「sputtering」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

FIELD EFFECT TRANSISTOR, MANUFACTURING METHOD OF THE SAME AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

電界効果型トランジスタ、その製造方法及びスパッタリングターゲット - 特許庁

Ni-W SPUTTERING TARGET AND BLACK MATRIX USING IT例文帳に追加

Ｎｉ−Ｗ系スパッタリングターゲット及びこれを用いたブラックマトリックス - 特許庁

Fe-Co-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR FORMING SOFT MAGNETIC FILM例文帳に追加

軟磁性膜形成用Ｆｅ−Ｃｏ系合金スパッタリングターゲット材 - 特許庁

INFORMATION RECORDING MEDIUM, ITS MANUFACTURING METHOD, AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

情報記録媒体とその製造方法、およびスパッタリングターゲット - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING LITHIUM PHOSPHATE SINTERED COMPACT, AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

リン酸リチウム焼結体の製造方法およびスパッタリングターゲット - 特許庁

Ag-Bi-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

Ａｇ−Ｂｉ系合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

To provide a ferromagnetic sputtering target for magnetron sputtering whose exchanging frequency can be reduced by elongating its service life.例文帳に追加

寿命を長くして交換頻度を少なくすることができる、マグネトロンスパッタリング用の強磁性体スパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR PHASE-CHANGE-RECORDING FILM, AND PHASE-CHANGE-RECORDING FILM HAVING HIGH ELECTRICAL RESISTANCE FORMED BY USING THE SPUTTERING TARGET例文帳に追加

相変化記録膜用スパッタリングターゲットおよびこのスパッタリングターゲットを用いて形成した電気抵抗の高い相変化記録膜 - 特許庁

A device for sputtering materials on a work piece includes a target, containing a first metal and a coil having a sputtering surface.例文帳に追加

ワークピース上に材料をスパッタするための装置は、第一金属を含むターゲットと、スパッタリング表面を有するコイルを含む。 - 特許庁

MAGNETRON SPUTTERING EQUIPMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK BLANK THEREWITH例文帳に追加

マグネトロンスパッタ装置とそれを用いたフォトマスクブランクの製造方法 - 特許庁

Cu-Ga ALLOY AND Cu-Ga ALLOY SPUTTERING TARGET例文帳に追加

Ｃｕ−Ｇａ合金およびＣｕ−Ｇａ合金スパッタリングターゲット - 特許庁

TUNGSTEN SINTERED COMPACT TARGET FOR SPUTTERING, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

スッパタリング用タングステン焼結体ターゲット及びその製造方法 - 特許庁

The magnetic recording layer 9 is formed by an ECR sputtering method.例文帳に追加

磁気記録層９はＥＣＲスパッタ法を用いて形成できる。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURED USING THE SAME例文帳に追加

スパッタリングターゲット及びこれを利用して製造される半導体素子 - 特許庁

Thus, the negative voltage portion and the zero voltage portion are alternately changed to realize the circulation between a sputtering step and a reverse sputtering step.例文帳に追加

従って、負の電圧部分とゼロの電圧部分が交互に変えてスパッタステップと逆スパッタステップの間を循環させる。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING SOLID PHASE DIFFUSION-JOINED SPUTTERING TARGET ASSEMBLY例文帳に追加

固相拡散接合スパッタリングターゲット組立て体の製造方法 - 特許庁

PROTECTIVE FILM FOR OPTICAL DISK, AND SPUTTERING TARGET FOR FORMING PROTECTIVE FILM例文帳に追加

光ディスク用保護膜及び保護膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁

A target is demarcated into a plurality of areas, and the power used for each sputtering is obtained every time when each sputtering is completed.例文帳に追加

ターゲットを複数の領域に区画し、各回のスパッタリングの終了毎にその回のスパッタリングに使用された電力を求める。 - 特許庁

To provide an apparatus sputtering a material on a working piece.例文帳に追加

加工片上に材料をスパッタリングする装置を提供する。 - 特許庁

SINTERED SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR DEPOSITION OF OPTICAL RECORDING MEDIUM PROTECTIVE LAYER, SHOWING EXCELLENT RESISTANCE TO LOSS BY FRACTURE UNDER HIGH OUTPUT SPUTTERING CONDITION例文帳に追加

高出力スパッタ条件ですぐれた耐割損性を発揮する光記録媒体保護層形成用スパッタリングターゲット焼結材 - 特許庁

when the thin film is formed using a magnetron sputtering device, a prescribed magnetic field is kept applied, while sputtering is being carried out.例文帳に追加

薄膜がマグネトロンスパッタ装置を用いて成膜される場合、スパッタが行われる間、所定の磁場が常に保持され続ける。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR DEPOSITING THIN FILM, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

薄膜形成用スパッタリングターゲット材及びその製造方法 - 特許庁

To provide a method for producing an MoNb based sputtering target material where production of splashes upon sputtering film deposition is remarkably reduced.例文帳に追加

スパッタリング成膜時のスプラッシュの発生を格段に低減させるＭｏＮｂ系スパッタリングターゲット材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target for forming an optical recording medium protective film free from the generation of crack even in high power gas sputtering.例文帳に追加

大電力スパッタリングを行っても割れ発生がない光記録媒体保護膜形成用スパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

OPTICAL DISK PROTECTIVE FILM AND SPUTTERING TARGET FOR FORMATION OF THAT PROTECTIVE FILM例文帳に追加

光ディスク保護膜及び同保護膜形成用スパッタリングタ—ゲット - 特許庁

METAL MASK FOR SPUTTERING, AND COLOR FILTER MANUFACTURED BY THE METAL MASK例文帳に追加

スパッタ用メタルマスクおよび該メタルマスクにより製造されたカラーフィルタ - 特許庁

ASSEMBLY OF SPUTTERING TARGET AND BACKING PLATE WITH LESS PARTICLE GENERATION例文帳に追加

パーティクル発生の少ないスパッタリングターゲット−バッキングプレート組立体 - 特許庁

COPPER FILM PRODUCTION METHOD, AND SPUTTERING DEVICE USED FOR THE METHOD例文帳に追加

銅薄膜製造方法、及びその方法に用いるスパッタ装置 - 特許庁

SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING Nb OXIDE FILM USING THE SAME例文帳に追加

スパッタリングターゲットとそれを用いたＮｂ酸化膜の製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET SINTERED MATERIAL FOR FORMING PHOTORECORDING MEDIUM PROTECTIVE LAYER EXHIBITING EXCELLENT CRACKING DAMAGE RESISTANCE IN HIGH OUTPUT SPUTTERING CONDITION例文帳に追加

高出力スパッタ条件ですぐれた耐割損性を発揮する光記録媒体保護層形成用スパッタリングターゲット焼結材 - 特許庁

SINTERED SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR FORMING PROTECTIVE LAYER OF LIGHT MEDIA, SHOWING SUPERIOR FRACTURE RESISTANCE UNDER HIGH-POWER SPUTTERING CONDITION例文帳に追加

高出力スパッタ条件ですぐれた耐割損性を発揮する光記録媒体保護層形成用スパッタリングターゲット焼結材 - 特許庁

MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING ARTICLE HAVING THIN-FILM FORMED THEREON例文帳に追加

マグネトロンスパッタリング装置及び薄膜形成物製造方法 - 特許庁

METALLIC MATERIAL, SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR THIN FILM DEPOSITION AND THIN FILM例文帳に追加

金属材料、薄膜形成用スパッタリングターゲット材及び薄膜 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR MANUFACTURING OPTICAL THIN FILM BY SPUTTERING例文帳に追加

スパッタリングによる光学薄膜の製造方法及び製造装置 - 特許庁

The sputtering target is composed of the obtained composite oxide-sintered compact.例文帳に追加

得られた複合酸化物焼結体からなるスパッタリングターゲット。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, THIN-FILM-FORMING APPARATUS AND THIN-FILM-FORMING METHOD例文帳に追加

スパッタ用ターゲット，薄膜形成装置及び薄膜形成方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, AND METHOD OF PRODUCING OXIDE FILM USING THE SAME例文帳に追加

スパッタリングターゲットおよびそれを用いた酸化膜の製造方法 - 特許庁

To provide a sputtering apparatus which detects any abnormal sputtering of a metal other than a target material, and prevents a large volume of defective production.例文帳に追加

ターゲット材以外の金属の異常スパッタリングを検出し、大量の不良生産を防止するスパッタ装置を提供する。 - 特許庁

Ge-Cr ALLOY SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

Ｇｅ−Ｃｒ合金スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

To form a sufficiently oxidized titanium oxide film by a sputtering method at high sputtering speed using a simpler and easier equipment constitution.例文帳に追加

スパッタ法により、より簡便な装置構成で、高いスパッタ速度で十分に酸化された酸化チタン膜が形成できるようにする。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING PIEZOELECTRIC FILM BY USING ROTATING MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加

回転マグネトロンスパッタシステムを用いて圧電膜を製作する方法 - 特許庁

ALLOY FOR SEED LAYER OF MAGNETIC RECORDING MEDIUM, AND SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加

磁気記録媒体のシード層用合金およびスパッタリングターゲット材 - 特許庁

A first barrier layer 11 is formed in the via hole 8 by a sputtering method or a PVD method and reverse-sputtering (etching).例文帳に追加

次に、スパッタリング法またはＰＶＤ法、及び逆スパッタリング（エッチング）によりビアホール８内に第１のバリア層１１を形成する。 - 特許庁

BiTi BASED OXIDE SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

ＢｉＴｉ系酸化物スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

ITO SINTERED COMPACT, ITO SPUTTERING TARGET AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

ＩＴＯ燒結体、ＩＴＯスパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁