Isolated Defectとは 意味・読み方・使い方

The circuit design of a product mask is analyzed, and a conventional test defect structure is modified in such a manner as to simulate the product mask and incorporate one or more isolated features or other features including product mask circuit features with high possibility of causing processing image induced defects into the test defect structure.例文帳に追加

製品マスクの回路設計を分析するとともに、製品マスクを模擬して、プロセス画像誘起欠陥を引き起こす可能性が高い製品マスク回路フィーチャを含む、１つ以上の分離したフィーチャまたは他のフィーチャを検査欠陥構造に組み込むように、従来の検査欠陥構造を変更する。 - 特許庁

In the method of correcting a photomask defect, after making an electrical continuity in an isolated pattern by a metal deposition film 7 by use of an electron beam or a helium ion beam generating from a gas field ion source, the defect 3 is corrected; and after the correction, the metal deposition film 7 is physically removed by an AFM (atomic force microscope) scratch working probe 9.例文帳に追加

電子ビームまたはガスフィールドイオン源から発生するヘリウムイオンビームを用いた金属デポジション膜7で孤立したパターンに導通を作ってから欠陥3を修正し、修正後金属デポジション膜7をAFMスクラッチ加工探針9で物理的に除去する。 - 特許庁

To solve problems resulting from charge-up upon correcting a defect in an isolated pattern with an electron beam or a helium ion beam generating from a gas field ion source.例文帳に追加

電子ビームまたはガスフィールドイオン源から発生するヘリウムイオンビームで孤立パターンの欠陥を修正するときのチャージアップに起因する問題点を解決する。 - 特許庁

After an aerial wiring 7 of a metal deposited film is by focused ion beam (FIB) CVD formed between isolated patterns and electrically conducted to eliminate the influences due to charge-up, a defect 3 is corrected.例文帳に追加

孤立したパターン間に集束イオンビームCVD金属デポジション膜空中配線7を形成して導通させチャージアップの影響を無くしてから欠陥3を修正する。 - 特許庁

The defect net is electrically isolated from an electric correction structure by the use of laser, and a post-burning circuit is formed on and in the substrate.例文帳に追加

レーザを使用して、電気的修正構造から欠陥ネットを電気的に分離し、これに続いて、基板上および基板内に後焼成回路を形成する。 - 特許庁

To provide a carrier for electrostatic charge image development capable of reducing a defect in picture quality caused by deposition of an isolated resin powder included in a resin coated carrier onto a charging member or the like.例文帳に追加

樹脂被覆キャリア中に含まれる遊離樹脂粉が帯電部材等へ付着することにより発生する画質欠陥を低減することができる静電荷像現像用キャリアを提供する。 - 特許庁

Prior to defect correction of the isolated pattern 4, a conductive coil spring 3 is formed at a tip of a conductive probe 1 by a focused ion beam-induced chemical vapor-grown metal film, and the probe is conducted with the isolated pattern 4 while reducing the contact pressure with a mask pattern by the coil spring 3 to prevent the charge-up.例文帳に追加

導電性プローブ1の先端に集束イオンビーム誘起化学気相成長金属膜で導電性のコイルバネ3を形成し、コイルバネ3によりマスクパターンとの接触圧を緩和して孤立したパターン4との導通を取り、チャージアップが起こらないようにしてから集束イオンビーム7で欠陥修正を行う。 - 特許庁

To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition that excels in roughness property, exposure latitude, depth of focus and development defect performance and that allows to form a fine isolated space pattern of favorable shape, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立スペースパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁