CD-SEMとは 意味・読み方・使い方

A method of matching a CD-SEM is disclosed to secure the consistent measured results over the whole installation base of a SEM, and the feature sizes of the features in a resist are measured in at least two points on the substrate to restrain efficiently fluctuation in the every field, and nonuniformity in a reticle and an exposure tool, in a matching result.例文帳に追加

ＳＥＭの据付基部全体にわたる一貫した測定結果を保証するためにＣＤ−ＳＥＭをマッチする方法が開示され、フィールドごとの変動並びにレチクル及び露光ツールの非画一性がマッチング結果において効率よく抑制されるように、基板上の少なくとも２つの位置でレジストのフィーチャのフィーチャ・サイズを複数の走査電子顕微鏡のそれぞれを用いて測定する。 - 特許庁

To provide an image data analysis device with which image processing conditions (threshold value or the like) enabling desired pattern edges with good reproductivity can be easily obtained by using image data obtained by using a scanning type microscope (CD-SEM) even if the patterns change structures in a height direction.例文帳に追加

高さ方向で構造が変化するようなパターンであっても、走査型顕微鏡（ＣＤ−ＳＥＭ）を用いて取得した画像データを用いて所望のパターンエッジが再現性よく決定できる画像処理条件（閾値等）を、簡便に得ることのできる画像データ解析装置を提供する。 - 特許庁

On measuring length of the resist film having the above pattern formed thereon by using a CD-SEM (critical dimension scanning electron microscope), first an objective chip region 11a for length measurement is designated among a plurality of chip regions, and the position of the length measurement pattern 13a placed in the left side is identified.例文帳に追加

このようなパターンの形成が行われたレジスト膜に対して、ＣＤ−ＳＥＭを用いて測長を行う場合には、複数のチップ領域のうちから測長対象チップ領域１１ａを指定した後、その左方に位置する測長パターン１３ａの位置を特定する。 - 特許庁

To provide an electron source which is used for a semiconductor wafer inspection device such as a scanning or transmission electron microscope, a surface analyzer like an Auger electron spectroscopic analyzer, an electron beam exposure apparatus, especially a scanning electron microscope using an electron beam accelerated with low voltage of 1 kV or less, a CD SEM, or a DRSEM.例文帳に追加

走査型又は透過型電子顕微鏡、オージェ電子分光装置等の表面分析装置、電子線露光機、特に、電子ビームの加速電圧が１ｋＶ以下の低加速で用いられる走査型電子顕微鏡、ＣＤ ＳＥＭ、ＤＲＳＥＭ等の半導体ウェハ検査装置に用いられる電子源を提供する。 - 特許庁

To provide an electron source used for a scanning or transmission electron microscope, a surface analyzer such as an Auger electron spectroscope, an electron beam exposure machine, in particular, a scanning electron microscope used at low acceleration where an acceleration voltage of an electron beam is not higer than 1kV, or a semiconductor wafer inspection device such as a CD SEM or a DRSEM.例文帳に追加

走査型又は透過型電子顕微鏡、オージェ電子分光装置等の表面分析装置、電子線露光機、特に、電子ビームの加速電圧が１ｋＶ以下の低加速で用いられる走査型電子顕微鏡、ＣＤ ＳＥＭ、ＤＲＳＥＭ等の半導体ウェハ検査装置に用いられる電子源を提供する。 - 特許庁

To provide a resist pattern measuring method capable of determining automatically and measuring correctly a remaining part (line pattern) and a cut-out part (space pattern) as to a measuring-objective pattern in an image, and capable of measuring a true resist pattern corrected in a shrinkage amount, when measuring a resist pattern by a CD-SEM.例文帳に追加

ＣＤ−ＳＥＭによるレジストパターンの測定において、画像中の測定対象パターンが残し部（Ｌｉｎｅパターン）と抜き部（Ｓｐａｃｅパターン）を自動的に判定して正しく測定すると共に、レジストのシュリンク量を補正した真のレジストパターン寸法を測定することを可能にするレジストパターン測定方法及びレジストパターン測定装置を提供する。 - 特許庁