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物性研の英語
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英訳・英語 Inst. for Solid State Phys.
「物性研」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 25件
粒子線基礎物性研究部門例文帳に追加
Research Department of Material Science発音を聞く - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
界面微細構造制御により発現する物性の評価研究例文帳に追加
Research on evaluation of physical properties which appear by controlling the fine structure of interfaces.発音を聞く - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
研磨パッドの物性のばらつきを制御し長期間にわたって良好な研磨特性を発揮することのできる研磨装置を提供する。例文帳に追加
To provide a polishing device capable of developing excellent polishing characteristics over a long period by controlling the dispersion of physical properties of a polishing pad. - 特許庁
この材料は、研磨部材の材料とは機械物性が一般的に異なるため、研磨速度の違い、研磨の不均一、傷を発生させる原因となる危険が高かった。例文帳に追加
This polishing member for polishing machine polishes a polishing object by relatively moving the polishing member and the polishing object with the polishing liquid intervened between the polishing member and the polishing object. - 特許庁
接触角の下限値は好ましくは0度であり、研磨層表面でのスラリーの良好な保持性に加えて、研磨層の親水性が大きくなって研磨中の研磨層の物性変化が大きくなる可能性を考慮して、より好ましくは30度である。例文帳に追加
The lower limit value of the contact angle is preferably 0°, and the contact angle is further preferably 30° considering a possibility of increasing the material property change of a polishing layer during polishing by increasing hydrophilic property of the polishing layer in addition to the good holding property of slurry on the surface of the polishing layer. - 特許庁
被研磨層の物性を制御することにより、研磨速度の向上、エッチング速度の低下、研磨摩擦の低下、面内均一性の向上が達成でき、信頼性の高い金属膜の埋め込みパターン形成を可能とする研磨液を提供する。例文帳に追加
To provide a polishing solution which is capable of improving a polishing rate, reducing an etching rate and polishing friction, improving a polished layer in uniformity through its surface, and forming a very reliable buried pattern made of a metal film by controlling the physical properties of the layer to be polished. - 特許庁
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「物性研」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 25件
異なる物性を持った液体を配管内で混合可能な半導体ウェハの研磨装置、継手、および撹拌コマを提供すること。例文帳に追加
To provide a semiconductor wafer polishing apparatus capable of mixing liquids having respectively different physical properties in piping, and to provide a joint and a stirring top included in the polishing apparatus. - 特許庁
物性の異なる複合材の加工を砥石、サンドペーパー等による研削方法によって可能とする加工方法を提供する。例文帳に追加
To provide a machining method grinding a composite material having different physical properties by a grinding wheel and a sandpaper. - 特許庁
また、動植物性残渣や有機性汚泥等の多様な再利用をテーマとした研究・事業化も進めている。例文帳に追加
The company is also conducting research and pursuing commercialization of the recycling of plant and animal residues and organic sludge. - 経済産業省
基布7の片面に多数の植物性研磨粒子からなる植物性研磨粒子層8を被着してなる摩擦面材2,3間に多孔質弾性体4を挟み込み、摩擦面材2,3の周縁部同士をミシン糸5で縫着して、皮膚摩擦用具1を形成した。例文帳に追加
For forming a skin scrubbing device 1, scrubbing face elements 2 and 3 comprising a foundation 7 whose one surface is covered with a layer 8 of a multitude of vegetable abrasive grains keep a porous elastic element 4 in between, when their peripheries are sewn up with a machine sewing thread 5. - 特許庁
本発明が解決しようとする課題は、高硬度性、機械物性に優れる研磨パッドを形成でき、かつ、適度なポットライフを有する研磨パッド用ウレタン樹脂組成物を提供することである。例文帳に追加
To provide a urethane resin composition for a polishing pad, which can form a polishing pad excellent in high hardness and mechanical properties, and having proper pot life. - 特許庁
超砥粒の物性と欠点を容易に改善し、研削性を損ねることなく,砥石寿命の延命効果を期する超砥粒研削砥石を提供する。例文帳に追加
To provide a super abrasive grain grinding wheel which easily improves the physical properties and demerits of super abrasive grain without degrading grinding capability, and prolongs the service life of the grinding wheel. - 特許庁
ウエハ研磨用リテーニングアセンブリにおけるバッキングフィルムを還元型で寸法や機械的物性を異なって構成することによって、最終研磨段階におけるウエハの平坦度を補正することができる利点がある。例文帳に追加
The backing film in the retaining assembly for polishing a wafer is configured in a reducing type with different dimensions and mechanical/physical properties, so that the flatness of the wafer can be corrected in the final polishing step. - 特許庁
物性の制御が可能な上記の単結晶質合成ダイヤモンド研磨材粒子を出発材料として用い、サブミクロン(1μm未満)の粒度への超微粉砕及び精密分級に供して、粒度分布が極めて狭い単結晶質サブミクロンダイヤモンド研磨材粒子を得ること。例文帳に追加
To obtain single crystal-based submicron diamond abrasive material particles having extremely narrow particle size distribution by using single crystal-based synthetic diamond abrasive material particles enabling control of these physical properties as a starting material and carrying out superfine pulverization and precise classification of these particles to particle size of submicron (>1 μm). - 特許庁
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