「spinless」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To detect the film thickness unevenness of a coating film applied by a so-called spinless coater-type coating device.例文帳に追加

いわゆるスピンレスコータ型の塗布装置によって塗布された塗布膜の膜厚ムラを検出する。 - 特許庁

To provide a bellows pump for applying a resist liquid by a spinless method and capable of easily exchanging a member for sealing a drive member.例文帳に追加

駆動部材をシールする部材の交換等が容易なスピンレス法によりレジスト液を塗布するベローズポンプを提供する。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition having favorable coating property even when the composition is used for a liquid-saving coating machine such as a spinless coating machine.例文帳に追加

スピンレスコーターなどの省液コーターに用いても塗布性良好な着色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition suitable for forming a resin film on a large substrate by a spinless slit coat method.例文帳に追加

スピンレススリットコート法によって大型基板に樹脂膜を形成するのに適した感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The substrate W having a coating film formed on the surface thereof by the so-called spinless coating is placed and held on a hot plate 6.例文帳に追加

いわゆるスピンレスコートにより基板表面に塗布膜が形成された基板Ｗがホットプレート６上に載置保持される。 - 特許庁

By the spinless coating method, coating on a large-scale substrate in a uniform thickness is made possible and defects can be minimized.例文帳に追加

これにより、スピンレスコーティング方法により大型基板に均一な厚さコーティングされることができ、欠陥が最小化されることができる。 - 特許庁

To shorten remarkably a tact time for processing operation of supplying processing liquid to a substrate to be processed or applying the same on the substrate to be processed through spinless system.例文帳に追加

スピンレス方式で被処理基板上に処理液を供給ないし塗布する処理動作のタクトタイムを大幅に短縮すること。 - 特許庁

To improve coating quality by improving film thickness controllability in the vicinity of the coating scanning finish part in a spinless coating method using a long sized nozzle.例文帳に追加

長尺形ノズルを用いるスピンレス塗布法において塗布走査終了部付近の膜厚制御性を改善して塗布品質を向上させる。 - 特許庁

A pattern forming method is also provided in which a substrate is coated with the radiation sensitive resin composition by the spinless slit coat method.例文帳に追加

このスピンレススリットコート用感放射線性樹脂組成物を、スリットスコート法により基板に塗布することを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

To accurately and surely detect a harmful back surface foreign matter that may cause a slit nozzle to scratch an upper surface of a substrate to make a flaw, in a spinless coating method of a floating system.例文帳に追加

浮上方式のスピンレス塗布法においてスリットノズルに基板の上面を擦らせて傷を付けるおそれのある有害な裏面異物を精度よく確実に検出すること。 - 特許庁

PHOTORESIST COMPOSITION FOR ORGANIC FILM OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY, SPINLESS COATING METHOD THEREOF, FABRICATION METHOD OF ORGANIC FILM PATTERN USING THE SAME, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY FABRICATED BY THE SAME例文帳に追加

液晶表示装置の有機膜フォトレジスト組成物、そのスピンレスコーティング方法、これを用いた有機膜パターン形成方法及びこれにより製造された液晶表示装置 - 特許庁

To obtain in a simple and easy manner, optimum conditions of a control waveform and timing for improving the film thickness uniformity of a coated film with respect to nozzle discharge pressure and scanning speed in a spinless coating method.例文帳に追加

スピンレス塗布法におけるノズル吐出圧力および走査速度について塗布膜の膜厚均一性を向上させる制御波形およびタイミングの最適条件を簡便に求める。 - 特許庁

There are also provided a spinless coating method using the composition, a method for fabricating an organic film pattern, and a liquid crystal display including an organic film pattern fabricated by the composition.例文帳に追加

この組成物を使用したスピンレスコーティング方法と有機膜パターンの形成方法及びこの組成物により製造された有機膜パターンを含む液晶表示装置も提供される。 - 特許庁

To provide a spinless type coating method and apparatus capable of stably performing the thickness control of a coating film, particularly the uniformalization of film thickness at the coating scanning terminal part with an excellent reproducibility.例文帳に追加

塗布膜の膜厚制御、特に塗布走査終端部の膜厚均一化を安定した動作で再現性よく行えるスピンレス方式の塗布方法および塗布装置を提供する。 - 特許庁

In the radiation sensitive resin composition for spinless slit coat containing an alkali-soluble novolac resin and a photosensitizing agent, a viscosity at 25°C is set to 2-7 mPa s.例文帳に追加

アルカリ可溶性ノボラック樹脂と感光剤を含有する感放射線性樹脂組成物において、２５℃での粘度が２〜７ｍＰａ・ｓであることを特徴とするスピンレススリットコート用感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

To shorten a processing cycle time of a processing operation of supplying and applying a processing solution on a substrate to be processed in a spinless system, and form an applied film of the processing solution on the substrate with a uniform thickness without uneven application.例文帳に追加

スピンレス方式で被処理基板上に処理液を供給ないし塗布する処理動作のタクトタイムを短縮するとともに、被処理基板上に処理液の塗布膜を塗布ムラのない均一な膜厚で形成すること。 - 特許庁

To shorten the tact time of a treatment operation for supplying treatment liquid on a substrate to be treated in a spinless system, and to form the application film of the treatment liquid on the substrate to be treated with uniform film thickness in a floating conveyance system.例文帳に追加

スピンレス方式で被処理基板上に処理液を供給する処理動作のタクトタイムを短縮するとともに、浮上搬送方式において被処理基板上に処理液の塗布膜を均一な膜厚で形成すること。 - 特許庁

To provide a slit nozzle for a spinless coater which monitors, without personal confirmation, whether the leading edge of a slit die is surely dipped in the surface of a washing liquid in a dipping tank in a drying prevention mode, and which controls the generation of foreign matters.例文帳に追加

スピンレスコーター用スリットノズルにおいて、乾燥防止モードでスリットダイ先端がディップ槽の洗浄液の液面に確実に漬かっているかどうかを、人の確認無しに監視可能で、異物の発生を抑制するスリットノズルを提供する。 - 特許庁

To provide a film thickness correction method capable of obtaining a uniform coating film by correcting the thickness fluctuations of the coating film formed on the surface of a substrate by the so-called spinless coating, a film thickness correction apparatus, a coating apparatus and a heating device.例文帳に追加

いわゆるスピンレスコートにより基板表面に形成された塗布膜の厚さ変動を矯正して均一な塗布膜を得ることができる膜厚矯正方法、膜厚矯正装置、塗布装置および加熱装置を提供する。 - 特許庁

To provide a spinless coat device controlling the film thicknesses to target values respectively at a plurality of kinds of films each having a target film thickness in the same substrate, and also to provide a color filter substrate having a plurality of kinds of impositions using the device.例文帳に追加

同一ガラス基板内に複数の狙い膜厚がある品種に対して、それぞれの狙い値に膜厚を制御できるスピンレスコート装置を提供することと、その装置を用いた複数品種の面付けを持つカラーフィルタ基板を提供する。 - 特許庁

To improve the efficiency of vacuum-drying processing and shorten the processing time just after coating in a spinless coating method using slit nozzles, and to enhance the uniformity of quality of a coated resist film after vacuum-drying processing.例文帳に追加

スリットノズルを使用するスピンレス塗布法において塗布処理直後に行われる減圧乾燥処理の効率性の向上および処理時間の短縮化を実現するとともに、減圧乾燥処理後のレジスト塗布膜の膜質均一性を向上させる。 - 特許庁

To reduce the tact time of processing operation for supplying or coating a substrate to be processed with a process liquid using a spinless system, and to form a coating of the process liquid on the substrate with a uniform thickness without uneven coating by a floating carrying system.例文帳に追加

スピンレス方式で被処理基板上に処理液を供給ないし塗布する処理動作のタクトタイムを短縮するとともに、浮上搬送方式において基板上に処理液の塗布膜を塗布ムラのない均一な膜厚で形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive organic material which is suitable for application onto a large substrate, improves uniformity of application, prevents occurrence of unevenness such as streaky unevenness and haze unevenness, achieves an increased application speed by spinless coat, and can enhance the quality of an end product.例文帳に追加

大型基板上への塗布に適しており、塗布均一度が向上する他、スジムラやモヤムラなどのムラの発生を防ぐと共に、スピンレスコートにより塗布速度が高速になり、しかも、最終品の品質を高めることのできる感光性有機物を提供する。 - 特許庁

To provide a coating liquid for forming an oxygen insulation film capable of uniformly forming even a coating film thinner than 0.5 μm and applicable even to a large substrate for which a spinless coater or the like is used, and to increase the manufacturing efficiency of a color filter by forming an oxygen insulation film on a photosensitive colored resin film by applying the coating liquid thereon.例文帳に追加

０.５μmより薄い塗膜であっても均一に形成することができ、スピンレスコーターなどが利用される大型基板にも適用可能な、酸素遮断膜形成用の塗布液を提供し、感光性着色樹脂膜上にその塗布液を塗布して酸素遮断膜を形成することで、カラーフィルターの生産効率を上げる。 - 特許庁