「sputtering」に関連した英語例文の一覧と使い方(39ページ目) - Weblio英語例文検索

The barrier film 114 thinned by the etching is deposited by isotropic sputtering.例文帳に追加

このエッチングにより薄くなったバリア膜１１４を等方性スパッタリングにより堆積させる。 - 特許庁

The reflection film 30 in composed of a titanium-metal thin film formed by sputtering.例文帳に追加

反射膜３０は、スパッタ法により成膜されたチタン-金薄膜から構成されている。 - 特許庁

Al-Ni-La-Si-BASED AL ALLOY SPUTTERING TARGET AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

Ａｌ−Ｎｉ−Ｌａ−Ｓｉ系Ａｌ合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

MEDIUM FOR OPTICAL INFORMATION RECORDING, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

光学的情報記録用媒体およびその製造方法ならびにスパッタリング用ターゲット - 特許庁

ITO SPUTTERING TARGET, AND PRODUCTION OF ITO SINTERED COMPACT AND TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM例文帳に追加

ＩＴＯスパッタリングターゲット、並びにＩＴＯ焼結体及び透明導電膜の製造方法 - 特許庁

The base plated layer and the finish plated layer can be formed by the sputtering method.例文帳に追加

下地めっき層および仕上めっき層は、スパッタリング法により形成することができる。 - 特許庁

Film deposition is successively performed by sputtering on the glass substrate 1 on which texture is formed.例文帳に追加

テクスチャーを形成したガラス基板１上へ、スパッタリングにより順次成膜を行なった。 - 特許庁

Thereby, a thin film is formed on the surface of the flexible substrate by the gas-flow sputtering technique.例文帳に追加

これにより、フレキシブル基板の表面にガスフロースパッタリング法により薄膜が形成される。 - 特許庁

CoPt SPUTTERING TARGET, ITS PRODUCTION AND CoPt-MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加

ＣｏＰｔ系スパッタリングターゲットおよびその製造方法ならびにＣｏＰｔ系磁気記録媒体 - 特許庁

SPUTTERING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING SOLAR BATTERY AND IMAGE DISPLAY DEVICE BY USING THE SAME例文帳に追加

スパッタリング装置、それを用いた太陽電池及び画像表示装置の製造方法 - 特許庁

To provide a sputtering device capable of maintaining stable discharge and improving work efficiency.例文帳に追加

安定した放電が維持し、且つ作業効率が向上するスパッタリング装置を実現させる。 - 特許庁

To provide a double-sided sputtering apparatus that suppresses thermal stress and does not degrade substrate quality.例文帳に追加

熱ストレスを抑制し、基板品質を劣化させない両面スパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a compact sputtering apparatus having a small space to allow a screening mechanism to retract.例文帳に追加

遮蔽機構の退避のためのスペースを小さくしてコンパクトなスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

By the magnetic field, the ionization of the particles to be sputtered is promoted, and self-sputtering stably occurs.例文帳に追加

磁場により被スパッタリング粒子のイオン化が促進されセルフスパッタリングが安定して起こる。 - 特許庁

RECORDING LAYER FOR OPTICAL INFORMATION-RECORDING MEDIUM, OPTICAL INFORMATION-RECORDING MEDIUM, AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

光情報記録媒体用記録層、光情報記録媒体、およびスパッタリングターゲット - 特許庁

RARE EARTH ELEMENT-TRANSITION METAL SERIES SINTERED BODY FOR SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

スパッタリングターゲット用希土類元素−遷移金属系焼結体およびその製造方法 - 特許庁

Cu-In-Ga TERNARY SINTERED ALLOY SPUTTERING TARGET, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

Ｃｕ−Ｉｎ−Ｇａ三元系焼結合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

TARGET FOR SPUTTERING, ITS PRODUCTION METHOD AND METHOD FOR DEPOSITING THIN FILM FOR OPTICAL WAVEGUIDE例文帳に追加

スパッタリング用ターゲット、その製造方法及び光導波路用薄膜の形成方法 - 特許庁

A light shielding layer 12 is formed on the second surface 11b of the substrate 11 by a sputtering method.例文帳に追加

基板１１の第２面１１ｂには、スパッタ法で遮光層１２が形成されている。 - 特許庁

POLYCRYSTAL MgO SINTERED COMPACT, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, AND MgO TARGET FOR SPUTTERING例文帳に追加

多結晶ＭｇＯ焼結体及びその製造方法、並びにスパッタリング用ＭｇＯターゲット - 特許庁

Thus, the cobalt, chromium, boron or the like in the sputtering target can be uniformly dispersed.例文帳に追加

このため、前記スパッタリングターゲットにおけるコバルト、クロム、ホウ素等は均一に分散される。 - 特許庁

To increase the number of target atoms vertically beat out from a sputtering target.例文帳に追加

スパッタリング用ターゲットから垂直方向に叩き出されるターゲット原子の個数を増大させる。 - 特許庁

Preferably, the leakage flux is ≤0.2 T, and the range of the sputtering gas pressure is 0.1-0.3 Pa.例文帳に追加

好ましくは、漏洩磁束を０．２Ｔ以下とし、スパッタガス圧の範囲を０．１〜０．３Ｐａとする。 - 特許庁

This drying process is performed immediately before the drying process in CVD, sputtering, etc.例文帳に追加

この乾燥工程をＣＶＤやスパッタなどのドライ工程の直前に置くよう構成する。 - 特許庁

ELECTROCONDUCTIVE TITANIUM OXIDE SINTERED COMPACT, ITS RRODUCTION AND SPUTTERING TARGET USING THE SAME例文帳に追加

導電性酸化チタン焼結体とその製造方法及びこれを用いたスパッタリングターゲット - 特許庁

The sputtering target contains the metal X in an amount of 0 atom% or more but less than 15 atom%.例文帳に追加

スパッタターゲットは、０原子％より多く１５原子％未満のＸを含有する。 - 特許庁

SOFT MAGNETIC ALLOY FOR MAGNETIC RECORDING MEDIUM, SPUTTERING TARGET MATERIAL AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加

磁気記録媒体用軟磁性合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 - 特許庁

Preferably, the size of each side-surface electrode 12d is controlled by its sputtering time.例文帳に追加

側面電極１２ｄの大きさを、スパッタリングの時間で制御することが好ましい。 - 特許庁

Al-Ni-La-Cu-BASED Al ALLOY SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

Ａｌ−Ｎｉ−Ｌａ−Ｃｕ系Ａｌ基合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法 - 特許庁

In addition, an Ir lower-part electrode 4 is formed on the barrier metal layer 3 through the sputtering method.例文帳に追加

更に、バリアメタル層３上にスパッタリング法により、Ｉｒ下部電極４を形成する。 - 特許庁

TRANSPARENT CONDUCTIVE THIN FILM, ITS MANUFACTURING METHOD, AND SPUTTERING TARGET USED FOR ITS MANUFACTURE例文帳に追加

透明導電性薄膜とその製造方法及びその製造に用いるスパッタリングターゲット - 特許庁

A thin-film electrode for a piezoelectric element used for a sounding body is formed by a sputtering method.例文帳に追加

発音体に使用される圧電素子用薄膜電極を、スパッタリング法により形成する。 - 特許庁

Regarding the outside diameter (C) of a target 1 for sputtering, a target surface temperature distribution is considered.例文帳に追加

スパッタリング用ターゲット１の外径（Ｃ）は、ターゲット表面温度分布が考慮されている。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR MAGNETOOPTIC DISK BY INDUCTIVELY COUPLED RF PLASMA SUPPORTED MAGNETRON SPUTTERING METHOD例文帳に追加

誘導結合ＲＦプラズマ支援マグネトロンスパッタ法における光磁気ディスクの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING COMPLEX OXIDE SINTERED BODY, AND SPUTTERING TARGET COMPOSED OF ITS SINTERED BODY例文帳に追加

複合酸化物焼結体の製造方法及びその焼結体からなるスパッタリングターゲット - 特許庁

Then, the capacitive insulating film 55 is formed on the Pt film 92 by the sputtering method.例文帳に追加

その後、Ｐｔ膜９２上に、スパッタ法により容量絶縁膜５５を形成する。 - 特許庁

To stably perform precise measurements by excluding the influence due to sputtering.例文帳に追加

スパッタリングによる影響を排除して、高精度の測定を安定して行えるようにする。 - 特許庁

METHOD FOR DEPOSITING Al ALLOY THIN FILM, AND SPUTTERING TARGET FOR DEPOSITING Al ALLOY THIN FILM例文帳に追加

Ａｌ合金薄膜の製造方法およびＡｌ合金薄膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁

A piezoelectric body formed so as to have an orientation by a film forming method (sputtering method) is applied.例文帳に追加

成膜法（スパッタ法）により配向を有するように形成された圧電体を適用する。 - 特許庁

OXIDE SINTERED COMPACT, ITS MANUFACTURING METHOD, SPUTTERING TARGET AND TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM例文帳に追加

酸化物焼結体及びその製造方法並びにスパッタリングターゲット及び透明導電膜 - 特許庁

To provide a sputtering apparatus which is suitable for performing deposition on a large-area substrate.例文帳に追加

大面積の被処理基板への成膜に適したスパッタリング装置を提供すること。 - 特許庁

ZINC SULFIDE-BASED SINTERING MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND SPUTTERING TARGET USING THE SAME例文帳に追加

硫化亜鉛系焼結材料とその製造方法及びこれを用いたスパッタリングターゲット - 特許庁

In a processing chamber 2 of a sputtering apparatus 1, the substrate heating device 5 is disposed.例文帳に追加

スパッタリング装置１の処理チャンバ２内には、基板加熱装置５が配置されている。 - 特許庁

The ion density and ions energy in a sputtering system are controlled using the modulated signal.例文帳に追加

この変調信号を用いてスパッタリングシステムのイオン密度とイオンエネルギーを制御する。 - 特許庁

Cu ALLOY SPUTTERING TARGET, AND METHOD OF MANUFACTURING Cu WIRING FILM OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

Ｃｕ合金スパッタリングターゲットおよび半導体装置のＣｕ配線膜の製造方法 - 特許庁