Photo Etchingとは 意味・読み方・使い方

The photo diode 12 is formed by dry-etching a photo diode formed on the top face of the support film 14 with the support film 14 as an etching stopper.例文帳に追加

フォトダイオード１２は、支持膜１４上面に設けられたフォトダイオードが、支持膜１４をエッチングストッパーとしてドライエッチングされることにより成形されたものである。 - 特許庁

To provide a novel etching method which can avoid great damage to a photo resist as an etching mask and can suitably remove an unwanted part of an anti-reflection film to be exposed from the photo resist.例文帳に追加

エッチングマスクとなるフォトレジストに大きな損傷を与えることなく該フォトレジストから露出する反射防止膜の不要部分を好適に除去し得る新規なエッチング方法を提供する。 - 特許庁

After the photo-resist 20 is sensitized, the unnecessary part of the photo-resist 20 is cleaned, and this surface acoustic wave element 10 is immersed in etching liquid in a state that the photo-resist 20 is deposited to a prescribed position.例文帳に追加

フォトレジスト２０が感光した後、フォトレジスト２０の不用部分を洗浄し、所定の位置にフォトレジスト２０が付着した状態で、エッチング液に弾性表面波素子１０を浸す。 - 特許庁

A desired number of through holes H are formed from the back of the silicon substrate 10 by photo assist electrolytic etching.例文帳に追加

シリコン基板１０裏面から、所望の数の貫通孔Ｈを、光アシスト電解エッチングにより形成する。 - 特許庁

A discrimination marking is formed by electric discharge machining or photo etching on an inner surface 10a of an entrance part of a turbine 10 as a turbocharger component.例文帳に追加

ターボチャージャ部品であるタービン１０にの入口部内面１０ａに、放電加工や、フォトエッチングによって識別刻印を形成する。 - 特許庁

One groove 13 is formed on a silicon substrate 11 by using a photo-lithography technology, for example, by executing etching meanderingly.例文帳に追加

シリコン基板１１上に、フォトリソグラフィ技術を用いて一本の溝１３を例えば蛇行状にエッチングして溝１３を形成する。 - 特許庁

To reduce and eliminate photo-etching steps, using a photoresist PR in a color filter substrate for a liquid crystal display device.例文帳に追加

液晶表示装置用の色フィルタ基板において、フォトレジストＰＲを用いる写真エッチング程の削減、排除が課題である。 - 特許庁

To easily determine etching conditions when transcribing grooves and pits formed in a photo-resist film on a substrate 1 onto the substrate.例文帳に追加

基板上のホトレジスト膜に形成された溝やピットをエッチングにより基板に転写する時に、容易にエッチング条件を求める。 - 特許庁