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「四分位範囲」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 4



例文

二 実験、実習及び実技については、三十時間から十五時間までの範囲で大学が定める時間の授業をもつて一単とする。ただし、芸術等の野における個人指導による実技の授業については、大学が定める時間の授業をもつて一単とすることができる。例文帳に追加

(ii) regarding experiments, practical training, and skills practice, one credit shall consist of classes conducted for a number of hours determined by a university between 30 hours and 45 hours; provided, however, that regarding skills practice classes tutoring in the artistic fields, one credit shall consist of classes conducted for a number of hours determined by a university; and発音を聞く  - 日本法令外国語訳データベースシステム

また、シアンとマゼンダのノズル列についても同様に、シアンを基準として、マゼンダのノズル置を番号の若い方向にPA×1/3の解の小数点第一捨五入した値だけ使用ノズル範囲をシフトする。例文帳に追加

For the nozzle trains of cyanogen and magenta as well, the range of using nozzle is shifted by the value whose first figure of decimal position of the solution of PA×1/3 is rounded off in the direction wherein the number of the magenta nozzle position is smaller in reference to cyanogen. - 特許庁

この空気入りタイヤ1は、複数のベルト材31〜33が積層されて成ると共にカーカス層2のタイヤ径方向外周に配置されるベルト層3と、トレッド面の縁部からトレッド幅Wのの一の範囲内に置すると共にタイヤ周方向に延在する外側主溝41とを含む。例文帳に追加

This pneumatic tire 1 includes: a belt layer 3, comprised of a plurality of belt members 31 to 33 laminated therein, arranged around an outer circumference in the tire radial direction of a carcass layer 2 and an outer main groove 41, positioned within a range of one-fourth of a tread width W from an edge of a tread surface, extending in the tire circumferential direction. - 特許庁

例文

半導体集積回路の平坦化工程において化学的機械的研磨に用いられる研磨液であって、級アンモニウムカチオン、有機酸、無機粒子、並びに、下記一般式(I)で示される化合物及び下記一般式(I)で示される構造単を含む高子の少なくとも一方を含み、pHが1〜7の範囲である研磨液である。例文帳に追加

The polishing liquid used for chemical mechanical polishing in a planarization process of a semiconductor integrated circuit contains a quaternary ammonium cation, an organic acid, an inorganic particle, and at least one of a compound expressed by general formula (I) and a polymer including a structure unit shown by the general formula (I), and has a pH of 1 to 7. - 特許庁

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Weblio専門用語対訳辞書での「四分位範囲」の英訳

四分位範囲

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