化学蒸着系の英語

表面が被覆された黒鉛材料の製造方法において、熱分解炭素源となる原料を黒鉛材料素材に化学蒸着させて、熱分解炭素被覆層を生成させた後、蒸着温度よりも高い温度で熱処理することを特徴とする黒鉛系炭素材料の製造方法。例文帳に追加

The method for manufacturing a graphite material with coated surface comprises chemical vapor deposition of a raw material as a pyrolytic carbon source on a graphite material element to form a pyrolytic carbon coating layer and thereafter heat-treating of the coating layer at a temperature higher than the chemical vapor deposition temperature. - 特許庁

化学蒸着系の固体有機金属供給源物質を用いる２つのチャンバーを有するバブラーデザイン、およびこのような系中に送達するためのソース材料で飽和したキャリアガスの輸送法を開示する。例文帳に追加

To disclose a bubbler design, having two chambers to use the solid organometallic supply source materials of chemical vapor deposition system and a method for transporting a carrier gas saturated by source materials for transmission into such a system. - 特許庁

優れた膜の組成制御性及び段差被覆性を有する有機金属化学蒸着法用溶液原料及び該原料を用いて作製された複合酸化物系誘電体薄膜を提供する。例文帳に追加

To provide a solution material for an organic metal chemical vapor deposition method having excellent film composition controllability and step coverage, and a composite oxide series dielectric thin film prepared using the material. - 特許庁

ポリアミド系樹脂フィルムの一方の面に、プラズマ処理面を設け、更に、該プラズマ処理面の面に、化学気相成長法による膜厚４〜１０ｎｍの無機酸化物の蒸着膜を設けた透明バリア性フィルム。例文帳に追加

A plasma treatment surface is provided on one surface of a polyamide resin film and a vapor deposition film of an inorganic oxide with a thickness of 4-10 nm due to a chemical vapor phase growing method is provided on the plasma treatment surface to constitute a transparent barrier film. - 特許庁

寒冷地であっても凍結し難く、かつ優れた膜の組成制御性及び段差被覆性を有する有機金属化学蒸着法用溶液原料及び該原料を用いて作製された複合酸化物系誘電体薄膜を提供する。例文帳に追加

To provide a solution raw material for organic metal chemical vapor deposition hard to be frozen even in a cold district, and having excellent film compositional controllability and step coverage, and to provide a complex oxide dielectric thin film formed by using such raw material. - 特許庁

優秀な揮発性と熱的特性を示し、加水分解に対する化学的安定性が卓越して特にチタニウムのようなＩＶ族金属を含む多成分系金属酸化物薄膜の蒸着に適するＩＶ族金属前駆体を提供する。例文帳に追加

To provide a group IV metal precursor having excellent volatility and thermal properties and chemical stability to hydrolysis, and suitable for the chemical vapor deposition for a multicomponent metal oxide thin film containing a group IV metal such as titanium in particular. - 特許庁

ガラスならびにプラスティックおよびポリマーなどの温度に敏感な材料上に、優れた光学的および電気的性質を有するｎ型およびｐ型酸化亜鉛系透明導電性酸化物（ＴＣＯ）を低温で堆積させる、プラズマ増強化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）プロセスを提供する。例文帳に追加

To provide a plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) process for depositing n-type and p-type zinc oxide-based transparent conducting oxides (TCOs), which are excellent in optical and electrical properties, on glass or temperature-sensitive materials such as plastics and a polymers at a low temperature. - 特許庁

高分子材料、好ましくはアクリル系ポリマーまたはポリウレタンの表面を、好ましくは酸素、水蒸気、またはアルゴンを用いてプラズマ照射した後に化学蒸着法により、好ましくはダイヤモンドライクカーボン被覆層の厚さが０．０１〜３．０μｍである生体用高分子材料。例文帳に追加

For the polymer material for the living body, plasma irradiation is performed to the surface of the polymer material, preferably acrylic polymer or polyurethane, by using oxygen, water vapor or argon preferably, then a chemical vapor deposition method is performed, and the thickness of a diamond-like carbon coating layer is 0.01-3.0 μm preferably. - 特許庁