Hydrobromic Acidとは 意味・読み方・使い方

Wet etching by the mixed liquid of hydrobromic acid and bromine and water within a range of hydrobromic-acid concentration of 0.50±0.25 mol/l and bromine concentration of 0.02±0.01 mol/l is used for removing the damaged layer of a mesa which is formed through dry etching.例文帳に追加

ドライエッチングにより形成したメサの損傷層除去に、臭化水素酸濃度０．５０±０．２５モル／リットル、臭素濃度０．０２±０．０１モル／リットルの範囲の臭化水素酸と臭素と水の混合液によるウェットエッチングを用いる。 - 特許庁

The acid for the acid adduct salts or their hydrates of 3-(2-cyanophenyl)-5-(2-pyridyl)-1-phenyl-1,2-dihydropyridin-2-one is selected from the group consisting of benzenesulfonic acid, p-toluene sulfonic acid, hydrochloric acid, hydrobromic acid and sulfuric acid.例文帳に追加

３−（２−シアノフェニル）−５−（２−ピリジル）−１−フェニル−１，２−ジヒドロピリジン−２−オンの酸付加塩またはその水和物であって、当該酸がベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸および硫酸からなる群から選ばれる、酸付加塩またはその水和物。 - 特許庁

The alkyl bromides and hydrobromic acid are then reacted over a synthetic crystalline alumino-silicate catalyst, such as a ZSM-5 zeolite, at a temperature of from about 150°C to about 450°C so as to form higher molecular weight hydrocarbons and hydrobromic acid vapor.例文帳に追加

次いで、ＺＳＭ−５ゼオライト等の合成結晶性アルミノケイ酸塩触媒上で、約１５０℃から約４５０℃の温度で、より高分子量の炭化水素及び臭化水素酸気体を形成するように臭化アルキルと臭化水素酸を反応させる。 - 特許庁

The cleaning liquid for removing the cerium oxide is configured including at least one acid selected from a group comprising hydrogen fluoride, hydrochloric acid, nitric acid, sulphuric acid, acetic acid, phosphorous acid, iodin acid and hydrobromic acid, and water, and dissolves and removes the cerium oxide as the cerium ion.例文帳に追加

本発明に係る洗浄液は、酸化セリウムを除去する洗浄液であって、フッ化水素と、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸、リン酸、ヨウ素酸及び臭化水素酸からなる群より選択される少なくとも何れか１種の酸と、水とが含み構成され、前記酸化セリウムをセリウムイオンとして溶解させて除去することを特徴とする。 - 特許庁

Specifically, it is found out that crystal escitalopramhydrobromide is formed by using gaseous hydrobromic acid under an anhydrous condition.例文帳に追加

具体的には、無水条件下、気体の臭化水素酸を用いることで、結晶の臭化水素酸エスシタロプラムを形成できることを見出した。 - 特許庁

The method for producing the aromatic polycarboxylic acid such as the trimellitic acid and the pyromellitic acid by subjecting the polyalkylbenzene or the polyalkyl-substituted aromatic aldehyde in water solvent to the liquid-phase oxidation in the presence of a catalytic component containing hydrobromic acid and manganese bromide.例文帳に追加

ポリアルキルベンゼンまたはポリアルキル置換芳香族アルデヒドを水溶媒中、臭化水素酸、臭化マンガンを含有する触媒成分の存在下、液相酸化してトリメリット酸またはピロメリット酸などの芳香族ポリカルボン酸を製造する。 - 特許庁

Meanwhile, the prior document D1 also disclosed that “The phenoxyacetic acid derivatives represented by the above general formula (I) of the present invention can be converted into their pharmaceutically acceptable salts in the usual way. Examples of such salts include acid addition salts formed with mineral acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, hydroiodic acid, sulfuric acid, nitric acid and phosphoric acid; …….”発音を聞く 例文帳に追加

また、先行文献D1は、「本発明の前記一般式（I）で表わされるフェノキシ酢酸誘導体は、常法に従いその薬理学的に許容される塩とすることができる。このような塩としては塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸との酸付加塩…を挙げることができる」ことも開示している。 - 特許庁

The rugged structure is formed by anisotropic etching using an aqueous solution containing hydrobromic acid as an etchant, without relying on a mask forming process.例文帳に追加

凹凸構造は臭化水素酸を含む水溶液をエッチャントとして用い、マスクを形成する工程を用いることなく異方性エッチングにより形成する。 - 特許庁