ＨＣｌの英語

RT≤5.0×10^6/(SV×C_HCl) and RT≥6.7 H (wherein RT represents retention time (hour); SV represents superficial velocity (hour^-1); C_HCl represents the concentration of hydrogen chloride (ppm); H represents the height of the moving bed (meter)) in order to remove nitrogen oxides, hydrogen chloride and dioxins.例文帳に追加

ここで、ＲＴ：滞留時間（ｈ）、ＳＶ：空塔速度（ｈ^-1）、Ｃ_HCl：塩化水素濃度（ｐｐｍ）、Ｈ：移動層の高さ（ｍ） - 特許庁

The HCl content in the HCl/Cl_2 mixture gas is preferably 0.1 to 20% in volume.例文帳に追加

前記ＨＣｌ／Ｃｌ_2混合ガス中のＨＣｌ含有量は０．１〜２０体積％であることが好ましい。 - 特許庁

2HClO_3 + HCl → 2ClO_2 + HClO + H_2O.例文帳に追加

２ＨＣｌＯ_３＋ＨＣｌ→２ＣｌＯ_２＋ＨＣｌＯ＋Ｈ_２Ｏ - 特許庁

METHOD FOR SIMULTANEOUSLY REDUCING DIOXINS, HCl, AND SO2例文帳に追加

ダイオキシン類、ＨＣｌ、ＳＯ２を同時に削減する方法 - 特許庁

A reagent HC1 is stored in the reagent pots 4.例文帳に追加

試薬ポット４には試薬HClを貯溜する。 - 特許庁

To provide a method for inexpensively producing high purity HCl gas by dehydrating or decomposing a HCl aq. solution or a chlorine compound with sulfuric acid.例文帳に追加

ＨＣｌ水溶液又は塩素化合物を硫酸にて脱水または分解して、高純度なＨＣｌガスを安価に製造する方法を提供する。 - 特許庁

On the other hand, a diluted HCl solution is introduced into a permeated liquid chamber 25 of the electrodialysis tank 13 from a HCl tank 26.例文帳に追加

一方、電気透析槽１３の透過室２５にはＨＣｌタンク２６から希薄ＨＣｌ液を導入する。 - 特許庁

The thermostable DNA polymerase composition completely free from surfactant contains 10-50 mM Tris/HCl, 0.05-0.2 mM EDTA, 0.5-2 mM DTT, 50-200 mM potassium chloride, and 20-80% glycerol.例文帳に追加

界面活性剤を全く含まず、10〜50mM Tris/HCl、0.05〜0.2mM EDTA、0.5〜2mM DTT、50〜200mM塩化カリウム、および20〜80%グリセロールを含む、熱安定性DNAポリメラーゼの配合物。 - 特許庁