Photo-Etching Methodとは 意味・読み方・使い方

To provide a mask which can be used for a photo-electrochemical etching, can be worked finely, and has a resistance against an acid and an alkali, to provide a method for forming the mask and a manufacturing method for a semiconductor device using the mask for the photo-electrochemical etching.例文帳に追加

光電気化学エッチングに利用でき、微細加工が可能で、かつ、酸やアルカリに対して耐性があるマスクと、このマスクの形成方法と、この光電気化学エッチング用マスクを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a solar cell, by the use of a gas-precipitation manufacturing method, for making it unnecessary to use the micro-lithography or etching manufacturing method of any photo-mask.例文帳に追加

ガス沈殿製造法により、如何なるフォトマスクのマイクロ・リソグラフィー、エッチング製造法を使用する必要がない太陽電池の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a mold for photo imprinting economically without the need of a step of forming mask by photo lithography necessary when dry-etching a quartz substrate, a dry-etching step for the quartz substrate after that and the like.例文帳に追加

石英基板をドライエッチングする場合に必要な、フォトリソグラフィーによるマスクの形成工程、その後の石英基板のドライエッチング工程などが不要で、経済的に光インプリント用モールドを製造することが可能な方法を提供する。 - 特許庁

To provide an organic electroluminescent display device which can dispense with a photo-etching process for forming a spacer pattern and provide its manufacturing method.例文帳に追加

スペーサパターンを形成するための写真エッチング工程を排除する有機電界発光表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a metal circuit which has a low electric resistance value and is stable without performing a conventional photo process nor a conventional etching process.例文帳に追加

従来のフォトプロセス及びエッチングプロセスを行わず、電気抵抗値が低く、且つ安定的な金属回路の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In this producing method of liquid crystal display element, spacers 11 and barrier layers 12 are formed at one time by using a photo etching method or a printing method, thereby decreases the number of process and reduces the cost.例文帳に追加

スペーサー１１および隔壁層１２をフォトエッチング法または印刷法を用いて一度に形成することにより、工程数を減少させ、またコストを低減することができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a semiconductor device that performs anisotropic dry-etching on an insulating film allowing for high selectivity with a photo-resist film and without causing an etching stop, the anisotropic dry-etching done when forming an upper contact with a large radius and a lower contact with a small radius.例文帳に追加

上部の径が大きく、下部の径が小さなコンタクトを形成する際に行う絶縁膜の異方性ドライエッチングを、フォトレジスト膜との選択性が高く且つエッチストップを生ずることなくエッチングする、半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for correcting a deformation generated in a blind section in a metal thin plate having a minute slit-like opening manufactured by the photo-etching method.例文帳に追加

フォトエッチング法にて製造された微細なスリット状開口部を有する金属製薄板における簾部分に生じる変形を修正するための欠陥修正方法を提供すること。 - 特許庁