下欠の英語

極紫外線リソグラフィ（ＥＵＶＬ）プロセスでの使用に許容され得ない表面粗さまたは表面下欠陥を生じない、ガラスを研磨する新しい方法及びその方法を用いて作成される光学素子を提供する。例文帳に追加

To provide a new method for polishing glass by which surface roughness or under-surface defects not permissible for use in an extreme ultraviolet lithography (EUVL) are not caused, and to provide an optical element produced using the method. - 特許庁

超音波の表面波が被検査体の幅方向を一周して全面探傷することができ、欠陥以外からの反射波を低減する表面欠陥及び表面皮下欠陥の検出装置及びその方法を提供する。例文帳に追加

To provide a device for detecting a surface defect and a defect under the surface skin, and a method for detecting the same wherein an ultrasonic surface wave can carry out flaw detection of a whole surface by going around a width direction of an inspection object, and reflected waves from other than a defect are reduced. - 特許庁

連続鋳造で得た金属鋳片の縁部の傾斜を、断面視で水平を基準にして測定し、該測定値を表皮下欠陥の存在を判定する閾値と比較する。例文帳に追加

An inclination of the edge part of the metal cast slab obtained by the continuous casting is measured with a cross sectional view by using the horizontal line as a standard, and the measured value is compared with a threshold value for judging whether the defect exists under the surface skin. - 特許庁

本発明は、連続鋳造で得た鋼鋳片の表皮下に存在する縦割れを簡便且つ容易に発見可能な鋼鋳片の表皮下欠陥検出方法を提供することを目的としている。例文帳に追加

To provide a method for detecting defects under the surface skin of a steel cast slab by which longitudinal cracks existing under the surface skin of the steel cast slab obtained by continuous casting can simply and easily be detected. - 特許庁

特許庁は，発明の説明の一部が登録出願の書類一式から欠落しているように思われる又は実用新案クレームが出願に欠落していると思われる図面(以下「欠落部分」という)を引用していると認める場合は，直ちにその旨を出願人に通知するものとする。例文帳に追加

Where the Patent Office finds that a part of the description of the invention appears to be missing from the set of the documents of the registration application, or that the claims of the utility model refer to a drawing which appears to be missing from the application (hereinafter missing part), the Patent Office shall promptly notify the applicant thereof.発音を聞く  - 特許庁

観察座標を算出するのに不適当な，観察装置で検出するのが困難な欠陥(例えば，膜下欠陥など)が多発する品種・工程のウェーハにおいて，安定かつ高スループットに検査装置と観察装置の座標系のずれを補正する。例文帳に追加

To attain stable and high throughput correction of a deviation of coordinate systems of an inspecting device and an observing device in a wafer of the type and the step frequently inducing defects (for example, under-film defects and the like) inappropriate to calculate the observation coordinates and difficult to detect by the observing device. - 特許庁

しかし、従来のダイカスト鋳造や樹脂射出成形の成形方法では、射出口が一ヶ所であるために、同じ射出口からの２種類以上の射出は材料が混合されるので、成型品の組織、組成に影響を及ぼし強度低下、欠陥につながり、一体化成形は困難である。例文帳に追加

The integrally molded molding 4 and the molding 22 are pressed to a movable mold 1 by the cylinder 5 and moved while being held by the movable mold 1, a mold 26 is separated by an inclined pip and a groove, an injection gate 24 is demolded and discharged by an ejector pin. - 特許庁

本発明の修復に受容可能である欠損は、重症サイズ欠損、非重症サイズ欠損、非癒合性骨折、骨折、骨軟骨欠損、肋骨下欠損、および離断性骨軟骨炎のような変性疾患から生じる欠損を含むがこれらに限定されない。例文帳に追加

Defects susceptible to repair include, but are not limited to: critical size defects, non-critical size defects, non-union fractures, fractures, osteochondral defects, subchondral defects, and defects resulting from degenerative diseases such as osteochondritis dessicans. - 特許庁