全面移動の英語

このため、ラインビームを走査する必要がなく、移動ステージ９６を矢印Ａ方向へ移動させるだけで全面を均一に成膜できる。例文帳に追加

Therefore, it is not required to scan the line beam and the thin film is uniformly formed on the whole surface only by moving a moving stage 96 to the arrow A direction. - 特許庁

台２０には移動空間２２が形成され、下面全面にカウンタウェイト用リニアモータ固定コイル、放射状に移動用リニアモータコイル２４が布設され、カウンタウェイト３０は移動可能である。例文帳に追加

A moving space 22 is formed at the table 20, and a linear motor fixed coil for a counter weight is laid on an entire lower surface, and a linear motor coil for the moving 24 is radially laid, so that a counter weight 30 is moved. - 特許庁

これらは、ウェハ全面で３パーセント未満のシート抵抗率の標準偏差；ウェハ全面で１パーセント未満の電子移動度の標準偏差；ウェハ全面で約３．３パーセント以下のキャリア密度の標準偏差；およびウェハ全面で約２．５パーセントの導電性の標準偏差を含む。例文帳に追加

These components comprise: a standard deviation of sheet resistivity lower than 3% on the entire wafer surface; a standard deviation of electron mobility lower than 1% on the entire wafer surface; a standard deviation of carrier density lower than 3.3% on the entire wafer surface; and a standard deviation of conductivity of about 2.5% on the entire wafer surface. - 特許庁

そのプラズマＰに対して第２電極３とその上に搭載された基板５０を移動させて基板全面に均一なプラズマ処理を行う。例文帳に追加

To the plasma, the 2nd electrode 3 and a substrate 50 mounted on the surface are moved, and uniform plasma treatment is executed to the whole face of the substrate. - 特許庁

半導体用のシリコンウェハの全面が観察できる移動ストロークを持ちながら、低振動かつ低ドリフトの試料ステージを提供する。例文帳に追加

To provide a sample stage that has a movement stroke capable of observing whole face of the silicon wafer for semiconductor but has low vibration and low drift. - 特許庁

レジスト吐出ノズル１を移動させた後、基板４を高速回転させることにより、レジスト溶液１４を基板４全面に広げる。例文帳に追加

After the resist discharge nozzle 1 is removed by rotating the substrate 4 at a high speed, the resist solution 14 is spread over the whole surface of the substrate 4. - 特許庁

ガラス基板が大型化した場合においても、ガラス基板の概略全面に移動度の高い単結晶半導体層を形成することを課題とする。例文帳に追加

To form single-crystalline semiconductor layers with high mobility over approximately the entire surface of a glass substrate even when the glass substrate is increased in size. - 特許庁