「present pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a pattern forming method by which a fine pattern having ≤10 μm unevenness even if present on a substrate surface is easily formed.例文帳に追加

基板表面に凹凸がある場合でも１０μｍ以下の微細なパターンを容易に形成することが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

According to one embodiment of the present invention, in a pattern shape determining method, a first reference position to be a determination reference position of a pattern shape is set on a first pattern to be a determination reference of a pattern shape.例文帳に追加

本発明の一つの実施形態によれば、パターン形状判定方法において、パターン形状の判定基準となる第１のパターンにパターン形状の判定基準位置となる第１の基準位置を設定する。 - 特許庁

The present invention refers to a test pattern 1, a set of test patterns and a method of evaluating the transfer properties of a pattern as well as a method of determining at least one parameter of a transfer process.例文帳に追加

転移処理の少なくとも一つのパラメータを決める方法と同様に，テストパターン１，テストパターンの集合，テストパターンの転移特性を評価する方法についても言及している。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor integrated circuit whereby an operator can identify a present process by only watching a resist pattern.例文帳に追加

レジストパターンを見るだけで、現在の工程を判断できる半導体集積回路の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide imprint lithography device and method with little pattern defects according to an embodiment of the present invention.例文帳に追加

本発明の実施形態によれば、パターン不良の少ないインプリントリソグラフィ装置及び方法を提供することができる。 - 特許庁

To provide an exposure method and an aligner, where even a complicated lithographic pattern in which a dense pattern and a coarse pattern are mixedly present in the same shot can be controlled accurately in dimensions.例文帳に追加

密パターンと疎パターンが同一ショット内に存在するような複雑なリソグラフィパターンに対しても高精度な寸法制御を得ることができる露光方法および露光装置を提供すること。 - 特許庁

In the pattern formation method according to the present embodiment, a pattern including first block phases and second block phases is formed by causing the self-organization of block copolymer on a processed film.例文帳に追加

実施形態のパターン形成方法では、被加工膜上でブロックコポリマーを自己組織化させて第１のブロック相および第２のブロック相を含むパターンを形成する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR DETERMINING WHETHER OR NOT A REFERENCE PATTERN IS PRESENT IN RECEIVED AND POSSIBLY WATERMARKED SIGNAL例文帳に追加

受信され、電子透かしがおそらく埋め込まれた信号にリファレンスパターンが存在するか否かを判定する方法及び装置 - 特許庁

The present invention is to provide a method comprising performing pattern exposure from the backside of the barrier rib, that is, from the side of the glass substrate.例文帳に追加

露光を隔壁材の側からだけでなく、裏面から、すなわちガラス基板側からもパターン露光を行う方法を提供する。 - 特許庁

In the traffic light control system, a pattern of traffic light control parameters corresponding to present time is selected by use of a first pattern switching table used in a conventional time-controlled pattern selection method, and thereafter, a pattern is reselected by use of a newly provided second pattern switching table.例文帳に追加

従来の時間制御のパタン選択方式で用いられる第一パタン切替テーブルを用いて、現在時刻に対応する交通信号制御パラメータのパタンを選択した後、本発明では、新たに設けた第二パタン切替テーブルを用いて、再度パタンの選択を行う。 - 特許庁

Displacement of a present pattern layer for a reference pattern formed on a pilot wafer within the same lot to be processed in a prescribed aligner is inspected in the method of aligning a plurality of pattern layers.例文帳に追加

複数のパターンレイヤ間の位置合わせ方法において、所定の露光装置で処理する同一ロット内のパイロットウェーハで、このパイロットウェーハ上に形成された基準パターンに対する現在のパターンレイヤの位置ずれを検査する。 - 特許庁

Displacement of present pattern layer for the reference pattern formed on a pilot wafer within the same lot to be processed with the predetermined aligner is inspected in the method of aligning a plurality of pattern layers.例文帳に追加

複数のパターンレイヤ間の位置合わせ方法において、所定の露光装置で処理する同一ロット内のパイロットウェーハで、このパイロットウェーハ上に形成された基準パターンに対する現在のパターンレイヤの位置ずれを検査する。 - 特許庁

The present invention is related to a method for calibrating a system which includes a pattern carrier (2) having a pattern (15) reflected on a reflection surface (14), and a camera (1) for viewing the pattern (15) reflected on the reflection surface (14) for each pixel.例文帳に追加

本発明は、反射面（１４）で反射されるパターン（１５）を有するパターンキャリア（２）と、反射面（１４）に反射されたパターン（１５）を画素ごとに視認するカメラ（１）とを有するシステムを較正する方法に関する。 - 特許庁

In the method for adapting pattern dimension according to the present invention, an exposure device 5 for irradiating two planes of polarization with light is prepared.例文帳に追加

本発明によるパターン寸法を適合する方法においては、２つの偏光面に光を照射する露光装置５が準備される。 - 特許庁

To provide a method and device for flaw detection, capable of detecting a flaw even when an irregular pattern is present without being affected by the irregular pattern.例文帳に追加

不規則なパターンが存在する場合でも、そのパターンの影響を受けずに欠陥を検出することができる欠陥検出方法および欠陥検出装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The present invention discloses a mask for forming a fine pattern to completely transfer a first and a second pattern from the mask through a double patterning step onto a transfer object below, and a method for forming the mask.例文帳に追加

二重パターニング工程でマスク上の第１及び第２パターンをそのまま下部の被転写物に転写させる微細パターンを形成するためのマスク及びその形成方法である。 - 特許庁

The mask pattern correction method includes the steps of: acquiring three-dimensional information of a first portion where no black defect is present in a pattern edge of a mask pattern 5 by using a scanning probe microscope; and correcting a second portion where a black defect 2 is present in the pattern edge of the mask pattern 1 based on the three-dimensional information by using the probe of the scanning probe microscope.例文帳に追加

マスクパターン修正方法は、マスクパターン５のパターンエッジに黒欠陥が存在しない第１の部分の３次元情報を走査型プローブ顕微鏡を用いて取得するステップと、前記３次元情報に基づいてマスクパターン１のパターンエッジに黒欠陥２が存在する第２の部分を前記走査型プローブ顕微鏡のプローブを用いて修正を行うステップとを含む。 - 特許庁

To provide a metal pattern forming method and a conductive film forming method capable of forming a metal pattern and a metal film having excellent adhesion to a board when less irregularities are present on a board interface.例文帳に追加

基板界面の凹凸が少ない場合であって基板と金属膜との密着性に優れた金属パターン、金属膜を形成可能な、金属パターン形成方法及び導電膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern-forming method with which a metal pattern can be uniformly and efficiently formed, while the amount and distribution of a silanol group being present at a groove pattern surface part formed by exposing and developing a polysilane film can be controlled.例文帳に追加

ポリシラン膜を露光、現像して形成された溝パターン表面部に存在するシラノール基の量、分布をコントロールすることができ、均一かつ効率的に金属パターンを形成することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method in which a template is prevented from being damaged due to unevenness or a foreign substance present on a substrate to be treated when forming a pattern on the substrate to be treated using a nano-imprint.例文帳に追加

ナノインプリントを用いた被処理基板へのパターン形成時に、被処理基板に存在する凹凸や異物によってテンプレートが破損することを防止するパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The present invention concerns an electrochemical pattern replication method, ECPR, and a construction of a conductive electrode for production of applications including micro and nano structures.例文帳に追加

本発明は、電気化学的パターン複製方法、ＥＣＰＲ及びマイクロ及びナノ構造を含むアプリケーションの製造のための伝導電極の構築に関する。 - 特許庁

There is also provided a method for forming a fine pattern according to the present invention comprising the steps of: forming a first protruding pattern on a film to be processed; forming a spacer formed from the resin composition at a sidewall of a protruding part of the protruding pattern; and forming a fine pattern by using the spacer or a resin layer disposed around the spacer as a mask.例文帳に追加

また、本発明により微細パターンの形成方法は、被加工膜上に、第一の凸パターンを形成させ、その凸パターンの凸部側壁に前記樹脂組成物から形成されたスペーサーを形成させて、そのスペーサー、またはスペーサーの周りに配置された樹脂層をマスクとして微細パターンを形成させるものである。 - 特許庁

The present invention relates to the photosensitive resin composition containing a polyimide resin having an acid-dissociative group, a compound of generating sulfonic acid by irradiation of light, and a crosslinking agent, a manufacturing method for the pattern using the composition, and the electronic device having the pattern.例文帳に追加

酸解離性基を有するポリイミド樹脂、光照射によりスルホン酸を発生する化合物、および架橋剤を含有する感光性樹脂組成物、該組成物を用いたパターンの製造法、および該パターンを有する電子デバイス。 - 特許庁

To provide a device, a method, and a program for pattern recognition of characters, etc., in a color image which can extract and recognize a pattern in an image even when the image has low resolution and unspecified and many colors (foreground color) of a pattern area and the colors (background color) of an area other than the pattern are present.例文帳に追加

カラー画像に示される文字等のパターン認識を、画像が低解像度でありかつパターン領域の色（前景色）とパターン以外の領域の色（背景色）が不特定で複数存在する場合においても、画像中のパターンを抽出し認識することのできるパターン認識装置とそのパターン認識方法、及びパターン認識プログラムを提供する。 - 特許庁

The present invention relates to a method to improve the compression rate based on the similarity to a first color of three adjoining blocks, in a method of dividing image data into blocks of 2×2 pixels and converting into a pattern flag indicating a color arrangement pattern of each block and color data based on the color (pixel value) in each block.例文帳に追加

画像データを２×２画素のブロック毎に分割し、各ブロック内の色（画素値）に基づき、各ブロックの色の配置パターンを示すパターンフラグと色データとに変換する方法において、隣接する３つのブロックの第１色との類似性に基づいて圧縮率を向上させる方法に関する。 - 特許庁

According to the magnetic particle examination method of the present invention, a magnetic sheet is abutted on or pressed against a surface to be subjected to flaw detection, which is in contact with liquid, to stick fast thereto, and a magnetic particle pattern is then formed on this magnetic sheet.例文帳に追加

本願の磁粉探傷法は、液体に接した被探傷面に対して、磁気シートを当接させるか又は押し当てて密着させて、この磁気シートに磁粉模様を形成させる。 - 特許庁

To provide a method for reducing pattern distortions in imprinting layers by greatly reducing gas pockets present in the layer of viscous liquid deposited on a substrate.例文帳に追加

本発明は、基板上に付着した粘性液体層に存在するガス・ポケットを大幅に減少させることによって、インプリンティング層におけるパターン歪みを軽減する方法を対象とする。 - 特許庁

To provide a feature extraction method that can extract features of a waveform pattern present between adjacent sample lines without increasing the number of feature quantities.例文帳に追加

特徴量の数を大きくすることなく、隣接する標本線の間に存在する波形パターンの特徴の抽出等を行うことができる特徴抽出方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern by which when a support with copper present on the upper surface thereof is used, the effects of the copper on a resist pattern can be reduced, management and control in production are easy, and the problem of mixing occurs hardly.例文帳に追加

上面に銅が存在する支持体を用いたときに、レジストパターンに与えられる銅の影響を低減することができるとともに、製造時の管理、制御が容易であり、ミキシングの問題が生じにくいレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern matching method by which, even when almost the same enumerated parts are present in a pattern for example, pattern matching of design data and images acquired by an image formation device or the like can be performed in high accuracy; and to provide its program and a device therefor, concerning a method, a program, and a device suitable for specifying information on unevenness in the design data.例文帳に追加

本発明の目的は、設計データ内の凹凸情報を特定するのに好適な方法，プログラム及び装置の提供に係り、一例として同じような部分が羅列するようなパターンであっても、設計データと、画像形成装置等で取得された画像との間のパターンマッチングを高精度に行い得る方法，プログラム及び装置の提供にある。 - 特許庁

A method for manufacturing a conductive pattern-formed substrate of the present invention includes: a conductive pattern formation step of irradiating a transparent conductive layer provided on an insulation substrate with a pulse-form laser beam in a predetermined pattern to form an insulation portion and forming at least a conductive pattern; and a re-irradiation step of re-irradiating a part of the insulation portion with the pulse-form laser beam.例文帳に追加

本発明の導電パターン形成基板の製造方法は、絶縁基板上に設けられた透明導電層にパルス状レーザ光を所定パターンで照射することにより絶縁部を形成して、少なくとも導電パターンを形成する導電パターン形成工程と、前記絶縁部の一部にパルス状レーザ光を再照射する再照射工程とを有する。 - 特許庁

The method for increasing the thickness of the electrically conductive pattern on the dielectric substrate comprises the steps of: immersing the substrate with the electrically conductive pattern present thereon in an electrolytic bath; electrolytically contacting in the electrolytic bath a negatively charged electrode with the pattern during immersion of the substrate; and effecting contacting movement in the electrolytic bath of the electrode and the pattern relative to each other during immersion of the substrate.例文帳に追加

導電性パターンを有する基材を電解液に浸漬するステップと、電解液中に基材が浸漬されている間に、負に帯電した電極を導電性パターンと電解液中で電気的に接触させるステップと、電解液中に基材が浸漬されている間に電解液中で電極と導電性パターン間の接触相対移動を行なわせるステップを有する。 - 特許庁

In the manufacturing step of a color filter by a printing method, the pattern with ink coating unevenness is formed in the transferred glass substrate if ink coating unevenness is present in a blanket face for transferring the ink.例文帳に追加

印刷方式のカラーフィルタ製造工程において、インキ転写用ブランケット面上にインキ塗工ムラがあった場合、転写されたガラス基板もインキ塗工ムラを有するパターンが形成される。 - 特許庁

In the pattern forming method, when a thermoplastic resin layer and an intermediate layer are present, a step of removing the thermoplastic resin layer and the intermediate layer is included between the transfer step and the exposure step.例文帳に追加

また、熱可塑性樹脂と中間層がある場合には、前記転写工程と前記露光工程との間に、該熱可塑性樹脂層と該中間層とを除去する工程を含むパターン形成方法。 - 特許庁

Prescribed data represented by the determined selection pattern are selected from among a data group, and authentication data corresponding to the present authentication method are generated based on the prescribed data to be transmitted to a peripheral unit.例文帳に追加

該決定した選択パターンが示す所定データをデータ群の中から選択し、該所定データに基づいて今回認証方式に対応した認証データを生成して周辺部に送信する。 - 特許庁

To provide a photomask which suppresses breaking of a pattern formed after exposure and development by a photolithography method even when a pattern formed on the photomask has a defect, when a foreign matter sticks to generate a flaw, and further when an air bubble is present in a substrate.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法において、フォトマスク上に形成されたパターンに欠陥がある場合や、異物が付着していたりキズが付着している場合、さらには基板中に気泡が存在する場合であっても、露光・現像後形成されたパターンの断線発生を抑制するフォトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a thin-film forming method for a mask for prescribing a magnetization pattern shape in which a mask with a clean surface can be formed as the mask for prescribing the magnetization pattern shape by efficiently removing sticking matter present in an area other than a specified area on the surface.例文帳に追加

磁化パターン形状規定用マスクに対して、その表面の特定領域以外の領域に存在する付着物を効率的に取り除き、表面の清浄なマスクを作成することが可能な、磁化パターン形状規定用マスクに対する薄膜形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The present invention relates to the photosensitive resin composition containing (a) a resin having a specified repetition unit, (b) a compound generating an acid when irradiated with light, and (c) a crosslinking agent, and (d) a thermally acid generating agent, a pattern manufacturing method using the composition, and the electronic device having the pattern.例文帳に追加

（ａ）特定の繰り返し単位を含む樹脂、（ｂ）光照射により酸を発生する化合物、（ｃ）架橋剤、および（ｄ）熱酸発生剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、該組成物を用いたパターンの製造法、および該パターンを有する電子デバイス。 - 特許庁

To provide a pattern forming method where the paste can be coated in the optimum paste coating weight, and a desired paste pattern can be continuously coated and drawn when a coating region is coated with paste, even in the case the variation in the coating weight of the paste, the variation in the position of the coating region or the like are present.例文帳に追加

塗布領域に対してペーストを塗布する際、ペーストの塗布量の変動、塗布領域の位置の変動等がある場合でも最適なペースト塗布量でペーストを塗布し、連続して所望するペーストパターンを塗布描画することのできるパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The present invention also encompasses a lithographic structure containing the underlayer prepared from the above composition, a method of making the lithographic structure, and a method of using the lithographic structure to pattern an underlying material layer on a substrate.例文帳に追加

本発明は、本発明の組成物から調製される基層を備えるリソグラフィ構造物、そのようなリソグラフィ構造物を製作する方法、およびそのようなリソグラフィ構造物を用いて基板上の下地材料層をパターン化する方法も含む。 - 特許庁

The present invention includes a method for forming a word line pattern of the nonvolatile memory array including a step of producing the sub-F word lines using a mask producing device having a width of at least minimum characteristic size F through the use of spacer technology.例文帳に追加

少なくとも最小特徴サイズＦの幅を有するマスク生成素子から、スペーサー技術を用いてサブＦワード線を生成する段階を含む不揮発性メモリアレイのワード線パターン形成のための方法を含む。 - 特許庁

To provide a building board and a manufacturing method therefor, which enable even only projections of an uneven pattern to present a color appearance such as different colors, color tones or the like, and which enable the presentation of a more complex design appearance.例文帳に追加

凹凸模様の凸部だけにおいても異なる色彩又は色調等の色外観を呈することができ，より複雑な意匠外観を呈することができる建築板及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The printed circuit substrate and method of manufacturing the same according to the present invention relate to a printed circuit substrate including an insulating layer, and a circuit pattern disposed on the insulating layer and a barrier layer that is disposed to cover at least one surface of the circuit pattern and suppresses electrochemical migration from the circuit pattern, thereby making it possible to achieve high-density besides securing reliability, and relate to the method of manufacturing the same.例文帳に追加

本発明による印刷回路基板およびその製造方法は、絶縁層及び前記絶縁層に配置された回路パターンと前記回路パターンの少なくとも一面を覆うように配置されて前記回路パターンから電気化学的マイグレーション(electrochemical migration)を抑制するバリア層を含んで、信頼性を確保するだけではなく、高密度化を実現することができる印刷回路基板及びその製造方法に関する。 - 特許庁

The present invention relates to an alignment mark and a forming method thereof, wherein a plating electricity feeding film 13 is formed on a surface of a substrate 12, and a photoresist pattern is formed on the plating electricity feeding film 13 and then patterned by electric plating.例文帳に追加

基板１２の表面にメッキ給電用膜１３を形成し、次いで当該メッキ給電用膜１３にフォトレジストパターンを形成して、その後電気メッキによりパターン形成されるアライメントマーク及びその作成方法である。 - 特許庁

According to the manufacturing method of a laminate according to the present embodiment, when forming a 6-layer wiring board 1, double-sided plates 20, 30, and 40 are subjected to pattern processing simultaneously, and the plates and semi-cured epoxy resin plates 5a and 6a are stacked.例文帳に追加

本実施の形態に係る積層板の製造方法では、６層配線板１を製造する場合に、両面板２０，３０，４０のパターン加工を並行して行い、これらと半硬化したエポキシ樹脂板５ａ，６ａとを積層する。 - 特許庁