近接スピンの英語

これにより、近接場光により物質中のスピンを励起することが可能であるとともに、ＳＱＵＩＤ４やジョセフソン接合素子７などの磁気検出素子により光励起によって生成されたスピンの作る磁気を検出することが可能となる。例文帳に追加

Spins in a material is thereby excited by near-field light, and the magnetism that is induced by the spins generated by light excitation, is detected by a magnetic detection element such as the SQUID 4 and the Josephson junction device 7. - 特許庁

ウエハＷをほぼ水平に保持して回転するスピンチャック１と、このスピンチャック１に保持されたウエハＷの上面に近接して対向配置される対向部材２と、対向部材２の上面２７２にエッチング液を供給するための上面ノズル３とを備えている。例文帳に追加

This device is provided with a spin chuck 1 which rotates a wafer W while holding it in a substantially horizontal position, a counter member 2 which is close to the upper surface of the wafer W held by the spin chuck 1 and arranged opposite, an upper surface nozzle 3 for supplying the etching liquid to the upper surface 272 of the counter member 2. - 特許庁

ウェハ位置合わせ装置１は、ウェハ１００を近接隔離して保持する保持具３と、クランパ４１〜４３と、クランパ支持部４１１、４２１、４３１と、これらクランパ支持部を半径方向に開閉するチャック４４と、スピンドル４５と、スピンドル回転機構５と、センサ部６を備える。例文帳に追加

A wafer aligning device 1 is equipped with: a holder 3 holding a wafer 100 with an adjoining isolation; clampers 41 to 43; clamper supports 411, 421, 431; a chuck 44 which opens and closes these clamper supports to the radial direction; a spindle 45; a spindle rolling mechanism 5; and a sensor portion 6. - 特許庁

続いて、スピンチャック１０と雰囲気遮断板５０とが近接する状態から、スピンチャック１０および雰囲気遮断板５０との間の距離Ｄが２ｍｍ以上１０ｍｍ以下となるよう、雰囲気遮断板５０が上昇させられる。例文帳に追加

Then the atmosphere blocking plate 50 is elevated in a state wherein the spin chuck 10 and atmosphere blocking plate 50 are close to each other so that the distance between the spin chuck 10 and atmosphere blocking plate 50 is 2 to 10 mm. - 特許庁

スピンドルモータ８が回転すると、遠心力により、移動板２２がクランパ１０の外周側に移動して、鉄板２１は、磁石１８の磁気により、離れ位置から近接位置まで下方に移動する。例文帳に追加

When the spindle motor 8 is rotated, the moving plate 22 moves to the outer peripheral side of the clamper 10, and the iron plate 21 is moved downward from the separate position to the proximate position by magnetism of the magnets 18. - 特許庁

小径でかつ高密度な光ディスク上に設けられた、幅が狭くかつスピンドルモータと近接する位置にあるコントロールトラック領域に、光ビームを高速移送する。例文帳に追加

To move a light beam at high speed to a control track area provided on the optical disk of small diameter and high density, narrowed in the width and positioned proximately with a spindle motor. - 特許庁

こうして、基板Ｗが基板処理位置Ｐ３に位置決めされ、基板Ｗの下面周縁部とスピンベース５の対向面５ｂとが近接状態で対向配置される。例文帳に追加

Consequently, the substrate W is positioned at the substrate processing position P3 and the circumferential edge on the lower surface of the substrate W faces the opposing surface 5b of a spin base 5 under proximate state. - 特許庁

ＳＰＭ流路４１１を流れる高温のＳＰＭは、スピンチャック１に保持されているウエハＷの下面中央に近接した位置に設けられた吐出口４２１からウエハＷの下面に向けて吐出される。例文帳に追加

The high-temperature SPM flowing through the flow passage 411 for SPM is discharged toward the bottom surface of a wafer W held by a spin chuck 1 from a discharge port 421 provided in the vicinity of the center of the bottom surface of the wafer W. - 特許庁