フラットネスの英語

実難度データ算出回路２８２は、映像の絵柄の複雑さを示す指標データ（ＭＥ残差、フラットネス、イントラＡＣおよびアクティビティ）から、圧縮後のデータ量に対応する実難度データＤj を算出する。例文帳に追加

A real difficulty data calculation circuit 282 calculates real difficulty data Dj corresponding to a data amount after the compression on the basis of index data (ME residual, flatness, intra AC, and activity) indicating the complicatedness of a pattern of a video image. - 特許庁

マスクのパターン形成面のフラットネスに起因するパターン転写時の位置ずれを防止することができる反射型マスクブランクおよび反射型マスクの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a process for producing a reflective mask blank and a process for producing a reflective mask in which displacement of the mask caused by flatness of the patterning surface of a mask is prevented when a pattern is transferred. - 特許庁

フラットネスメジャー算出部５では、オーディオ信号を１フレーム中に複数が含まれるサブブロック単位で時間周波数変換して得られたスペクトラルデータに基づいて、サブブロック毎にスペクトルの平坦度を算出する。例文帳に追加

A flatness measure calculation section 5 calculates flatness of a spectrum, sub-block by sub-block, on the basis of spectral data obtained by performing time-frequency conversion of an audio signal in units of sub-blocks a plurality of which are included in one frame. - 特許庁

合成石英からなるフォトマス用のガラス基板や該ガラス基板を用いたフォトマスクにおいて、ガラス基板の周辺部にひび、欠けの欠陥部が生じた場合に、該欠陥部を修正でき、且つ、フォトマスクの仕様であるフラットネスを確保できる方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for correcting a defect part, by which a defect part is corrected and a flatness being the specification of a photomask is secured when a defect part such as a crack or chipped part is caused in the peripheral part of a glass substrate, in a glass substrate for a photomask formed of synthetic quartz or a photomask using the glass substrate. - 特許庁

ホストコンピュータ２０は、ＭＥ残差、フラットネスおよびイントラＡＣにより、各ピクチャーの絵柄の難しさを示す実難度データＤ_j を近似し、さらに、近似した実難度データＤ_j から、圧縮映像データの目標データ量Ｔ_j を算出する。例文帳に追加

A host computer 20 approximates actual difficulty data D_j indicating difficulty of a pattern of each of pictures using the ME remainder and the flatness and intra-AC and further calculates a target data amount T_j of compressed video data from the approximated actual difficulty data D_j. - 特許庁

従って、ウエハをホルダに搭載する際に、支持部とホルダとの機械的な干渉を回避するためにホルダに設けられる切り欠きを極力小さくすることができるので、ホルダに搭載されるウエハの平坦度（フラットネス）を向上することができる。例文帳に追加

Therefore, the flatness of the wafer W mounted on the wafer holder can be improved, because the notch provided on the holder for avoiding the mechanical interference between the supporting sections (95a-95c) and the holder can be made smaller in size to the utmost at the time of mounting the wafer W on the holder. - 特許庁

対象物の表面形状による制御性への影響を判別することができ、制御系の制御性をより正確に把握することができる制御系の制御系評価方法及び露光装置、並びにフラットネス計測方法を提供する。例文帳に追加

To provide a controllability evaluation method for a control system, an aligner, and planarity measuring method, which can discriminate influence on controllability from the surface shape of an object and accurately comprehend the controllability of the control system. - 特許庁

マスクに損傷を与えることなく、マスクへの装着及びマスクからの脱着を行うことができ、しかも水平方向及び鉛直方向の何れの方向にマスク面が維持された場合にもマスクの平面性（フラットネス）を損なうことのないペリクルを提供すること。例文帳に追加

To provide a pellicle which can be attached to a mask and detached from the mask without damaging the mask and does not impair the flatness of the mask even when the surface of the mask is maintained in any of horizontal and perpendicular directions. - 特許庁