「sputtering」に関連した英語例文の一覧と使い方(40ページ目) - Weblio英語例文検索

To form an insulating film good in insulating pressure-resistance on a substrate by high frequency bias sputtering.例文帳に追加

高周波バイアススパッタリングにより絶縁耐圧の良い絶縁膜を基板に成膜すること - 特許庁

To provide an auxiliary magnetic pole in a sputtering apparatus, which can easily change a shape of the magnetic field.例文帳に追加

スパッタ装置に前記補助磁極を設ける場合に、磁場形状を容易に変化させる。 - 特許庁

The crystalline zinc oxide film may be manufactured by utilizing a sputtering apparatus.例文帳に追加

また、該結晶質酸化亜鉛膜の製造にスパッタ装置を活用することも可能である。 - 特許庁

Also disclosed is an Ni-W-B-based thin film produced using the sputtering target material.例文帳に追加

さらに上記のスパッタリングターゲット材を用いて製造したＮｉ−Ｗ−Ｂ系薄膜。 - 特許庁

This ultraviolet light screening fabric sputtered with a metal is characterized in that a metal (1) is stuck fast to a base material (2) by a sputtering method.例文帳に追加

基材（２）に、金属（１）をスパッタリング法で密着させたことを特徴とする。 - 特許庁

Variations in the Ta content in the sputtering target are regulated to ≤±30% over the entire target.例文帳に追加

スパッタターゲット中のＴａ含有量のバラツキは、ターゲット全体として±30% 以内とされている。 - 特許庁

To deposit a porous optical thin film having a low refractive index using reactive sputtering.例文帳に追加

反応性スパッタリングを用いて、多孔質で屈折率の低い光学薄膜を成膜する。 - 特許庁

The angle of inclination is designed at the optimum angle according to the constitution conditions of the sputtering system.例文帳に追加

傾斜角度は、スパッタ装置の構成条件に応じて最適な角度に設計される。 - 特許庁

RECORDING LAYER FOR OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM, OPTICAL INFORMATION RECORDING MEDIUM, AND SPUTTERING TARGET例文帳に追加

光情報記録媒体用記録層、光情報記録媒体およびスパッタリングターゲット - 特許庁

SPUTTERING SYSTEM, LAYERED PRODUCT, OPTICALLY FUNCTIONAL FILTER, OPTICAL DISPLAY DEVICE, AND OPTICAL ARTICLE例文帳に追加

スパッタリング装置、積層体、光学機能性フィルタ、光学表示装置及び光学物品 - 特許庁

OXIDE SINTERED COMPACT, SPUTTERING TARGET, TRANSPARENT CONDUCTIVE THIN FILM, AND THEIR PRODUCTION METHOD例文帳に追加

酸化物焼結体、スパッタリングターゲット、透明導電性薄膜およびその製造方法 - 特許庁

To provide an opposing target sputtering apparatus capble of improving production yield.例文帳に追加

製造歩留まりを向上することが可能な対向ターゲットスパッタ装置を提供すること。 - 特許庁

The ZnO thin film may be deposited by using a sputtering method, a CVD method, or the like.例文帳に追加

ＺｎＯ薄膜の堆積には、スパッタ法やＣＶＤ法等を用いることができる。 - 特許庁

To provide a sputtering target material for producing a base film in a high density magnetic recording medium.例文帳に追加

高密度磁気記録媒体における下地膜作製用スパッタリングターゲット材を提供する。 - 特許庁

To provide a technique of increasing the using efficiency of a target used for a magnetron sputtering device.例文帳に追加

マグネトロンスパッタ装置に用いられるターゲットの使用効率を高める技術を提供する。 - 特許庁

To manufacture a homogeneous sputtering target free from defects such as blow holes attributable to casting.例文帳に追加

鋳造時に起因する巣等の欠陥の無い均質なスパッタリングターゲットを製造すること。 - 特許庁

SPUTTER FILM-FORMING METHOD, FILM-FORMED PRODUCT, AND ELECTRON-FLOW CONTROL DEVICE FOR SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加

スパッタリング成膜方法、成膜製品及びスパッタリング装置の電子流量調節装置 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for forming a thin film on an organic film through sputtering.例文帳に追加

有機膜上にスパッタリングで薄膜を形成する方法及び装置を提供する。 - 特許庁

SPUTTERING SYSTEM, METHOD FOR PRODUCING PLASMA DISPLAY PANEL, PLASMA DISPLAY DEVICE AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

スパッタリング装置、プラズマディスプレイパネルの製造方法、プラズマ表示装置及びその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR ESTIMATING EROSION SHAPE OR TARGET, SPUTTERING DEVICE, ELECTRODE FORMING METHOD AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ターゲット浸食形状予測方法、スパッタ装置、電極形成方法及び電子部品 - 特許庁

ITO SINTERED COMPACT SPUTTERING TARGET FOR HIGH RESISTANCE FILM DEPOSITION AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

高抵抗膜形成用ＩＴＯ焼結体スパッタリングターゲット及びその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET, METHOD FOR MANUFACTURING STAMPER, AND METHOD FOR MANUFACTURING MOLDED PRODUCT例文帳に追加

スパッタリング用ターゲットの製造方法、スタンパの製造方法、成形品の製造方法 - 特許庁

SPUTTERING TARGET FOR FORMING PHASE CHANGE FILM WITH REDUCED GENERATION OF PARTICLE, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

パーティクル発生の少ない相変化膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法。 - 特許庁

The thin film is formed by vacuum vapor deposition or sputtering to roughly control its thickness.例文帳に追加

薄膜は真空蒸着やスパッタリングで作製し、その厚さを大まかに設定する。 - 特許庁

SPUTTERING TARGET, ITS MANUFACTURING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK USING IT例文帳に追加

スパッタリングターゲット及びその製造方法並びにそれを用いたフォトマスクブランクの製造方法 - 特許庁

A smooth film 21 is formed on inner planes of the upper and lower flanges 7, 8, by sputtering.例文帳に追加

上下のフランジ７・８の内面には、スパッタリングで滑性皮膜２１が形成されている。 - 特許庁

An insulating film 5, consisting of alumina or silicon dioxide, is formed through sputtering method.例文帳に追加

次に、アルミナ、あるいは二酸化ケイ素からなる絶縁膜５をスパッタ法により形成する。 - 特許庁

The target material is deposited on the substrate by sputtering the oxide target with noble gas.例文帳に追加

酸化物ターゲットを希ガスでスパッタすることによりターゲット材料を基板上に堆積する。 - 特許庁

CAPACITOR INCLUDING END SURFACE ELECTRODE LAYER FORMED BY SPUTTERING AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

スパッタリングにより形成された端面電極層を含むコンデンサおよびその製造方法 - 特許庁

LIGHT SHIELDING FILM FOR FORMING BLACK MATRIX AND SPUTTERING TARGET FOR FORMING LIGHT SHIELDING FILM例文帳に追加

ブラックマトリックスを形成するための遮光膜および遮光膜形成用スパッタリングターゲット - 特許庁

INDIUM-ZINC-OXIDE-BASED SPUTTERING TARGET, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND INDIUM-ZINC-OXIDE-BASED THIN FILM例文帳に追加

酸化インジウム亜鉛系スパッタリングターゲット、その製造方法、および酸化インジウム亜鉛系薄膜 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD OF Ti MATERIAL FOR MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加

半導体素子の製造方法およびマグネトロンスパッタリング装置用Ｔｉ材の製造方法 - 特許庁

The electrode film is formed by using a sputtering film of a conductive oxide (ITO film).例文帳に追加

本発明では、電極膜を導電性酸化物（ＩＴＯ膜）のスパッタ膜で形成する。 - 特許庁

SILVER ALLOY SPUTTERING TARGET FOR FORMING SILVER ALLOY REFLECTIVE FILM FOR OPTICAL INFORMATION RECORDING例文帳に追加

光情報記録用Ａｇ合金反射膜の形成用のＡｇ合金スパッタリングターゲット - 特許庁

Ag ALLOY FILM, FLAT PANEL DISPLAY DEVICE AND SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR Ag ALLOY FILM DEPOSITION例文帳に追加

Ａｇ合金膜、平面表示装置およびＡｇ合金膜形成用スパッタリングターゲット材 - 特許庁

Nitrogen contained in the sputtering target may vary from +30% to -30% in content.例文帳に追加

スパッタターゲット中の窒素含有量のバラツキは、ターゲット全体として±30% 以内とされている。 - 特許庁

The carbon layers can be formed by a sputtering method or a plasma CVD method.例文帳に追加

これらのカーボン層はスパッタリング法やプラズマＣＶＤ法により形成することができる。 - 特許庁

The sputtering target material is used for forming the Cu alloy film for wiring film.例文帳に追加

また、上記の配線膜用Ｃｕ合金膜を形成するためのスパッタリングターゲット材である。 - 特許庁

The target 1A has a recessed part 3A provided at a consumption part consumed by sputtering.例文帳に追加

ターゲット１Ａは、スパッタリングによって消耗する消耗部位に凹部３Ａを設けている。 - 特許庁

SPUTTERING SYSTEM, MIXED FILM PRODUCED BY THE SYSTEM, AND MULTILAYER FILM INCLUDING THE MIXED FILM例文帳に追加

スパッタ装置、およびそれにより製造される混合膜、ならびにそれを含む多層膜 - 特許庁

OXIDE SINTERED COMPACT AND SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR MANUFACTURING OXIDE TRANSPARENT ELECTRODE FILM例文帳に追加

酸化物焼結体及びスパッタリングターゲット、酸化物透明電極膜の製造方法 - 特許庁

The electrode base film 21 and the vibrating electrode film 2a are formed by a sputtering method.例文帳に追加

電極下地膜２１及び振動電極膜２ａは、スパッタリング法によって形成される。 - 特許庁

METHOD FOR SPUTTERING CARBON PROTECTIVE FILM ON MAGNETIC DISK HAVING HIGH sp3 CONTENT例文帳に追加

高いｓｐ３含有率をもつ磁気ディスク上に、炭素保護フィルムをスパッタリングする方法 - 特許庁

To manufacture a sputtering target material for manufacturing a piezoelectric thin film with adequate film quality.例文帳に追加

良好な膜質の圧電体薄膜を製造できるスパッタリングターゲット材を製造すること。 - 特許庁

Further, on the titanium nitride film 42, an aluminum film 43 is formed by ordinary sputtering.例文帳に追加

さらに、窒化チタン膜４２上に、通常のスパッタによってアルミ膜４３が形成される。 - 特許庁