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GaAsPとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 ガリウム砒素リン
「GaAsP」を含む例文一覧
該当件数 : 13件
The GaAsP activity layer 5 is a layer which performs luminescence.例文帳に追加
GaAsP活性層5は、発光を行う層である。 - 特許庁
The InGaP guide layers 4 and 6 pinch the GaAsP activity layer 5.例文帳に追加
InGaPガイド層4,6は、GaAsP活性層5を挟持している。 - 特許庁
An n-type GaAsP composition gradient layer 2 and an n-type GaAsP composition uniform layer 3 are formed in order on an n-type GaAs substrate 1 by an epitaxial growth.例文帳に追加
n−GaAs基板1上に、エピタキシャル成長によりn−GaAsP組成勾配層2とn−GaAsP組成均一層3を順次形成する。 - 特許庁
In this semiconductor laser element, an InGaAs/GaAsP superlattice layer of a distortion compensation structure is provided between a GaAs substrate and an underlying clad layer.例文帳に追加
半導体レーザ素子のGaAs基板と下部クラッド層との間に、歪補償構造のInGaAs/GaAsP超格子層を挿入する。 - 特許庁
To provide a semiconductor light emitting element which can reduce an operating voltage when the semiconductor light emitting element is constituted on an n-type GaAsP epitaxial substrate.例文帳に追加
n型GaAsPエピ基板上に半導体発光素子を構成するときに、動作電圧を低減させることの可能な半導体発光素子を提供する。 - 特許庁
The semiconductor laser apparatus 100 includes a GaAsP activity layer 5, InGaP guide layers 4 and 6, and AlGaInP cladding layers 3 and 7.例文帳に追加
本発明の一実施例に係る半導体レーザ装置100は、GaAsP活性層5、InGaPガイド層4,6、およびAlGaInPクラッド層3,7を備えている。 - 特許庁
The semiconductor light-receiving element 1a comprises an InP substrate 4, an In GaAsP semiconductor layer 16, a III-V compound semiconductor light-absorbing layer 18 and an InGaAsP semiconductor layer 20.例文帳に追加
半導体受光素子1aは、InP基板4と、InGaAsP半導体層16と、III−V族化合物半導体光吸収層18と、InGaAsP半導体層20と、を備える。 - 特許庁
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「GaAsP」を含む例文一覧
該当件数 : 13件
The semiconductor film made of any of an AlGaInP film, an AlGaAs film and a GaAsP film is etched by using the etchant composition to roughen the surface.例文帳に追加
本発明のエッチング液組成物を用いて、AlGaInP膜、AlGaAs膜、GaAsP膜のいずれか半導体膜をエッチングし、表面を粗面化する。 - 特許庁
Between a base layer comprising GaAs and an emitter layer comprising InGaP, a layer comprising one out of InAs, InGaAs, InAsP, GaAsP or AlGaAs that has a thickness of 2-3 nm is formed.例文帳に追加
GaAsより成るベース層とInGaPより成るエミッタ層との間にInAs、InGaAs、InAsP、GaAsP、AlGaAsの何れか一つの層を厚さ2から3nm形成したことにある。 - 特許庁
Immediately after stacking a barrier layer composed of GaAsP for a multiple distortion quantum well active layer 105 at a growth temperature of 650°C, a 2nd upper guide layer 126 composed of AlGaAs is stacked.例文帳に追加
650℃の成長温度で、多重歪量子井戸活性層105のGaAsPからなるバリア層を積層した直後に、AlGaAsからなる第二上ガイド層126を積層する。 - 特許庁
The lattice constants of the In GaAsP semiconductor layers 16, 20 are larger than the lattice constant of the InP substrate 4, and smaller than that of the group III-V compound semiconductor light-absorbing layer 18.例文帳に追加
InGaAsP半導体層16、20の格子定数はInP基板4の格子定数より大きく、また、InGaAsP半導体層16、20の格子定数はIII−V族化合物半導体光吸収層18の格子定数より小さい。 - 特許庁
In an LED array for LED printing head, Zn diffusing areas 12 are arranged on the surface of a GaAsP substrate 10 in an array form and LEDs which use the p-n junctions between the substrate 10 and areas 12 as light emitting sections are formed.例文帳に追加
LEDプリントヘッド用のLEDアレイにおいては、GaAsP基板10表面にZn拡散領域12がアレイ状に配置され、GaAsP基板10とZn拡散領域12とのpn接合部を発光部とするLEDが形成されている。 - 特許庁
An active layer 5 with an InGaAsP compression distortion, two InGaAsP light waveguide layers 3 and 7, and two GaAsP barrier layers 4 and 6 with pull distortions with a larger band gap than the two light waveguide layers are provided on a GaAs substrate 1, thus enabling compression distortion and pull distortion to be completely compensate for each other or enabling the pull distortion to be slightly larger.例文帳に追加
GaAs基板1上に、InGaAsP系の圧縮歪を有する活性層5と、InGaAsP系の2つの光導波層3および7、および2つの光導波層よりバンドギャップの大きいGaAsP系の2つの引っ張り歪を有する障壁層4および6を設け、圧縮歪と引っ張り歪は互いに完全に補償されるかあるいはやや引っ張り歪が大きい程度とする。 - 特許庁
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