研摩布の英語

研摩装置の回転駆動軸に対する装着ボス部から多数の研磨布片を上下方向に合理的な配分で放射状に取り付けて、作業効率よく研摩操作できる研摩ホイールをを提供する。例文帳に追加

To carry out polishing operation favourably in working efficiency by radially installing a large number of polishing cloth pieces in the vertical direction from an installation boss part onto a rotating driving shaft of a polishing device in rational distribution. - 特許庁

ブラシ及びドレッサは、研摩装置本体１１０の上下の回転定盤間でキャリアと同様に運動して、研摩装置本体１１０の上下の回転定盤の対向面に装着された研摩布の清掃及び面ならしをそれぞれ行う。例文帳に追加

The brushes and dressers move in the same way as a carrier between upper and lower rotating surface plates of the grinding device main body 110 to respectively perform cleaning and leveling of abrasive cloth respectively mounted on the opposed surfaces of the upper and lower rotating surface plates of the grinding device main body 110. - 特許庁

めっき皮膜が形成された磁気ディスク用基板の表面に研摩液を供給して研摩するときに使用される研摩布の平滑化用治具において、表面に複数の長孔４ａ、４ｂを有する円板で形成され、長孔４ａ、４ｂは中心６に対して放射状に形成される。例文帳に追加

This smoothing jig for the abrasive cloth to be used in grinding the surface of a substrate for a magnetic disk with a plated film formed thereon by feeding an abrasive solution thereto comprises a disk having a plurality of long holes 4a and 4b in the surface thereof, and the long holes 4a and 4b are formed radially with respect to a center thereof. - 特許庁

本発明は、研摩布の回復前の状態（変形した状態）で半導体ウエハを研磨することにより、半導体ウエハを高精度の平坦度に鏡面仕上げすることができる研摩装置を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing device for mirror finishing a semiconductor wafer with a highly accurate flatness by polishing the semiconductor wafer in a condition before a polishing cloth is recovered (deformed condition). - 特許庁

さらに、そのローバー２０ａの加工面(スライダレールを形成した面)を、平滑な研摩定盤２３に貼り付けられた研摩布２３ａでポリッシングする(ｅ)。例文帳に追加

In addition, the machined surface (surface where the slider rail is formed) of the louver 20a is polished by polishing cloth 23a stuck to a smooth polishing surface plate 23 (e). - 特許庁

前記研摩マット１は複数枚の研摩布１１同士が同一平面に沿って互いに接合されており、前記接合された接合部Ｃにおいて、前記複数枚の研摩布１１は対象物を研摩するための上面を含む上層部が互いに近接ないし接触していると共に接着されておらず、かつ、前記対象物を研摩しない下面を含む下層部においては互いに接着剤Ｔにより突き合わせ接合されていることを特徴とする。例文帳に追加

At the bonding part C, upper layer part of the plurality of polishing cloths 11 including the upper surface for polishing an object are disposed in proximity to each other or touching each other and are not bonded to each other whereas lower layer part including the lower surface not polishing the object are butt boded through adhesive T. - 特許庁

両面研摩装置の上下の回転定盤の対向面に装着された研摩布を面ならしする複数枚のドレッサ７００を、外径が上から下へ段階的に増大する複数の支持ピン１９３により、厚み方向に隙間をあけて支持する支持台１９１を具備する。例文帳に追加

The system is provided with a support block 191 supporting, with a space in the thickness direction, a plurality of dressers 700 leveling polishing clothes mounted on opposed surfaces of upper/lower rotary surface plate in the double-faced polishing device with a plurality of support pins 193 having the outer diameter gradually increased from the upper portion to the lower portion. - 特許庁

少なくとも繊度５dtex以上、初期弾性率６０ｃＮ／dtex以上、捲縮率５％以上のポリビニルアルコール系捲縮繊維を用いてなる不織布又はウエブからなる研摩材用基布を用いる。例文帳に追加

The foundation cloth for an abrasive comprises a nonwoven fabric or web using polyvinyl alcohol crimped staple at least of a fineness of 5 dtex or more, an initial modulus of elasticity of 60 cN/dtex or more and a percentage crimp of 5% or more. - 特許庁