present pattern methodとは 意味・読み方・使い方

In the traffic light control system, a pattern of traffic light control parameters corresponding to present time is selected by use of a first pattern switching table used in a conventional time-controlled pattern selection method, and thereafter, a pattern is reselected by use of a newly provided second pattern switching table.例文帳に追加

従来の時間制御のパタン選択方式で用いられる第一パタン切替テーブルを用いて、現在時刻に対応する交通信号制御パラメータのパタンを選択した後、本発明では、新たに設けた第二パタン切替テーブルを用いて、再度パタンの選択を行う。 - 特許庁

The present invention is related to a method for calibrating a system which includes a pattern carrier (2) having a pattern (15) reflected on a reflection surface (14), and a camera (1) for viewing the pattern (15) reflected on the reflection surface (14) for each pixel.例文帳に追加

本発明は、反射面（１４）で反射されるパターン（１５）を有するパターンキャリア（２）と、反射面（１４）に反射されたパターン（１５）を画素ごとに視認するカメラ（１）とを有するシステムを較正する方法に関する。 - 特許庁

To provide an exposure method and an aligner, where even a complicated lithographic pattern in which a dense pattern and a coarse pattern are mixedly present in the same shot can be controlled accurately in dimensions.例文帳に追加

密パターンと疎パターンが同一ショット内に存在するような複雑なリソグラフィパターンに対しても高精度な寸法制御を得ることができる露光方法および露光装置を提供すること。 - 特許庁

The mask pattern correction method includes the steps of: acquiring three-dimensional information of a first portion where no black defect is present in a pattern edge of a mask pattern 5 by using a scanning probe microscope; and correcting a second portion where a black defect 2 is present in the pattern edge of the mask pattern 1 based on the three-dimensional information by using the probe of the scanning probe microscope.例文帳に追加

マスクパターン修正方法は、マスクパターン５のパターンエッジに黒欠陥が存在しない第１の部分の３次元情報を走査型プローブ顕微鏡を用いて取得するステップと、前記３次元情報に基づいてマスクパターン１のパターンエッジに黒欠陥２が存在する第２の部分を前記走査型プローブ顕微鏡のプローブを用いて修正を行うステップとを含む。 - 特許庁

The present invention is to provide a method comprising performing pattern exposure from the backside of the barrier rib, that is, from the side of the glass substrate.例文帳に追加

露光を隔壁材の側からだけでなく、裏面から、すなわちガラス基板側からもパターン露光を行う方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor integrated circuit whereby an operator can identify a present process by only watching a resist pattern.例文帳に追加

レジストパターンを見るだけで、現在の工程を判断できる半導体集積回路の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide imprint lithography device and method with little pattern defects according to an embodiment of the present invention.例文帳に追加

本発明の実施形態によれば、パターン不良の少ないインプリントリソグラフィ装置及び方法を提供することができる。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR DETERMINING WHETHER OR NOT A REFERENCE PATTERN IS PRESENT IN RECEIVED AND POSSIBLY WATERMARKED SIGNAL例文帳に追加

受信され、電子透かしがおそらく埋め込まれた信号にリファレンスパターンが存在するか否かを判定する方法及び装置 - 特許庁