「sputtering」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a sputtering target suitable for forming a recording layer exhibiting satisfactory characteristics by DC sputtering and a high-density optical recording medium using the sputtering target and a manufacturing for the same.例文帳に追加

良好な特性を示す記録層を直流スパッタリングで形成するのに適したスパッタリングターゲットとその製造方法、並びに、該スパッタリングターゲットを用いた高密度光記録媒体とその製造方法の提供。 - 特許庁

The primer layer 9 is formed by sputtering using an SiC target.例文帳に追加

この下地層９は、ＳｉＣターゲットによるスパッタリング等で形成される。 - 特許庁

SPUTTERING OF COMPOSITE TARGET FOR FORMING DOPED PHASE CHANGE MATERIAL例文帳に追加

ドープされた相変化材料を形成するための複合ターゲットのスパッタリング - 特許庁

To provide a magnetron sputtering device capable of enhancing the target utilization efficiency.例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング装置においてターゲット利用効率を向上させる。 - 特許庁

The sputtering is carried out on conditions that the kind of sputtering gas is mixed gas containing hydrogen gas and inert gas of 5:95 to 20:80 mixing ratio (%) and that the temperature of the substrate is 0 to -20°C.例文帳に追加

スパッタリングガス種：水素ガスと不活性ガスの混合比率（％）が５：９５〜２０：８０である混合ガス、基板温度：０〜−２０℃。 - 特許庁

At least one layer of the laminated film is a gas barrier sputtering film 4A.例文帳に追加

積層膜の少なくとも一層は、ガスバリア性スパッタ膜４Ａである。 - 特許庁

Mo SPUTTERING TARGET HARDLY CAUSING PARTICLE GENERATION, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

パーティクル発生の少ないＭｏスパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

An optical recording layer of the optical media is formed by the sputtering target.例文帳に追加

また、本スパッタリングターゲットにより光メディアの光記録層を成膜する。 - 特許庁

To provide a sputtering target improving characteristics of an optical information recording medium and considerably improving the productivity thereof and to provide a method of producing the sputtering target.例文帳に追加

光情報記録媒体の特性の向上及び生産性を大幅に改善するスパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering wiring process for forming wiring by sputtering, which pinches an outer periphery of a substrate between a heater and a clamp ring in a sputtering device to hold the substrate, which prevents the substrate from getting chipped.例文帳に追加

配線部をスパッタリングにより形成するスパッタ配線工程において、基板の外周部を、スパッタ装置内のヒーターとクランプリングとにより挟み込み、基板を保持することによる、基板の欠けの発生を抑制する。 - 特許庁

On sputtering, the preliminarily heated target material 5 is further heated by plasma, so that the sputtering efficiency improves, and the film deposition rate improves.例文帳に追加

スパッタリング時には、予備加熱されたターゲット材料５がプラズマによって、さらに加熱され、スパッタ効率が向上し、成膜レートが向上する。 - 特許庁

OPTICAL RECORDING MEDIUM, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND TARGET FOR SPUTTERING例文帳に追加

光学記録媒体およびその製造方法、並びにスパッタリング用ターゲット - 特許庁

The target material for sputtering is expressed by the composition of (Zr_x, Hf_1-x)Si_yO_2(1+y) (0≤x≤1, and 0.5≤y≤1.2).例文帳に追加

(Zr_x，Hf_1-x)Si_yO_2(1+y)(0≦x≦1、0.5≦y≦1.2)の組成で表されるスパッタリング用ターゲット。 - 特許庁

To provide a sputtering system and a sputtering method capable of forming a ferroelectric film having satisfactory orientation properties for a long period of time.例文帳に追加

良好な配向性の強誘電体膜を長期にわたり形成することができるスパッタリング装置及びスパッタリング方法を提供する。 - 特許庁

THIN FILM TRANSISTOR SUBSTRATE, DISPLAY DEVICE, SPUTTERING TARGET THEREFOR例文帳に追加

薄膜トランジスタ基板、表示デバイス、および表示デバイス用のスパッタリングターゲット - 特許庁

This method can be used for both the conventional sputtering target (29) and the newly-developed hollow cathode magnetron sputtering target (10).例文帳に追加

本発明の方法は従来のスパッタターゲット（２０）並びに新規開発した中空のカソードマグネトロンスパッタターゲット（１０）に対しても使用可能である。 - 特許庁

And a chrome thin film 6 is deposited on the resist 2 by sputtering (i).例文帳に追加

そして、その上にスパッタリングによりクロム薄膜６を成膜する（ｉ）。 - 特許庁

To provide a method which can effectively produce a sputtering target having a bulk resistance value to a degree that a DC sputtering process can be used.例文帳に追加

直流スパッタリング法が使用できる程度にバルク抵抗値が低いスパッタリングターゲットを効果的に製造することのできる方法を提供する。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR Sn ALLOY FILM DEPOSITION ON OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM例文帳に追加

光情報記録媒体のＳｎ合金膜成膜用スパッタリングターゲット - 特許庁

SOLID PHASE DIFFUSION-JOINED SPUTTERING TARGET ASSEMBLY AND ITS PRODUCING METHOD例文帳に追加

固相拡散接合スパッタリングターゲット組立て体及びその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR METAL SILICIDE WIRING AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

金属シリサイド配線用スパッタターゲットおよびこのスパッタターゲットの製造方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING HIGH-PURITY METAL, HIGH-PURITY METAL, SPUTTERING TARGET CONSISTING OF THIS HIGH-PURITY METAL AND THIN FILM FORMED BY THIS SPUTTERING TARGET例文帳に追加

高純度金属の製造方法、高純度金属、同高純度金属からなるスパッタリングターゲット及び該スパッタリングターゲットにより形成した薄膜 - 特許庁

MAGNET STRUCTURE FOR MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND CATHODE ELECTRODE UNIT, AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS, AND METHOD FOR USING MAGNET STRUCTURE例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング装置用の磁石構造体およびカソード電極ユニット並びにマグネトロンスパッタリング装置並びに磁石構造体の使用方法 - 特許庁

The sputtering target comprises metal zinc, zinc oxide and indium oxide, wherein the metal zinc is dispersed into the sputtering target.例文帳に追加

金属亜鉛、酸化亜鉛及び酸化インジウムを含むスパッタリングターゲットであって、前記金属亜鉛がスパッタリングターゲット中で分散しているスパッタリングターゲット。 - 特許庁

MAGNETRON CATHODE ELECTRODE, AND SPUTTERING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

マグネトロンカソード電極及びマグネトロンカソード電極を用いたスパッタリング方法 - 特許庁

Ag ALLOY THIN FILM ELECTRODE, ORGANIC EL ELEMENT AND TARGET FOR SPUTTERING例文帳に追加

Ａｇ合金薄膜電極、有機ＥＬ素子及びスパッタリング用ターゲット - 特許庁

HIGH PURITY COPPER OR COPPER ALLOY SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

高純度銅または銅合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

SPUTTERING DEVICE, THIN-FILM-FORMING APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加

スパッタ装置、薄膜形成装置及び磁気記録媒体の製造方法 - 特許庁

To provide a method of designing a sputtering system where optimum sputtering cathode conditions are obtained, and the cracking and peeling of a target can be prevented.例文帳に追加

最適なスパッタカソード条件を計算で求め、ターゲットの割れや剥がれを未然に防止しうるスパッタ装置を設計する方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, charging damage in sputtering is greatly suppressed.例文帳に追加

これにより、スパッタリング時におけるチャージングダメージの発生を大幅に抑制する。 - 特許庁

To provide a sputtering target for depositing a Co-based magnetic film having excellent coercive force and less medium noise by the sputtering method.例文帳に追加

保磁力に優れ、媒体ノイズの少ないＣｏ系合金磁性膜をスパッタリング法によって形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

(1) In the manufacturing method of the optical information recording medium, the time (sputtering starting time) directly after the substrate is molded until sputtering is started is managed and only the substrate whose sputtering starting time is set in a predetermined fixed time is sputtered.例文帳に追加

（１）基板成形直後からスパッタ開始までの時間（スパッタ開始時間）を管理し、スパッタ開始時間が予め設定した一定時間内に収まる基板のみをスパッタする光情報記録媒体の製造方法。 - 特許庁

TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM DEPOSITION METHOD, AND SPUTTERING SYSTEM FOR USE IN THE METHOD例文帳に追加

透明導電膜形成方法及び該方法に用いるスパッタリング装置 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法 - 特許庁

To provide an ITO sputtering target material having high usage efficiency, a long life, and a small aging change of a sputtering condition, and to provide an ITO sputtering target and an ITO sintered compact that is suited for using to obtain them.例文帳に追加

使用効率が高く、長寿命で、スパッタリング条件の経時変化の小さいＩＴＯスパッタリングターゲット材およびＩＴＯスパッタリングターゲット、ならびにこれらに用いるのに好適なＩＴＯ焼結体を提供する。 - 特許庁

SUPERCONDUCTIVE MAGNETIC FIELD GENERATOR AND FILM SPUTTERING DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

超電導磁場発生装置及びそれを用いたスパッタリング成膜装置 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING SPUTTERING TARGET FOR USE IN FORMING CHALCOPYRITE TYPE SEMICONDUCTOR FILM例文帳に追加

カルコパイライト型半導体膜成膜用スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁

PRODUCTION OF HIGH DENSITY SPUTTERING TARGET COMPOSED OF TWO OR MORE KINDS OF METALS例文帳に追加

２種以上の金属から成る高密度スパッタ・ターゲットの製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE GLASS, AND TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE FILM例文帳に追加

スパッタリング用ターゲット及び透明導電ガラス並びに透明導電フィルム - 特許庁

METHOD FOR SEPARATING SPUTTERING TARGET ASSEMBLED BODY SUBJECTED TO SOLID PHASE DIFFUSION JOINING例文帳に追加

固相拡散接合されたスパッタリングターゲット組立体の分離方法 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING MEDIUM USING THE SAME例文帳に追加

スパッタリング装置及びそれを用いた磁気記録媒体の製造方法 - 特許庁

TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, SPUTTERING TARGET AND BASIC BODY WITH TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM例文帳に追加

透明導電膜、スパッタリングターゲットおよび透明導電膜付き基体 - 特許庁

FINE PATTERN FORMING MATERIAL, STACKED STRUCTURE AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

微細パターン形成材料、および積層構造体、ならびにスパッタリングターゲット - 特許庁

To provide a sputtering target which provides a transparent electroconductive film with low electric resistance even though containing a reduced amount of indium, and to provide a method for manufacturing the sputtering target.例文帳に追加

インジウムを削減しても低抵抗な透明導電膜が得られるスパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target for optical media capable of producing an interference layer, which has a high refractive index and can ensure a sufficient shelf life of an optical medium, of the optical medium by DC sputtering, and to provide a method for producing the sputtering target.例文帳に追加

高屈折率でありかつ光メディアの保存性を十分に確保できる光メディアの干渉層をＤＣスパッタリングにより製造可能なスパッタリングターゲット、及び、スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。 - 特許庁