「substrate surface」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目) - Weblio英語例文検索

On the surface of a semiconductor substrate 1 of a logic region 200, a substrate contact impurity layer 3 is formed.例文帳に追加

ロジック領域２００の半導体基板１表面に基板コンタクト用不純物層３が形成される。 - 特許庁

A SiN film 50 is formed as an antireflection film of the substrate surface on the back face of the GaAs substrate.例文帳に追加

ＧａＡｓ基板の裏面には、ＳｉＮ膜５０が基板面の反射防止膜として設けられている。 - 特許庁

Thereafter, the substrate 11 is washed by ozone water to form an oxide film 13 on the surface of the substrate 11.例文帳に追加

その後、基板１１をオゾン水で洗浄して、基板１１の表面に酸化膜１３を形成する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method for forming on a substrate a thermoplastic film having a flat surface.例文帳に追加

基板上に平坦な表面を有する熱可塑性の被膜を形成する基板処理方法を提供する。 - 特許庁

A conductive layer is formed above the substrate to cover the photoresist pattern and the exposed substrate surface.例文帳に追加

導電層を基板上方に形成し、フォトレジストパターンおよび露出された基板の表面を被覆する。 - 特許庁

The security label 10 includes a substrate 12 and a conductive layer 14 formed on one surface of the substrate.例文帳に追加

セキュリティラベル１０は、基材１２と、基材１２の一方面に形成される導体層１４とを含む。 - 特許庁

To securely hold a circuit substrate having electronic components mounted thereupon in a direction orthogonal to the substrate surface direction.例文帳に追加

、電子部品が実装された回路基板を、その面方向と直交する方向に確実に保持すること。 - 特許庁

Related to the substrate S, an angle θ formed between the substrate surfaced and a crystallographic main surface is 1-8°.例文帳に追加

さらに前記基板Ｓは基板表面と結晶学的な主面とのなす角θが１〜８度とされる。 - 特許庁

To inhibit the curvature and the crack of a substrate at the time of laser annealing to a whole substrate surface which performs a laser irradiation.例文帳に追加

基板全面に対するレーザー照射するレーザーアニール時の基板の反り及び割れを防止する。 - 特許庁

The electron element includes a substrate and a transparent conductive structural body installed on the surface of the substrate.例文帳に追加

本発明の電子素子は、基板と、該基板の表面に設置された透明な導電構造体と、を含む。 - 特許庁

TEXTURED SUBSTRATE FOR EPITAXIAL FILM FORMATION AND SURFACE IMPROVING METHOD OF TEXTURED SUBSTRATE FOR EPITAXIAL FILM FORMATION例文帳に追加

エピタキシャル膜形成用配向基板及びエピタキシャル膜形成用配向基板の表面改質方法 - 特許庁

This element is equipped with the semiconductor substrate 11 and a plate 12 bonded onto one surface of the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板１１と、半導体基板の一方の表面に接合されたプレート１２とを備える。 - 特許庁

The ceramic circuit substrate 1 has a metallic circuit board 3 joined to the surface 2a of a ceramic substrate 2.例文帳に追加

セラミックス回路基板１は、セラミックス基板２の表面２ａに接合された金属回路板３を有する。 - 特許庁

A substrate is rotated after exposure processing (S1), and a diluted developer is supplied onto the surface of the substrate (S2).例文帳に追加

露光処理後の基板を回転させつつＳ１、その表面に希釈現像液を供給するＳ２。 - 特許庁

The electronic component 42 is surface-mounted onto the substrate electrode 40 of the multilayer substrate 12's end face 12a.例文帳に追加

電子部品４２は多層基板１２の端面１２ａの基板電極４０に面実装されている。 - 特許庁

The sub-mount 3 has a substrate 4 and a solder layer 8 formed on the main surface 4f of the substrate 4.例文帳に追加

サブマウント３は、基板４と、基板４の主表面４ｆ上に形成されたはんだ層８とを備える。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING CRYSTALLINE SiC BY CARBONIZATION OF SURFACE OF Si SUBSTRATE, AND CRYSTALLINE SiC SUBSTRATE例文帳に追加

Ｓｉ基板表面の炭化による結晶性ＳｉＣの形成方法及び結晶性ＳｉＣ基板 - 特許庁

This surface acoustic wave device consists of a piezoelectric substrate and a metal electrode film patterned on the piezoelectric substrate.例文帳に追加

弾性表面波装置は、圧電基板と圧電基板の上にパターニングされた金属電極膜とからなる。 - 特許庁

The optical device 1 is provided with a substrate 2 and an optical fiber 3 is fixed to the upper surface of the substrate 2.例文帳に追加

光デバイス１は基板２を有し、この基板２の上面には光ファイバ３が固定されている。 - 特許庁

To avoid influences of optical reflection characteristic on the surface of a substrate and to surely detect the status of the substrate.例文帳に追加

基板表面の光反射特性の影響を回避して基板の状態検出を確実に行う。 - 特許庁

To provide substrate treatment equipment and a method in which contamination on the rear surface of a substrate can be prevented sufficiently.例文帳に追加

基板の裏面汚染を十分に防止できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

The MEMS device includes a mirror forming substrate (device body) 1 formed by using an SOI substrate (semiconductor substrate) 100 and provided with a plurality of pads 13 at one surface side, a MEMS chip 4 having a first cover substrate (surface side protective substrate) 2 joined to the one surface side of the mirror forming substrate 1 and the mounting substrate 5 on which the MEMS chip 4 is mounted.例文帳に追加

ＳＯＩ基板（半導体基板）１００を用いて形成され複数のパッド１３を一表面側に備えたミラー形成基板（デバイス本体）１、ミラー形成基板１の一表面側に接合された第１のカバー基板（表面側保護基板）２を有するＭＥＭＳチップ４と、ＭＥＭＳチップ４が実装された実装基板５とを備える。 - 特許庁

To provide satisfactorily dry a substrate surface while preventing the generation of fall of a pattern formed on the substrate surface in a substrate processing apparatus and a substrate processing method for drying the substrate surface wetted with a liquid using steam of an organic solvent such as IPA (isopropyl alcohol).例文帳に追加

ＩＰＡなどの有機溶剤の蒸気を用いて液体で濡れた基板表面を乾燥させる基板処理装置および基板処理方法において、基板表面に形成されたパターンの倒壊が発生するのを防止しながら、基板表面を良好に乾燥させる。 - 特許庁

To provide an apparatus in which a substrate is effectively treated with an ejection hole of a nozzle approached to the surface of the substrate and the entire surface of the substrate is uniformly treated, when gas-liquid mixing droplets are ejected from the nozzle to the surface of the substrate to treat the substrate.例文帳に追加

液体と気体とを混合した液滴をノズルから基板の表面へ噴出して基板を処理する場合に、ノズルの噴出口を基板表面に接近させて基板の処理を効果的に行うことができ、かつ、基板の表面全体を均一に処理することができる装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate polishing apparatus and a substrate polishing method measuring a temperature of a polishing surface of a polishing table of the substrate polishing device and polishing the substrate while adjusting the temperature of the polishing surface by feeding-back the measured temperature information by PID control, and an apparatus for regulating the temperature of a surface of a polishing pad for the substrate polishing apparatus.例文帳に追加

基板研磨装置の研磨テーブルの研磨面の温度を測定し、該測定した温度情報をＰＩＤ制御によりフィードバックして研磨面を温調しながら基板を研磨する基板研磨装置、基板研磨方法、基板研磨装置の研磨パッド面温調装置を提供する。 - 特許庁

To prevent occurrence of an appearance failure on a processed surface of a substrate to be processed even when the substrate to be processed is bonded on a supporting substrate which has an outer shape larger than that of the substrate to be processed with a photothermal conversion layer and an adhesive layer therebetween, and even when the surface, which is of the substrate to be processed and is opposite to the bonded surface, is processed.例文帳に追加

被処理基板よりも外形が大きい支持基板に、光熱変換層と接着剤層を介して被処理基板を貼り合わせ、この貼り合せた面とは反対側の被処理基板の面を処理しても、被処理基板の処理面に外観不良が発生することを防ぐ。 - 特許庁

The substrate for sealing comprises a first substrate 10, a recessed part 12 formed on one surface side of the first substrate 10, a coating layer 20 formed on the bottom surface of the recessed part 12 to be thinner than the depth of the recessed part 12, and a second substrate 40 provided on the other surface side of the first substrate 10.例文帳に追加

封止用基板は、第１の基板１０と、第１の基板１０の一方の面側に形成された凹部１２と、凹部１２の底面に凹部１２の深さよりも薄くなるように形成された被覆層２０と、第１の基板１０の他方の面側に設けられた第２の基板４０と、を含む。 - 特許庁

In at least a part of exposure of a substrate, the substrate is moved below the liquid immersion member and the cleaning member, and in at least a part of the exposure of the substrate, the immersion space is formed between the emission surface and a surface of the substrate and between at least a part of the undersurface and the surface of the substrate.例文帳に追加

基板の露光の少なくとも一部において、液浸部材及びクリーニング部材の下方で基板が移動され、基板の露光の少なくとも一部において、液浸空間は、射出面と基板の表面との間及び下面の少なくとも一部と基板の表面との間に形成される。 - 特許庁

In a spin processing unit 2, the thickness of the water film on the substrate surface is adjusted by rotation of the substrate, the volume of the water film increases by freezing the water film, the adhesion force between the particles adhering on the substrate surface and the substrate is weakened, and further, the particles are separated from the substrate surface.例文帳に追加

スピン処理ユニット２にて、基板が回転されることで基板表面の水膜の厚みが調整された後、水膜が凍結されることで水膜の体積が膨張し、基板表面に付着する粒子と基板との間の付着力が弱まり、さらには粒子が基板表面から脱離する。 - 特許庁

The surface 20 of the core 12 is provided with a side surface 21 which is in contact with the substrate 11, an upper surface 22 positioned above the side surface 21, and a beveling surface 23 located in border between the upper surface 22 and the side surface 21.例文帳に追加

そして、コア１２の表面２０は、基板１１に接する側面２１と、側面２１の上方に位置する上面２２と、上面２２と側面２１との境界に位置する面取り面２３とを備えている。 - 特許庁

On the label surface of the substrate, a mirror surface part and a rough surface part formed having a level difference from a plane of the mirror surface part are formed, so that visible label surface display is formed by the mirror surface part and the rough surface part.例文帳に追加

ここで基板のレーベル面は、鏡面部と、該鏡面部の平面より段差を有して形成された粗面部が形成され、鏡面部と粗面部により視認可能なレーベル面表示が形成されているようにする。 - 特許庁

A closing plate 7 is provided on a rear surface 1B of a substrate to be processed, which is divided into a separated substrate 6 and the remaining substrate 1C.例文帳に追加

分離基板６と残余の加工用基板１Ｃとに分離した加工用基板１の裏面１Ｂに閉塞板７を取付ける。 - 特許庁

To provide a substrate treatment apparatus which can wash the upper and the lower surface of a rectangular substrate, while rotating substrate.例文帳に追加

この発明は矩形基板を回転させながら上下面を洗浄処理できるようにした処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A reflective liquid crystal substrate 20 has a glass substrate 12 and the optical film 30 formed on an inner main surface of the glass substrate 12.例文帳に追加

反射型液晶基板２０は、ガラス基板１２と、ガラス基板１２の内側主面上に形成された光学膜３０とを有する。 - 特許庁

On a starting substrate, a sacrificial film of patterns is formed which exposes the surface of the starting substrate selectively and which is continuous from the end of the starting substrate.例文帳に追加

出発基板上に出発基板表面を選択的に露出する端部から連続したパターンの犠牲膜を形成する。 - 特許庁

To provide a substrate treatment apparatus capable of preventing damage to a substrate while supplying a treatment liquid uniformly to the surface of the substrate.例文帳に追加

基板の損傷を防止しつつ基板の表面に均一に処理液を供給することができる基板処理装置を提供する - 特許庁

The film-forming apparatus has a substrate temperature-calculating means for calculating a temperature inside the substrate, on the basis of a surface temperature of the substrate.例文帳に追加

基板の表面温度を基に基板内部の温度を算出する基板温度算出手段を有する成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate cleaning device and a substrate cleaning method, for cleaning an entire surface of a substrate in a short time.例文帳に追加

短い洗浄時間にて基板の全面を洗浄することができる基板洗浄装置および基板洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate heating apparatus improving a temperature distribution when a substrate is heated by equalizing the discharge of thermal electrons onto a substrate surface to be heated.例文帳に追加

加熱される基板面上への熱電子の放出が均一になるようにして、基板の加熱時の温度分布を改善すること。 - 特許庁

The substrate rotating device 38 rotates a substrate 2 with an alignment layer around an axis 36 along the perpendicular erected on the surface of the substrate.例文帳に追加

基板回転装置３８は、配向膜付基板２を、その表面に立てた垂線に沿う軸３６を中心にして回転させる。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method, capable of uniformly and rapidly drying the surface of a substrate to be processed.例文帳に追加

被処理基板の表面を均一にかつ迅速に乾燥させることができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a group III nitride semiconductor substrate for acquiring intra-surface heat uniformity when the substrate is heated, and for assuring easier treatment of the substrate.例文帳に追加

基板加熱時の面内均熱性を確保でき、基板の取り扱いが容易であるIII族窒化物半導体基板を提供する。 - 特許庁

The silicon substrate, of which the substrate surface is one of {100} planes, is subjected to anisotropic wet etching to form a mirror forming substrate.例文帳に追加

基板表面が｛１００｝面のいずれかであるシリコン基板を異方性ウェットエッチングすることによりミラー形成基板を形成する。 - 特許庁

To provide a substrate treatment device and a substrate treatment method for performing treatment with uniform quality over the entire surface of a substrate.例文帳に追加

基板の全面にわたって均一な品質の処理を行うことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coating method for a concrete substrate which imparts a scribbling prevention function and a bill-posting prevention function on the surface of the substrate without generating wet color on the concrete substrate.例文帳に追加

コンクリート基材に濡れ色を発生させることなく、基材表面に落書き防止機能、貼り紙防止機能を付与する。 - 特許庁