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英訳・英語 abrasive


JST科学技術用語日英対訳辞書での「研摩形」の英訳

研摩形


「研摩形」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 62



例文

研摩対象である金属の少なくとも一部を化学反応によって、研摩表面上に有限な大きさの錯体化合物を成させ、低い研摩加重でも十分な研摩速度の得られる脆弱な被研摩面を得る。例文帳に追加

At least a part of a metal to be polished is subjected to chemical reaction to form a complex compound of finite size on the surface to be polished thus obtaining a fragile surface to be polished ensuring a sufficient polishing speed even with a low polishing load. - 特許庁

加工物の溶接ビード研摩装置例文帳に追加

WELDING BEAD ABRASION DEVICE FOR BOX-SHAPE WORK - 特許庁

オービット研摩装置のための自己成工具及びその製造方法例文帳に追加

SELF-FORMING TOOL FOR ORBIT GRINDING DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

研摩槽14内に粒状メディア(研摩媒体)82からなる沈降層83と上澄層84とからなる貯液部86を成する。例文帳に追加

A liquid storage part 86 consisting of a sedimentation layer 83 formed of granular media (polishing media) 82 and a supernatant layer 84 is formed in a polishing tank 14. - 特許庁

基板に成された電極や接点用等の導電体凸部の縁ダレがなく平坦に研摩できる基板研摩方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a substrate polishing method in which a substrate can evenly be polished without edge droops of conductor projections for an electrode, a contact, etc., formed on the substrate. - 特許庁

一本の円筒ヤスリのみで、切る材質に適した丸鋸の刃先の研摩角度の研摩作業が容易に出来る、丸鋸用ヤスリ器具。例文帳に追加

To provide a file apparatus for a circular saw for easily performing polishing work for a polishing angle of an edge of the circular saw suitable for a material to be cut only by a single cylindrical file. - 特許庁

例文

めっき皮膜が成された磁気ディスク用基板の表面に研摩液を供給して研摩するときに使用される研摩布の平滑化用治具において、表面に複数の長孔4a、4bを有する円板で成され、長孔4a、4bは中心6に対して放射状に成される。例文帳に追加

This smoothing jig for the abrasive cloth to be used in grinding the surface of a substrate for a magnetic disk with a plated film formed thereon by feeding an abrasive solution thereto comprises a disk having a plurality of long holes 4a and 4b in the surface thereof, and the long holes 4a and 4b are formed radially with respect to a center thereof. - 特許庁

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クロスランゲージ 37分野専門語辞書での「研摩形」の英訳

研摩形


「研摩形」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 62



例文

研摩用定盤1は円板状の基板3に多数のペレット5を固着して成される。例文帳に追加

This surface plate 1 for polishing is formed by fastening a large number of pellets 5 on a base plate 3. - 特許庁

刃物を使わずに包装フィルムや袋、ビニ−ルテ−プ、紐類で包装された食材や各種日用品の包みを開切する方法として、研摩材の持つ研摩、研削力を利用するため、研摩材を粘結材で粘結するか粘着させた板状成物を成型した。例文帳に追加

A plate-like object with an abrasive adhesively bonded or stuck to utilize the polishing and grinding force of the abrasive is molded as a method for open-cutting a package of food or various daily necessaries packaged with a packaging film, a bag, a vinyl tape or strings without using the cutter. - 特許庁

底部に回転盤2を備えた研摩槽1の内部に、切欠き部を有するワーク(被加工物)とメディア(研磨材)とを投入し、回転盤2の回転により旋回流動させてマスを成し、研摩槽1内壁13に沿って上昇するマスの流動を制御しながら流動バレル研摩を行う。例文帳に追加

The work (a workpiece) having the cutout part and media (a polishing material), are inputted inside a polishing tank 1 having a rotary disk 2 in a bottom part, to perform fluid barrel polishing while controlling a flow of mass lifting along an inner wall 13 of the polishing tank 1 by forming the mass by revolving and flowing by rotation of the rotary disk 2. - 特許庁

研摩液31を供給して被研磨基板21の被研磨面に成した金属層26を研摩する第1の研摩装置1において、研磨液もしくは研摩廃液中に含まれる金属成分量を測定する検出器19として、例えば原子吸収分析装置、電位計、もしくは電流計を備えたものである。例文帳に追加

In a first polishing device 1, that supplies polishing liquid 31 for polishing a metal layer 26 being formed on the surface to be polished of a substrate 21 to be polished, for example, an atomic absorption photometer, an electrometer, or an ammeter is provided as a detector 19 that measures the amount of constituents of metals contained in the polishing liquid or polishing waste liquid. - 特許庁

本発明は、研摩布の回復前の状態(変した状態)で半導体ウエハを研磨することにより、半導体ウエハを高精度の平坦度に鏡面仕上げすることができる研摩装置を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing device for mirror finishing a semiconductor wafer with a highly accurate flatness by polishing the semiconductor wafer in a condition before a polishing cloth is recovered (deformed condition). - 特許庁

研摩後保護膜5が剥離され、研摩によって管状部材本体1の表面に凹面1aと凸面1bが成され、凹面1aは鏡面状となる。例文帳に追加

The protecting films 5 are then peeled to show dent surfaces 1a and protruded surfaces 1b formed on the surface of the tubular member main body 1, and the dent surfaces 1a are specular. - 特許庁

さらに、そのローバー20aの加工面(スライダレールを成した面)を、平滑な研摩定盤23に貼り付けられた研摩布23aでポリッシングする(e)。例文帳に追加

In addition, the machined surface (surface where the slider rail is formed) of the louver 20a is polished by polishing cloth 23a stuck to a smooth polishing surface plate 23 (e). - 特許庁

例文

基板1上に逆台断面の磁性膜6からなる磁極部10を成し、CMP研摩のストッパ膜7で被覆する。例文帳に追加

A magnetic pole part 10 composed of a magnetic film 6 of an inverse trapezoidal cross section is formed on a substrate 1 and covered with a stopper film 7 of CMP (chemical mechanical polishing) polishing. - 特許庁

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「研摩形」の英訳に関連した単語・英語表現

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