せきずいだんそうさつえいの英語

撮像装置本体１０は、撮影範囲探索開始指示信号を受信すると、撮影レンズ１２の光学ズームを最大広角に制御し、判定装置２６により、発光手段４８の発光スポット像の位置を判定し、発光スポットの移動軌跡を追跡する。例文帳に追加

When an image pickup device body 10 receives the photographing range search start instruction signal, the image pickup device body 10 controls the optical zoom of a photographing lens 12 to a maximum wide angle, and a determining device 26 determines a position of a light-emitting spot image of the light-emitting means 48 to trace a moving locus of a light-emitting spot. - 特許庁

撮像素子１１は、基板１０１上に形成された受光領域１０２と、受光領域１０２上に積層された絶縁体層１０４と、絶縁体層１０４上に形成され入射光を受光領域１０２へ集光するマイクロレンズ１０６を有している。例文帳に追加

The image pickup element 11 has a light receiving region 102 formed on a substrate 101, an insulator layer 104 laminated on the light receiving region 102, and a micro lens 106 which is formed on the insulator layer 104 and condenses incident light to the light receiving region 102. - 特許庁

次に、レジスト１５をパターニングし、第１、第２絶縁膜１３，１４のハードマスクＨＭを含むレジストパターンに従って配線材料積層１２が異方性エッチングされ配線パターン１２が形成される（図１（ｂ））。例文帳に追加

Then a resist 15 is patterned, and the wiring material lamination layer 12 is anisotropically etched, by utilizing a resist pattern containing a hard mask HM of the first and second insulating films 13 and 14, to form a wiring pattern 12 (Fig. 1 (b)). - 特許庁

第１および第２の主面を有する透明絶縁基板（１）と、透明絶縁基板（１）の前記第１主面上に順次積層された透明電極層（２）、半導体光電変換層（３）および裏面電極層（４）と、透明絶縁基板（１）の第２主面に生じた傷（１ａ）を覆うように形成された有機ポリマー膜または無機ポリマー膜からなる光透過性膜（１０）とを備えた太陽電池モジュール。例文帳に追加

This solar cell module comprises a transparent insulating substrate 1, having first and second major surfaces, a transparent electrode layer 2, a semiconductor photoelectric conversion layer 3 and a rear surface electrode layer 4 formed sequentially on the first major surface of the transparent insulating substrate 1, and a light-transmitting film 10 of organic or inorganic polymer formed to cover flaws 1a in the second major surface of the transparent insulating substrate 1. - 特許庁

第１絶縁層２１上には、第１積層基材１１の長尺方向（図１では紙面の手前から奥に向かう方向）に延在する第１導電路３１が設け、第２絶縁層２２上には、第１積層基材の長尺方向に延在し、第１導電路３１と平行するように第２導電路３２が設ける。例文帳に追加

A first conducting path 31 extending in the long direction of the first laminate substrate 11 (from the front toward the back of the paper in Fig. 1) is provided on the first insulation layer 21, and a second conducting path 32 extending in the long direction of the first laminate substrate in parallel with the first conducting path 31 is provided on the second insulation layer 22. - 特許庁

ロール表面からの深さ方向の累積圧延負荷によらず、一定の深さで研削を行うことに主眼を置いたオンラインロールグラインダによるロール表層の研削方法を提供する。例文帳に追加

To provide a grinding method of the outer layer of a roll with an on-line roll grinder in which the prime object is put to the performance of grinding at a certain depth without depending on cumulative rolling load in the depth direction from the roll surface. - 特許庁

ロール軸方向の累積圧延負荷分布によらず、一定の深さで研削を行うことに主眼を置いたオンラインロールグラインダによるロール表層の研削方法を提供する。例文帳に追加

To provide a grinding method of the outer layer of a roll with an on-line roll grinder the prime object of which is put to grind at a constant depth without basing on cumulative rolling load distribution in the axial direction of the roll. - 特許庁

積層数に関わらず、２組の圧延ロール（１）および（６）と１台のラミネーター（４）を最小単位とした図１に示す成形工程設備構成を提供する。例文帳に追加

The equipment constitution for forming process expressed by figure 1 is provided by using a minimum unit consisting of 2 sets of rolling rollers 1, 6 and 1 laminator 4. - 特許庁