「substrate surface」に関連した英語例文の一覧と使い方(33ページ目) - Weblio英語例文検索

A CVD oxidation film 3 is formed on the surface of a substrate 1 without directly forming the thermal oxide film on the surface of the substrate 1.例文帳に追加

基板１表面上に直接、熱酸化膜を形成するのではなく、基板１表面上に、ＣＶＤ酸化膜３を形成する。 - 特許庁

SUBSTRATE END SURFACE AUTOMATIC CLEANING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD OF WIRING BOARD例文帳に追加

基板端面自動清掃装置及び配線基板の製造方法 - 特許庁

The substrate 11 has a main surface on which a circuit pattern 3 is formed.例文帳に追加

基板１１は、回路パターン３が形成された主面を有する。 - 特許庁

In this way, the surface of the substrate 9 can be locally worked, and the flatness of the surface of the substrate 9 can be improved.例文帳に追加

これにより、基板９の表面を局所的にに加工することができ、基板９の表面の平坦度を向上することができる。 - 特許庁

The first outer surface 18 of the first substrate 10 has a concave 22.例文帳に追加

第１の基板１０の第１の外面１８は、凹部２２を有する。 - 特許庁

Consequently, a wiring pattern is formed on the surface of the substrate 1.例文帳に追加

このようにして、基板１の表面に配線パターンが形成される。 - 特許庁

An N-type well 2 is formed on the surface of a P-type silicon substrate 1.例文帳に追加

Ｐ型シリコン基板１の表面にＮ型ウェル２を形成する。 - 特許庁

A multilayered laminate 10 has a substrate layer 1 and a surface layer 2 arranged on at least one of the surface of the substrate layer 1.例文帳に追加

基材層１と、基材層１の少なくとも一方の面上に配設された表面層２とを備えた多層積層体１０である。 - 特許庁

METHOD FOR DEPOSITING CATALYST FOR ELECTROLESS PLATING ONTO SURFACE OF RESIN SUBSTRATE例文帳に追加

樹脂基材表面への無電解めっき用触媒付与方法 - 特許庁

The semiconductor memory has a semiconductor substrate 1 having a 1st surface.例文帳に追加

半導体メモリは、第１面を有する半導体基板１を有する。 - 特許庁

SUBSTRATE HAVING PHOTOCATALYST-CONTAINING LAYER FORMED ON SURFACE, AND METHOD FOR FORMING THE PHOTOCATALYST- CONTAINING LAYER ON SURFACE OF SUBSTRATE例文帳に追加

光触媒を含有する層が表面に形成された基材及び、光触媒を含有する層を基材表面に形成する方法 - 特許庁

The inkjet head includes an actuator, and a substrate having a mounting surface.例文帳に追加

インクジェットヘッドは、アクチュエータと、実装面を有する基板とを含む。 - 特許庁

A catalyst metal such as nickel is formed on the surface of the substrate.例文帳に追加

基板の表面の上にニッケルなどの触媒金属を形成する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR REMOVING METAL OXIDE FROM SUBSTRATE SURFACE例文帳に追加

基材表面から金属酸化物を除去する方法及び装置 - 特許庁

The lower surface 2a of the substrate 2 is exposed from the substrate housing holes 19A-19D when viewed from the lower-surface side of the tray body 15a.例文帳に追加

トレイ本体１５ａの下面側から見ると基板収容孔１９Ａ〜１９Ｄにより基板２の下面２ａが露出している。 - 特許庁

The device substrate 2 has a plane 2a which functions as a reflecting surface.例文帳に追加

装置基板２は反射面として機能する面２ａを有する。 - 特許庁

There is provided a wall surface material 1 which is formed of a polystyrene foam substrate 11 having a thickness of 25 mm and a pocket 2 protruding from a substrate surface.例文帳に追加

壁面材１は、厚さ２５ｍｍの発泡ポリスチレンの基板１１に基板面から突出するポケット２を設けたものである。 - 特許庁

On a second principal surface 2b of the substrate 2, recessed portions 2c are formed.例文帳に追加

基板２の第２主面２ｂには、凹部２ｃが形成されている。 - 特許庁

A substrate 1 is a flat plate type substrate which is made of stainless steel and has a specular surface 2 as one surface, and serves as an electrode of a piezoelectric body 3.例文帳に追加

図１において、１は片面を鏡面２としたステンレス製の平板状基板であって圧電体３の電極を兼ねている。 - 特許庁

Ions are implanted in a surface portion of a silicon substrate to make it amorphous.例文帳に追加

シリコン基板の表層部にイオンを注入してアモルファス化させる。 - 特許庁

A gate insulation film is formed on the main surface of a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の主表面上にゲート絶縁膜を形成する。 - 特許庁

STRUCTURE OF SURFACE TREATMENT LAYER OF MULTILAYER SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME例文帳に追加

多層基板の表面処理層の構造及びその製造方法 - 特許庁

The conductive pattern 120 is located on one surface side of the substrate 100.例文帳に追加

導電パターン１２０は、基板１００の一面側に位置している。 - 特許庁

The heat radiation structure includes a substrate, and a BN nanotube layer formed at least on the foremost surface of one surface of the substrate.例文帳に追加

基板と、該基板の少なくとも一面の最表面に形成されたＢＮナノチューブ層を有することを特徴とする放熱構造。 - 特許庁

Therefore, when pure water is supplied again onto the surface of the substrate, the sulphuric acid component staying on the surface of the substrate is easily eliminated.例文帳に追加

そのため、基板の表面に純水が再び供給されると、基板の表面に残留する硫酸成分が容易に排除される。 - 特許庁

In initial chemical processing, a silicon oxide film is formed on the substrate surface Wf, and the substrate surface Wf is a hydrophilic face.例文帳に追加

初期薬液処理では、基板表面Ｗｆにシリコン酸化膜が形成されており、基板表面Ｗｆは親水面となっている。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR FORMING INSULATING FILM ON SURFACE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

半導体基板の表面に絶縁膜を形成する方法と装置 - 特許庁

The channel region 10 is formed on a surface layer of a semiconductor substrate.例文帳に追加

チャネル領域１０は、半導体基板の表層に形成される。 - 特許庁

Then a 1st metal film 7 is formed over the entire surface on the substrate.例文帳に追加

次に、基板上の全面に、第１の金属膜７を形成する。 - 特許庁

A collector electrode 13 is formed on the bottom surface of a p^+-substrate 2.例文帳に追加

ｐ^+基板２の裏面にはコレクタ電極１３が形成されている。 - 特許庁

A surface roughness Ra of the substrate 2 is 0.1 to 0.8 μm.例文帳に追加

基板２の表面粗さＲａは０．１μｍ〜０．８μｍである。 - 特許庁

A buffer layer 2 is formed on the surface of a silicon substrate 1 (S1).例文帳に追加

シリコン基板１の表面に緩衝層２を形成する（Ｓ１）。 - 特許庁

An insulation film 5 is formed over the entire surface of a semiconductor substrate 1.例文帳に追加

次に、半導体基板１全面に絶縁膜５を形成する。 - 特許庁

The insulating film 2 is formed on a surface of the semiconductor substrate 1.例文帳に追加

半導体基板１の表面上に、絶縁膜２を形成する。 - 特許庁

A groove TR is formed on the main surface of a semiconductor substrate SB.例文帳に追加

半導体基板ＳＢの主表面に溝ＴＲが形成される。 - 特許庁

A metal oxide thin film 2 is formed on the surface of a substrate 1.例文帳に追加

基材１の表面に金属酸化物薄膜２を形成する。 - 特許庁

Surface layers of the substrate at both sides of the gate electrode are made amorphous.例文帳に追加

ゲート電極の両側の、基板の表層部をアモルファス化する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF SUBSTRATE HAVING COATING FILM HAVING AMINO GROUP ON ITS SURFACE例文帳に追加

アミノ基を有する被膜を表面に有する基体の製造方法 - 特許庁

EPITAXIAL SUBSTRATE HAVING FINE IRREGULAR SURFACE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

微細凹凸表面を有したエピタキシャル基板とその製造方法 - 特許庁

To flatten the surface of an SiC substrate by hydrogen etching.例文帳に追加

ＳｉＣ基板の水素エッチングにより、基板表面を平坦化させる。 - 特許庁

A multicrystal structure film 22 is formed on the surface of a substrate 21.例文帳に追加

基板２１の表面には多結晶構造膜２２が形成される。 - 特許庁

A protrusion 4 is formed on a surface of the microchip substrate 3.例文帳に追加

マイクロチップ基板３の表面には突起部４が形成されている。 - 特許庁

METHOD OF FORMING EPITAXIAL THIN FILM ON SURFACE OF SINGLE CRYSTAL SUBSTRATE例文帳に追加

単結晶基板の表面にエピタキシャル薄膜を形成する方法 - 特許庁

A second electrode (4) is arranged on the lower surface of the semiconductor substrate (1).例文帳に追加

半導体基板（１）の下面に第２の電極（４）を配置する。 - 特許庁

This device includes a substrate supporting body having a compressive surface.例文帳に追加

この装置は、圧縮性の表面を有する基板支持体を含む。 - 特許庁