face value methodとは 意味・読み方・使い方

This manufacturing method is capable of manufacturing an excellent aluminum tube of a low ERV value (energizing value) which has no adverse effect of form rolling on the inner circumferential face of the mouth 2.例文帳に追加

この製造方法によれば、口部２内周面に、転造加工による悪影響を及ぼさないＥＲＶ値（通電値）の小さい、優れたアルミチューブを得ることができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a compound semiconductor element which enhances pattern recognition performance by a method wherein it is possible to prevent a peeling of an AuSi film or an increase in an ohmic contact resistance value, and also to form a bonding pad face of a high mirror face.例文帳に追加

ＡｕＳｉ膜の剥がれ又はオーミックコンタクト抵抗値の増大が防止でき、また、鏡面の高いボンディングパット面を形成できる事でパターン認識性が向上する化合物半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a colorimetric value acquisition method for avoiding an increase in workload and output cost by suppressing repeated outputs of color charts until color non-uniformity does not newly occur on a face when the color non-uniformity occurs on the face of a color patch in a color chart to be output from a printer.例文帳に追加

プリンタから出力するカラーチャート内のカラーパッチの面内で色ムラが生じた場合、新たに面内に色ムラが生じなくなるまで繰り返しカラーチャートを出力しないようにすることで、作業負荷や出力費用の増大を回避できる測色値取得方法を提供すること。 - 特許庁

This method has a first correction-polishing process (step S3) for conducting correction polishing while pressing a polishing tool onto the worked face by the first pressure, and a second correction-polishing process (step S6) for conducting correction polishing while pressing the polishing tool onto the worked face by the second pressure different in its value from that of the first pressure.例文帳に追加

研磨工具を第１の圧力で加工面に押し付けながら補正研磨を行う第１補正研磨工程（ステップＳ３）と、研磨工具を第１の圧力と異なる値の第２の圧力で加工面に押し付けながら補正研磨を行う第２補正研磨工程（ステップＳ６）とを有する。 - 特許庁

To provide a method for measuring each of resistance value of the surface and back face in a both side vapor deposition film without forming non-vapor deposited parts in an online system with the improved precision at the time of measuring the resistance value of the film.例文帳に追加

フィルムの抵抗値を測定する際の精度を向上させること、およびオンライン方式において、非蒸着部を形成せずに両面蒸着フィルムの表面および裏面のそれぞれの抵抗値を測定する方法を提供すること。 - 特許庁

This mold release film is a film having a mold release layer on one face of a polyester film having 65-77 of film L value measured by a reflection method, and 90% or more of image clarity value, and peeling force on a surface of the mold release layer is within a range of 10-100 mN/cm.例文帳に追加

反射法で測定したフィルムのＬ値が６５〜７７であり、写像性値が９０％以上であるポリエステルフィルムの片面に離型層を有するフィルムであり、当該離型層表面の剥離力が１０〜１００ｍＮ／ｃｍの範囲であることを特徴とする離型フィルム。 - 特許庁

To provide a device and the method for measuring the resistance value distribution in the brush face of the conductive brush hair, in which a deviation of resistance value caused by the heat generation of a conductive brush hair can be prevented, with regard to a brush device of such as brush charging device and the brush transfer device.例文帳に追加

ブラシ帯電器及びブラシ転写機等のブラシ装置について、導電性ブラシ毛のブラシ面中での抵抗値分布を測定する装置及び方法において、導電性ブラシ毛の発熱等に起因する抵抗測定値のずれを防止することのできるものを提供する。 - 特許庁

The SiC formed material is formed by a CVD method and has crystallite diameters of 36 to 54 nm, measured by X-ray diffraction, half- value width of (111) face in the range of 0.155 to 0.224° and a electrical resistivity of 1 to 106 Ωm.例文帳に追加

ＣＶＤ法により形成され、Ｘ線回折によって測定した結晶子径が３６〜５４nmであって、（１１１）面の半価幅が０．１５５〜０．２２４°の範囲にあり、電気抵抗率が１〜１０^6 Ωm であることを特徴とするＳｉＣ成形体。 - 特許庁