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D-P-Sとは 意味・読み方・使い方

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「D-P-S」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 79



例文

The shadow (D-P-S) processing procedure may comprise: a (D-P-S) generation process, a (D-P-S) evaluation process, and a (D-P-S) transportation process.例文帳に追加

前記D-P-S処理手順は、(D-P-S)生成工程、(D-P-S)評価工程、及び(D-P-S)搬送工程を有して良い。 - 特許庁

Some theory insists that phonemes except for/s, z/ (/k, g/,/t, d/,/n/,/h, b/,/p/,/m/ and/r/) were palatalized.発音を聞く 例文帳に追加

音素/s,z/以外の/k,g/、/t,d/、/n/、/h,b/、/p/、/m/ならびに/r/においては口蓋化があったとする説もある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A verifier calculates K=H1(W) and m= DKs(C) to obtain the plain text m and calculates V=gavbmod p and verifies whether H3(W VjWimod p gjeimod p m)=i is true or not.例文帳に追加

検証者はK=H_1(W), m=D_K^s(C)を計算して平文mをもとめ、V=g^ay^bmod p,を計算し、H_3(W‖V^jW^imod p‖g^je^imod p‖m)=iが成立するかを検証する。 - 特許庁

To provide a formation method of self-aligned double pattern capable of improving a substrate processing method using a double patterned shadow (D-P-S) procedure and a subsystem.例文帳に追加

本発明は、二重パターニングされたシャドー(D-P-S)手順及びサブシステムを用いた基板処理方法の改善を目的とする。 - 特許庁

The (D-P-S) generation process may comprise: a deposition process, an activation process, a deprotection process, a sidewall angle (SWA) correction process, and a double patterning (DP) developing process.例文帳に追加

前記(D-P-S)生成工程は、堆積工程、活性化工程、脱保護工程、側壁角(SWA)訂正工程、及び二重パターニング(DP)現像工程を有して良い。 - 特許庁

A formation method of self-aligned double pattern is capable of providing a substrate processing method using a double patterned shadow (D-P-S) processing.例文帳に追加

本発明は、二重パターニングされたシャドー(D-P-S)処理を用いた基板処理方法を供することができる。 - 特許庁

例文

A formation method of self-aligned double pattern of the present invention is capable of providing a substrate processing method using a double patterned shadow (D-P-S) processing.例文帳に追加

本発明は、二重パターニングされたシャドー(D-P-S)処理を用いた基板処理方法を供することができる。 - 特許庁

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機械工学英和和英辞典での「D-P-S」の意味

DPS


DPS (data processing standards)


DPS (descent power system)


DPS (disk programming system)

ディスク・プログラミング・システム

JST科学技術用語日英対訳辞書での「D-P-S」の意味

ライフサイエンス辞書での「D-P-S」の意味

d.p.s.


dps

遺伝子名称シソーラスでの「D-P-S」の意味

dps

bacillus遺伝子名dps
同義語(エイリアス)General stress protein 20U; Dps; DPS protein homolog; GSP20U; BSU30650
SWISS-PROTのIDSWISS-PROT:P80879
EntrezGeneのID---
その他のDBのIDSubtilist:BG12584
fission_yeast遺伝子名dps
同義語(エイリアス)Decaprenyl-diphosphate synthase subunit 1; SPBPJ694.01; decaprenyl diphosphate synthase subunit Dps1; dps1; SPBPJ4664.01; Decaprenyl pyrophosphate synthetase subunit 1
SWISS-PROTのIDSWISS-PROT:O43091
EntrezGeneのID---
その他のDBのIDGeneDB_SPombe:SPBPJ4664.01
fly遺伝子名dPS
同義語(エイリアス)DmPS; PS1; pres; presenilin; Presenilin homolog; DrosPS; dPresenilin; DPsn; Dps; psn; Dpresenilin; CG5868; Psn; CG18803; l(3)77CDb; DPS; Presenilin
SWISS-PROTのIDSWISS-PROT:O02194
EntrezGeneのIDEntrezGene:40260
その他のDBのIDFlyBase:FBgn0019947

本文中に表示されているデータベースの説明

SWISS-PROT
スイスバイオインフォマティクス研究所欧州バイオインフォマティクス研究所によって開発運営されているタンパク質アミノ酸配列データベース
EntrezGene
NCBIによって運営されている遺伝子データベース染色体上の位置配列発現構造機能、ホモロジーデータなどが含まれている
Subtilist
枯草菌ゲノムプロジェクトにより運営されている枯草菌に由来するDNAタンパク質配列のデータベース
GeneDB_SPombe
サンガー研究所により運営されている分裂酵母の一種であるS. pombe遺伝子情報に関するデータベース
FlyBase
米英大学のショウジョウバエ研究者などにより運営されるショウジョウバエ生態遺伝子情報に関するデータベース

Weblio英和対訳辞書での「D-P-S」の意味

DPS


DPS


DPS


Dps (band)

dps (バンド)
dps(ディー・ピー・エス)は、日本男性4人組ロックバンド

dps


dps (バンド)

Dps (band)
dps(ディー・ピー・エス)は、日本男性4人組ロックバンド
Weblio英和対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

Weblio例文辞書での「D-P-S」に類似した例文

dps

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「D-P-S」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 79



例文

A division value inverter 128 applies 2k division to data between the Dmax, Dmin, based on the obtained Dmax, Dmin and converts pixel data Δ1.1,..., Δm.1 from an S-P converter 121 into the divisions and provides an output of them.例文帳に追加

分割値逆変換器128 では得られたD_max, D_minからD_max, D_min間を2^k分割し、S −P 変換器121 からの画素データΔ_1,1,…,Δ_m,l をその分割値に変換して出力する。 - 特許庁

Inequalities of 1.8≤θ_S/θ_R≤2.2, and 0<L_B/θ_S≤{6.3S_Y+3.3(L_P-D_P)-2583.3}×10^-3 are satisfied.例文帳に追加

1.8≦θ_S/θ_R≦2.2,0<L_B/θ_S≦{6.3S_Y+3.3(L_P−D_P)−2583.3}×10^−3を満足する。 - 特許庁

A signal processing part 334 obtains a distance S between the receiver 31 and an ear of a user (the degree of closure of an ear hole) on the basis of the reflection signal D(n) and a sound source signal X(n), and a correction pattern determination part 335 outputs a correction pattern P(S) corresponding to the distance S.例文帳に追加

そして反射信号D(n)と音源信号X(n)に基づいて、信号処理部334が、レシーバ31とユーザの耳との距離S(耳穴の密閉度)を求め、補正パターン決定部335が、この距離Sに応じた補正パターンP(S)を出力する。 - 特許庁

In the device, the lower end surface D of a pulling shaft X has a flat part P to be adhered with a seed crystal S and recessed parts E provided in the flat part P.例文帳に追加

引上げ軸Xの下端面Dは、種結晶Sと接着される平坦部Pと、該平坦部内の窪みEとを有する。 - 特許庁

The application must contain the following information: (a)P’s name and address for service: (b)if P has an agent, the agent’s name: (c)the nature of the evidence: (d)an explanation why the evidence could not have been filed earlier: (e)any other ground or grounds for making the application.例文帳に追加

申請書は,次の情報を含まなければならない。(a) Pの名称及び送達用宛先 (b) Pが代理人を有する場合は,その代理人の名称 (c) 証拠の性質 (d) 証拠がそれより早く提出できなかった理由の説明 (e) 当該申請を行なう何らか他の理由 - 特許庁

When streamer propagation velocity is represented by Vs and discharge occurrence frequency between the electrodes is represented by f, then the plasma waste gas treatment facility P is put into operation that satisfies the conditions of 5-1 (d/vs)≤τ≤5(d/vs) and f≤1 kpps.例文帳に追加

いま、ストリーマ放電進展速度をv_s、電極間における放電の発生頻度をfとすると、このプラズマ排ガス処理設備Pは、5^-1(d/v_s)≦τ≦5(d/v_s)及びf≦1kppsなる条件を満たした状態で運用される。 - 特許庁

In the short pulse electrolysis, the lowering of the short pulse is completed (time t_E) after the startup of the short pulse P 1 (time t_S) and before the generation of a diffusion layer at a cathode boundary (t≤t_D).例文帳に追加

短パルス電解では、短パルスP1の立ち上げ後(時間t_S)、陰極界面に拡散層が発生する前(t≦t_D)に、短パルスの立ち下げが完了する(時間t_E)。 - 特許庁

例文

The key generation device can use a master secret key S_m and ID (identification information D=[D_1 to D_K]) of the decryption devices to generate hierarchical secret keys S(k) of all hierarchies under a public key P.例文帳に追加

鍵生成装置は、マスター秘密鍵S_mと復号化装置のID(識別情報D=[D_1,…,D_K])を用いて、公開鍵P、配下のすべての階層の階層秘密鍵S(k)を生成できる。 - 特許庁

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