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DIW at aとは 意味・読み方・使い方
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Wiktionary英語版での「DIW at a」の意味 |
diwata
語源
Borrowed from Cebuano diwata[1][2][3][4], from Proto-Visayan *diwata, from Malay dewata, from Sanskrit देवता (devatā, “god, deity”).
名詞
diwata (複数形 diwatas)
参照
- ^ Kroeber, A.L. (1918), “The History of Philippine Civilization as Reflected in Religious Nomenclature”, in Anthropological Papers of the American Museum of Natural History, volume XIX, issue II, American Museum of Natural History: “Diwata, devata, dewatu, dewa, etc., gods or spirits generically. Bisaya, Subanun, Mandaya, Bagobo, Tirurai, Magindanao, Manobo, Tagbanua, Batak.”
- ^ Potet, Jean-Paul G. (25 May 2019) Ancient Beliefs and Customs of the Tagalogs[1], page 268: “This term was borrowed from Visayan in modern times. It is not entered in old Tagalog dictionaies. Its interpretation as a Spanish feminine one because of its final /a/ is typical of 20th-century misunderstandings.”
- ^ Hislop, Stephen K. (1971), “Anitism: A Survey of Religious Beliefs Native to the Philippines”, in Asian Studies[2], volume 9, issue 2, archived from the original on 2018-07-07, page 146: “With the Bisayans, the word is the equivalent of Tagalog anito.”
- ^ Guillermo, Artemio R. (2012) Historical Dictionary of the Philippines[3], Third edition, Scarecrow Press, page 140: “In ancient Filipino culture, the diwata or anito was the dominant concept in the religion. The anito concept was pervasive in Luzon, while the diwata prevailed in the Visayas and Mindanao.”
「DIW at a」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 12件
At this time, a mixture gas of a nitrogen gas (cooling gas) having a temperature lower than the freezing point of the DIW and a high humidity nitrogen gas (high humidity gas) containing vapor or minute droplets of the DIW is sprayed to the DIW.例文帳に追加
このとき、ＤＩＷの凝固点よりも低温の窒素ガス（冷却ガス）と、ＤＩＷの蒸気または微小な液滴を含む高湿度の窒素ガス（高湿度ガス）との混合気体をＤＩＷに吹き付ける。 - 特許庁
The temperature control section 623 cools DIW at a temperature lower than a usual temperature.例文帳に追加
温度調整部６２３は、ＤＩＷを常温より低い温度に冷却する。 - 特許庁
Deionized water (DIW) supplied via a liquid discharge tube 32 at a discharge section 31 and a nitrogen gas supplied via a gas inlet tube 37 are mixed, and DIW droplets are discharged toward the object to be destaticized.例文帳に追加
吐出部３１において液吐出管３２を介して供給されるＤＩＷとガス導入管３７を介して供給される窒素ガスとが混合され、ＤＩＷの液滴が被除電対象物に向けて吐出される。 - 特許庁
A plurality of DIW channels 19 and nitrogen gas channels 20 are formed inside the nozzle body 16, and these DIW channels 19 and nitrogen gas channels 20 are open as a slit-like DIW discharge port 21 and a nitrogen gas discharge port 22 which respectively extend in a longitudinal direction X1 of the two-fluid nozzle 3 at the lower end of the nozzle body 16.例文帳に追加
ノズル本体１６の内部には、複数のＤＩＷ流路１９および窒素ガス流路２０が形成されており、各ＤＩＷ流路１９および窒素ガス流路２０は、ノズル本体１６の下端で、それぞれ二流体ノズル３の長手方向Ｘ１に延びるスリット状のＤＩＷ吐出口２１および窒素ガス吐出口２２として開口している。 - 特許庁
A liquid film removed region T from which the liquid film is removed is formed at a periphery of the surface by supplying nitrogen gas from a gas nozzle 4 while supplying DIW from a treating liquid nozzle 3 onto the surface of a wafer W on which the liquid film of DIW is formed (Fig. 4 (b)).例文帳に追加
ＤＩＷの液膜が形成されたウエハＷの表面に、処理液ノズル３からＤＩＷを供給させつつ、ガスノズル４から窒素ガスを供給させて、前記表面の周縁に、前記液膜除去された液膜除去領域Ｔを形成させる（図４（ｂ））。 - 特許庁
A liquid film removed region T from which the liquid film is removed is formed at a periphery of the surface by supplying nitrogen gas from a gas nozzle 4 while supplying DIW from a treating liquid nozzle 3 onto the surface of a wafer W on which the liquid film of DIW is formed (Fig. 4 (b)).例文帳に追加
ＤＩＷの液膜が形成されたウエハＷの表面に、処理液ノズル３からＤＩＷを供給させつつ、ガスノズル４から窒素ガスを供給させて、前記表面の周縁に、前記液膜が除去された液膜除去領域Ｔを形成させる（図４（ｂ））。 - 特許庁
Further, before the formation of the liquid films, by performing slow leak treatment, cooled DIW is made to flow out from piping 621A at a fine flow rate smaller than the flow rate upon liquid film formation, and the cooled DIW is circulated inside the piping 621A.例文帳に追加
また、液膜形成前において、スローリーク処理を実行することで液膜形成時の流量よりも小さな微小流量で冷却ＤＩＷを配管６２１Ａから流出させて配管６２１Ａ内に冷却ＤＩＷを流通させる。 - 特許庁
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「DIW at a」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 12件
Namely, the hot water is supplied to the central part of the surface of the wafer W from a DIW nozzle 4 while the wafer W is rotated at a speed of of 300-1,500 rpm by means of a spin chuck 1.例文帳に追加
すなわち、スピンチャック１によってウエハＷが３００〜１５００ｒｐｍの回転速度で回転される一方で、その回転中のウエハＷの表面の中央部にＤＩＷノズル４から温水が供給される。 - 特許庁
Further, a DIW cooled at such a temperature that the lower frozen film 13f is not molten is supplied to the surface of the lower frozen film 13f to form an upper liquid film 12f, and the formed film is frozen to form upper frozen films 14f laminated.例文帳に追加
さらに、下層凍結膜１３ｆの表面に向けて、下層凍結膜１３ｆが融解しない温度に冷却されたＤＩＷを供給して上層液膜１２ｆを形成し、これを凍結して上層凍結膜１４ｆを積層形成する。 - 特許庁
While a plate 1 is arranged close to and facing the surface of a substrate W, treatment liquids (hydrofluoric acid and DIW) are sequentially supplied from a plurality of discharge openings formed at the counter surface 8 of the plate 1, and the treatment liquids discharged from the discharge openings are sucked through a sucking opening formed at the counter surface 8.例文帳に追加
基板Ｗの表面にプレート１を近接して対向配置させた状態で、プレート１の対向面８に形成された複数の吐出口から処理液（フッ酸およびＤＩＷ）を順次供給するとともに、各吐出口から吐出された処理液を、対向面８に形成された吸引口から吸引させる。 - 特許庁
Then, with the liquid film removed region T disposed at the central section, DIW is being removed from the surface while expanding the liquid film removed region T by rotating a wafer W acceleratingly up to a predetermined high rotational speed and moving the supplying position of nitrogen gas towards the periphery (Fig. 4 (d)).例文帳に追加
そして、液膜除去領域Ｔが前記中心部に配置された状態で、ウエハＷを所定の高回転速度まで加速回転させるとともに、前記窒素ガスの供給位置を前記周縁に向けて移動させることにより、液膜除去領域Ｔを拡大させつつＤＩＷを前記表面から排除していく（図４（ｄ））。 - 特許庁
Then, with the liquid film removed region T disposed at the central section, DIW is being removed from the surface while expanding the liquid film removed region T by rotating the wafer W acceleratingly up to a predetermined high rotational speed and moving the supplying position of the nitrogen gas towards the periphery (Fig. 4 (d)).例文帳に追加
そして、液膜除去領域Ｔが前記中心部に配置された状態で、ウエハＷを所定の高回転速度まで加速回転させるとともに、前記窒素ガスの供給位置を前記周縁に向けて移動させることにより、液膜除去領域Ｔを拡大させつつＤＩＷを前記表面から排除していく（図４（ｄ））。 - 特許庁
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