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マスキングブレードの英語
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「マスキングブレード」を含む例文一覧
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レチクルマスキングブレードシステムおよびレチクルマスキングブレードの制御方法およびレチクルマスキングブレードの浮上装置例文帳に追加
CONTROL METHOD OF RETICLE MASKING BLADE SYSTEM AND RETICLE MASKING BLADE, AND LEVITATION DEVICE OF RETICLE MASKING BLADE - 特許庁
原版の近傍にマスキングブレードを配置することを可能にし、良好な露光性能を達成する。例文帳に追加
To achieve excellent exposure performance by enabling arrangement of a masking plate near an original. - 特許庁
露光装置においてレチクル上の所望のパターンのみを露光するためのマスキングブレードをレチクルステージの上部に第一のマスキングブレードを設置し、さらにレチクルステージの下部に第二のマスキングブレードを設置することにより、迷光によりレチクル上の非露光領域を透過した光を投影レンズ内に入り込む事を防止することができる。例文帳に追加
A first masking blade for exposing only a desired pattern on a reticle by an exposure device is installed above a reticle stage, and a second masking blade is installed below the reticle stage to prevent light transmitted in a non-exposure region on the reticle from entering a projection lens owing to stray light. - 特許庁
コンデンサー光学系６は、オプティカルインテグレータ３からの光束を、マスキングブレード７面にケーラー照明している。例文帳に追加
The condenser optical system 6 throws the flux of light from an optical integrator onto the surface of the masking blade in Koehler illumination. - 特許庁
基板１及び円形マスキングブレード３の移動後、次のショットを行い、これらの動作を繰り返すことによって、基板１全体が露光される。例文帳に追加
After the substrate 1 and the circular masking blade 3 are moved, a succeeding shot is carried out and repeating the operations above exposes the entire substrate 1. - 特許庁
リソグラフィ装置は、穴部と、穴部に位置する拡散部材とが設けられたパターニングデバイスマスキングブレードをさらに備える。例文帳に追加
The lithography device further comprises a patterning device masking blade provided with a hole and a diffusion member located at the hole. - 特許庁
１つのショットが終了して基板１をステップ移動するとき、制御装置５１は、ＸＹ移動機構３１を駆動して、基板１と円形マスキングブレード３の開口との相対位置を一定に保つように、円形マスキングブレード３のＸＹ位置を移動する。例文帳に追加
When one shot is finished and the substrate 1 is stepwise moved, a controller 51 drives an XY moving mechanism 31 so as to move XY positions of the circular masking blade 3 in a way of keeping a relative position between the substrate 1 and the opening of the circular masking blade 3 constant. - 特許庁
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「マスキングブレード」を含む例文一覧
該当件数 : 13件
第１駆動機構１６は、第１レンズ群６ａを光軸方向に移動することにより、マスキングブレード７面上の照度分布を光軸対称にほぼリニアに変化させる。例文帳に追加
A first driving mechanism 16 changes lighting intensity on the surface of a masking blade 7 almost linearly in a direction symmetrical to the axis by shifting a first group of lenses in the axial direction. - 特許庁
フライアイレンズ１６、集光レンズ１７、ミラー１８、マスキングブレード１９、及び結像レンズ２０によって、レチクル２１面上の必要な領域を均一に照明している。例文帳に追加
A required area on the surface of a reticule 21 is uniformly illuminated by a fly eyes lens 16, a condenser lens 1, a mirror 18, a masking blade 19 and an image formation lens 20. - 特許庁
円形マスキングブレード３は、円形の開口を有するプレートで構成され、基板１の外周近傍へ照射される光を遮断して、基板１の外周近傍に未露光部を形成する。例文帳に追加
A circular masking blade 3 comprises a plate having a circular opening, and shuts off a light emitted to the vicinity of the outer circumference of a substrate 1 to form an unexposed part in the vicinity of the outer circumference of the substrate 1. - 特許庁
マスキングブレードの設定などにより、異なるショットサイズが混在するレイアウトの編集を行う場合、それぞれのショットサイズに応じた複数種類のグリッドを持ち、それぞれのグリッド情報を元にレイアウト編集を行う。例文帳に追加
In the case of performing the editing of such layout that different shot sizes coexist according to the setting of a masking blade, a plurality of types of grids corresponding to various shot sizes are prepared for performing layout editing based on each grid information. - 特許庁
原版をスリット状の露光光で照明する照明系の一次結像面近傍に、前記露光光をスリット状に加工するマスキングブレードとは別個に、走査方向における照明領域を規制する第１および第２の遮光板を設ける。例文帳に追加
Near a primary image forming plane of an illumination system illuminating an original with slit-shaped exposure light, first and second light shielding plates are provided for regulating an illumination area in a scanning direction separately from a masking blade for working the exposure light into a slit shape. - 特許庁
第１のテーブル即ち天板３０に搭載された原版としてのマスク３２を、光源からの光で照明する照明装置を用いて照明する露光装置において、ＥＵＶ光を吸収する材質により構成された遮光部を具備し、露光に寄与しない不要な光を遮光するマスキングブレード２８，３１を、前記第１のテーブルに具備する。例文帳に追加
An aligner which lights up a mask 32 as an original mounted on a 1st table, i.e. a top plate 30 by using a lighting device using light from a light source has a light shield, made of a material-absorbing EUV light, and the 1st table is equipped with masking blades 28 and 31 for cutting off unwanted lights which do not contribute to exposure. - 特許庁
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