該二誘電体層に形成した第二超電導体層を備える。 - 特許庁

A thin film magnetic head is provided with a first magnetic layer 8 and a second magnetic layer 14 (14A, 14B), a gap layers (9A-9C) provided between the first magnetic layer 8 and the second magnetic layer and a thin film coil 10, a part of which is provided between the first magnetic layer 8 and the second magnetic layer.例文帳に追加

薄膜磁気ヘッドは、第1の磁性層8および第2の磁性層(14A,14B)と、第1の磁性層8と第2の磁性層との間に設けられたギャップ層(9A〜9C)と、一部が第1の磁性層8および第2の磁性層の間に設けられた薄膜コイル10とを備えている。 - 特許庁

(2) In the phase transition type optical recording medium mentioned in (1) and having at least a first protective layer, the phase transition recording layer, a second protective layer and a reflection layer on a substrate, the second protective layer consists essentially of an germanium oxide and germanium concentration on the inner peripheral part side of the second protective layer is higher than that on the outer peripheral part side.例文帳に追加

(2)基板上に、少なくとも第一保護層、相変化記録層、第二保護層、反射層を有し、第二保護層が酸化ゲルマニウムを主成分とし、第二保護層の内周部側の方が、外周部側よりもゲルマニウム濃度が高い(1)記載の相変化型光記録媒体。 - 特許庁

The bodies 12 comprise a first layer 14, a compound semiconductor layer 16 provided on the layer 14, and a second layer 18 provided on the layer 16.例文帳に追加

積層体12は、第1の層14と、層14上に設けられた化合物半導体層16と、化合物半導体層16上に設けられた第2の層18とを有する。 - 特許庁

The free magnetic layer 36 is constituted of the three-layered structure of a first enhance layer 36a contacted with a non-magnetic material layer 35, a second enhance layer 36b and a low coercive force layer 36c.例文帳に追加

フリー磁性層36を、非磁性材料層35に接する第1エンハンス層36a、第2エンハンス層36b、低保磁力層36cの3層構造にする。 - 特許庁

In a diagram, the first layer is an electron-transferring layer 201 constituting a part of the light-emitting functional layer, and the second layer is a low refractive-index layer 222 comprising LiF and the like.例文帳に追加

図において、第1層は、発光機能層の一部を構成する電子輸送層201であり、第2層は、LiF等からなる低屈折率層222である。 - 特許庁

The security label 10 includes a surface material 14, a first adhesive layer 16, a base material 18, a second adhesive layer 20, an adhesion reducing layer 22, a conductive layer 24 and an adhesive layer 26.例文帳に追加

セキュリティラベル10は、表面材14、第1の接着層16、支持材18、第2の接着層20、接着力弱化層22、導体層24、粘着層26を含む。 - 特許庁

Between the first recording layer 31 and the second recording layer 32, a first reflection layer 41, an intermediate layer 15, and a protective layer 7 are stacked sequentially from the light incidence side.例文帳に追加

第1の記録層31と第2の記録層32との間には、光入射側から順に第1の反射層41、中間層15及び保護層7が形成されている。 - 特許庁

A first dielectric layer 3, a signal-recording layer 4, a second dielectric layer 5, a light reflection layer 6, and a protection film layer 7 are successively laminated on a substrate 2 for formation.例文帳に追加

基板2上に、第1の誘電体層3と、信号記録層4と、第2の誘電体層5と、光反射層6と、保護膜層7とを順次積層して形成する。 - 特許庁

Drawing data of one of the first layer 31, the second layer 32, and the layer areas 33a-33d of the third layer, and the fourth layer 34 are overlapped and are displayed on a display monitor.例文帳に追加

第1レイヤ31、第2レイヤ32、第3レイヤのレイヤ領域33a〜33dのいずれか一つおよび第4レイヤ34の描画データを重ねて表示モニタに表示する。 - 特許庁

Further, a shrink layer 33 having a second woody layer 36 is provided to the other side of the base material layer 31 so as to be opposed to the woody layer 32 through the base material layer 31.例文帳に追加

また、基材層31の他面には、第2木質層36を有する収縮層33が基材層31を挟んで木質層32と対向するように設けられている。 - 特許庁

A reflection layer 25, a p-type first layer 24, an n-type second layer 23, a p-type third layer 22 and an n-type fourth layer 21 are successively formed on a p-type substrate 51.例文帳に追加

p型基板51上に、反射層25、p型の第1層24、n型の第2層23、p型の第3層22、n型の第4層21が順次形成されている。 - 特許庁

A free layer 18 includes a composite structure where a first ferromagnetic layer, an insertion layer and a second ferromagnetic layer are sequentially laminated from the side of a tunnel barrier layer 17.例文帳に追加

フリー層18は、トンネルバリア層17の側から第1の強磁性層、挿入層および第2の強磁性層が順に積層された複合構造を有する。 - 特許庁

The second conductor film 15 is composed of a single Cu layer or composed of an Ni layer at a side in contact with the dielectric layer 11 and a Cu layer formed on the Ni layer.例文帳に追加

第2の導体膜15は、単一のCu層からなり、又は、誘電体層11に接する側のNi層とこのNi層上に形成されたCu層とからなる。 - 特許庁

A free layer 18 has a composite structure configured by successively laminating a first ferromagnetic layer, an insertion layer and a second ferromagnetic layer from the side of a tunnel barrier layer 17.例文帳に追加

フリー層18は、トンネルバリア層17の側から第1の強磁性層、挿入層および第2の強磁性層が順に積層された複合構造を有する。 - 特許庁

The glass layer 10 is constituted of a first glass layer 8 at a lower layer side and a second glass layer 9 which is formed at an outer surface side than the first glass layer 8 and contains an antibacterial metal.例文帳に追加

ガラス層10は、下層側の第1ガラス層8と、第1ガラス層8より外面側に形成され、抗菌金属を含む第2ガラス層9とからなる。 - 特許庁

A gate oxide film 6, a polysilicon layer (first gate layer ) 9, a tungsten silicide layer (second gate layer) 10 and an insulation layer 8 are formed on a surface of a silicon substrate 2.例文帳に追加

シリコン基板2の表面上に、ゲート酸化膜6、ポリシリコン層(第1ゲート層)9、タングステンシリサイド層(第2ゲート層)10および絶縁層8が形成される。 - 特許庁

An upper clad layer 106 is constituted of a first upper clad layer 106a on the side of an active layer 105 and a second upper clad layer 106b on the first upper clad layer 106a.例文帳に追加

上部クラッド層106が、活性層105側の第1上部クラッド層106aとその上の第2上部クラッド層106bとによって構成されている。 - 特許庁

例文

A reflection layer 3, a first dielectric layer 4, a recording layer 5 and a second dielectric layer 6 are successively laminated on a non-magnetic disk baseboard 2 so as to obtain the optical recording layer 7.例文帳に追加

非磁性のディスク基板2上に、反射層3、第1の誘電体層4、記録層5および第2の誘電体層6を順次積層して光記録層7を設ける。 - 特許庁




  
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