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亘研の英語
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「亘研」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 66件
被研磨物を全面に亘って均一に研磨することができると共に、研磨装置を安価に製作することができる研磨装置を提供する。例文帳に追加
To provide a polishing device capable of uniformly polishing a polished article all over its surface and to manufacture at low cost. - 特許庁
被研磨面の研磨痕を抑制し、且つ、被研磨面全体に亘り研磨量を均一化することができる研磨布、並びに、該研磨布を用いたウェーハの片面研磨方法および片面研磨装置の提供。例文帳に追加
To provide an abrasive cloth suppressing a polishing trace on a polished surface and equalizing the amount of polishing over the entire polished surface; and method and device for polishing a single side of a wafer by using the abrasive cloth. - 特許庁
よって、研削屑が微細となる木材を研削対象とする場合でも、長期間に亘ってサンディングロール20の研削能力が維持される。例文帳に追加
Thereby, even when a lumber causing minute grinding dust is ground, grinding capability of the sanding roll 20 is maintained for a long time. - 特許庁
研磨スラリーの滞留を可及的に抑制して研磨効率の向上を図ると共に、研磨パッドの全域に亘って均一に研磨スラリーを行き渡らせて研磨ムラの発生を抑止できるガラス物品用研磨具を提供する。例文帳に追加
To provide a glass products grinder capable of improving the grinding efficiency by restricting stay of the grinding slurry to the utmost and capable of restricting the generation of unevenness of grinding by evenly distributing the grinding slurry over the whole range of a grinding pad. - 特許庁
これにより、長時間に亘って高い平坦度と一定の研磨速度を得ることができる。例文帳に追加
Therefore, high flatness and a uniform polishing speed can be obtained for long hours. - 特許庁
ドレッシング処理を施さずに、長い時間に亘って安定した研磨性能を発揮し得る研磨布を提供する。例文帳に追加
To provide a polishing cloth which can perform stable polishing performance for a long time without performing a dressing process. - 特許庁
ドレッシング処理を施さずに、比較的長い時間に亘って安定した研磨性能を発揮し得る研磨布を提供しようとするものである。例文帳に追加
To provide a polishing cloth, capable of performing stable polishing for a relatively long time without dressing. - 特許庁
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「亘研」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 66件
上記研削工程により、研削後の研削板1の全長に亘って、当該研削板1の幅方向における厚さのばらつきを40μm以内とすることができる。例文帳に追加
The grinding step enables the thickness unevenness of a grinding plate 1 in the width direction to be made within 40 μm throughout the length of the grinding plate 1 after grinding. - 特許庁
サンプルウエーハは、ウエーハの被研磨面に中心領域から外周に亘って複数の研磨工具によってそれぞれ研磨された複数の環状の研磨領域が形成されている。例文帳に追加
On the sample wafer, a plurality of annular polished regions are formed that have been polished with a plurality of polishing tools from the central region to the outer periphery on the surface of a wafer to be polished. - 特許庁
研磨対象となる試料の研磨面に可及的に均一な温度分布を実現し、全面に亘って可及的に均一な研磨レートでの化学機械研磨を可能とする試料保持装置及び試料研磨装置を提供する。例文帳に追加
To provide a specimen holding device and a specimen polishing device, which can realize an uniform temperature distribution as much as possible over the polishing surface of a specimen to be subjected to polishing, and enables uniform chemical and mechanical polishing as much as possible, to be applied to the whole surface of the specimen at an uniform polishing rate. - 特許庁
研磨レートが研磨面内でほぼ均一となり、基板上の全体に亘って優れた平坦性を容易に得ることができる化学機械研磨装置を提供する。例文帳に追加
To provide a chemical machine polishing apparatus capable of making the polishing rate substantially uniform within the polishing surface and easily providing good flatness all over on a board. - 特許庁
研磨シート1は、研磨面P側に研磨面Pの全面に亘り形成された所定厚を有する表面層1aと、表面層1aを除く部分である内部層1bとで形成されている。例文帳に追加
The polishing sheet 1 is formed of a surface layer 1a having predetermined thickness formed on the side of the polishing plane P over the whole surface of the polishing plane P, and an inner layer 1b as a part except the surface layer 1a. - 特許庁
研削チップ5の回転速度及び研削力を向上させ、同時に広範囲に亘り短時間で完全に旧塗膜を研削すると共に、剥離物が回転砥石1に付着しないようにする。例文帳に追加
To completely grind the old coating film over a wide area in a short time period and prevent peeled-off materials from adhering to a rotating grinding wheel by improving the rotating speed and the grinding force of a grinding tip. - 特許庁
研磨層の表面側を親水化するとともに、研磨層全体厚さに亘る膨潤性を抑えた研磨パッドおよびその製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a polishing pad, capable of achieving hydrophilic property on the surface side of a polishing layer, while restricting swelling property over the whole thickness of the polishing layer, and a method for manufacturing it. - 特許庁
回転式のコンタクトプローブにおいて、バレル研磨を施すことなく、プランジャーのスムースな動作を長期に亘り安定的に確保すると共に、コンタクトプローブの電気抵抗を長期に亘り一定に維持する。例文帳に追加
To stably ensure smooth operation of a plunger over a long period, and constantly maintain the electrical resistance of a contact probe over a long period, without having to polish the barrel in the rotating contact probe. - 特許庁
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