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Isolated Defectの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 26件
CORRECTION METHOD OF ISOLATED BLACK DEFECT OF PHOTOMASK AND ITS DEVICE例文帳に追加
フォトマスクの孤立した黒欠陥修正方法およびその装置 - 特許庁
The sacrificial anode 7, together with the defect 2, is isolated from the outer environment.例文帳に追加
犠牲アノード7はき裂状欠陥2とともに外部環境から隔離される。 - 特許庁
Thus, the noble metal material and the crack defect are isolated from an external environment.例文帳に追加
このようにして該貴金属材料体及び該亀裂状欠陥を外部環境から隔離する。 - 特許庁
To enable a highly accurate and high quality defect correction of an isolated fine pattern and an OPC pattern which is hardly observed by an ion beam defect correcting device because of charge-up.例文帳に追加
チャージアップのためにイオンビーム欠陥修正装置で観察しにくい微細化な孤立したパターンやOPCパターンの高精度かつ高品位な欠陥修正を可能にする。 - 特許庁
To provide a defect inspection device inspecting, in particular a defect of a magnetic recording medium where isolated magnetic dots are formed, relating to a recording device recording and playing back information by magnetism.例文帳に追加
磁気により情報を記録・再生する記録装置に関し、とくに孤立した磁性ドットを形成した磁気記録媒体の欠陥を検査する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
To efficiently suppress charge-up of an isolated pattern without damaging the pattern in photomask defect correction using charged particle beam.例文帳に追加
荷電粒子ビームを用いたフォトマスク欠陥修正において、孤立パターンのチャージアップを、パターンを傷つけることなく、効率よく抑止する。 - 特許庁
The detected image which is defective is expanded by a specific number of pixels and further contracted to connect defects and erase an isolated defect.例文帳に追加
欠陥した検出画像を所定画素数膨張させ、更に縮小させることによって欠陥の連結,孤立欠陥の消去を行う。 - 特許庁
The defect net is electrically isolated from an electric correction structure by the use of laser, and a post-burning circuit is formed on and in the substrate.例文帳に追加
レーザを使用して、電気的修正構造から欠陥ネットを電気的に分離し、これに続いて、基板上および基板内に後焼成回路を形成する。 - 特許庁
To solve problems resulting from charge-up upon correcting a defect in an isolated pattern with an electron beam or a helium ion beam generating from a gas field ion source.例文帳に追加
電子ビームまたはガスフィールドイオン源から発生するヘリウムイオンビームで孤立パターンの欠陥を修正するときのチャージアップに起因する問題点を解決する。 - 特許庁
In the method of correcting a photomask defect, after making an electrical continuity in an isolated pattern by a metal deposition film 7 by use of an electron beam or a helium ion beam generating from a gas field ion source, the defect 3 is corrected; and after the correction, the metal deposition film 7 is physically removed by an AFM (atomic force microscope) scratch working probe 9.例文帳に追加
電子ビームまたはガスフィールドイオン源から発生するヘリウムイオンビームを用いた金属デポジション膜7で孤立したパターンに導通を作ってから欠陥3を修正し、修正後金属デポジション膜7をAFMスクラッチ加工探針9で物理的に除去する。 - 特許庁
To provide a carrier for electrostatic charge image development capable of reducing a defect in picture quality caused by deposition of an isolated resin powder included in a resin coated carrier onto a charging member or the like.例文帳に追加
樹脂被覆キャリア中に含まれる遊離樹脂粉が帯電部材等へ付着することにより発生する画質欠陥を低減することができる静電荷像現像用キャリアを提供する。 - 特許庁
Prior to defect correction of the isolated pattern 4, a conductive coil spring 3 is formed at a tip of a conductive probe 1 by a focused ion beam-induced chemical vapor-grown metal film, and the probe is conducted with the isolated pattern 4 while reducing the contact pressure with a mask pattern by the coil spring 3 to prevent the charge-up.例文帳に追加
導電性プローブ1の先端に集束イオンビーム誘起化学気相成長金属膜で導電性のコイルバネ3を形成し、コイルバネ3によりマスクパターンとの接触圧を緩和して孤立したパターン4との導通を取り、チャージアップが起こらないようにしてから集束イオンビーム7で欠陥修正を行う。 - 特許庁
The circuit design of a product mask is analyzed, and a conventional test defect structure is modified in such a manner as to simulate the product mask and incorporate one or more isolated features or other features including product mask circuit features with high possibility of causing processing image induced defects into the test defect structure.例文帳に追加
製品マスクの回路設計を分析するとともに、製品マスクを模擬して、プロセス画像誘起欠陥を引き起こす可能性が高い製品マスク回路フィーチャを含む、1つ以上の分離したフィーチャまたは他のフィーチャを検査欠陥構造に組み込むように、従来の検査欠陥構造を変更する。 - 特許庁
To prevent occurrence of a side lobe and occurrence of a resist defect even when an enhancer mask with which both of a fine isolated contact pattern and a dense contact pattern can be simultaneously formed is provided with an accessory pattern or the like comprising a large aperture.例文帳に追加
微細な孤立コンタクトパターン及び密集コンタクトパターンの同時形成が可能なエンハンサマスクに大開口部からなるアクセサリパターン等を設けている場合にも、サイドローブの発生及びレジスト欠陥の発生を同時に防止できるようにする。 - 特許庁
To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition that excels in roughness property, exposure latitude, depth of focus and development defect performance and that allows to form a fine isolated line pattern of favorable shape, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加
ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立ラインパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition that excels in roughness property, exposure latitude, depth of focus and development defect performance and that allows to form a fine isolated space pattern of favorable shape, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加
ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立スペースパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
When there is a defect in any of the equipment side and terminal connection side after terminal connection processing, the flexible wiring board 1 after peel processing is cut off along the cut off space 6, and part of the board side connection terminal 5 is isolated from the flexible wiring board 1 after peel processing.例文帳に追加
端子接続処理後の機器側および端子接続側のいずれかに不良がある場合に、剥離処理後のフレキシブル配線基板1を切断スペース6に沿って切断して、剥離処理後のフレキシブル配線基板1から基板側接続端子5の部分を切り離す。 - 特許庁
To provide a resist material which can make the gradient of dissolution of a positive or negative resist smaller than that of a resist for a repetitive pattern so as to ensure wide margins for focusing and exposure for an isolated left pattern with the positive or negative resist and does not cause the lowering of a margin for PEB temperature as a conventional defect.例文帳に追加
孤立残しパターンをポジあるいはネガレジストを用いて、広いフォーカスや露光のマージンを確保するために、レジストの溶解の傾きを繰り返しパターン用レジストより小さくすることができるとともに、従来の欠点であるPEB温度マージンの低下を生じないジスト材料を提供する。 - 特許庁
To obtain a small-sized, inexpensive and high resolution color image pickup by preventing the occurrence of a color Moire pattern caused by a periodic color coding arrangement and, at the same time, to substantially prevent the occurrence of resolution deterioration even when an isolated pixel defect exists.例文帳に追加
周期的色コーディング配列に伴う色モアレの発生等の問題を本質的に解決し、小型低コストで高解像度を確保すると共に、孤立的画素欠陥が存在しても解像度の劣化が実質的に生じさせないカラー撮像の可能なカラー撮像素子及びカラー撮像装置を提供する。 - 特許庁
When a disk area on a fixed disk device used by a file using an application program is damaged physically, the file brought into an abnormal termination by a file operation to the disk area is renamed to express clearly the abnormal termination, and the area including the defect sector is isolated.例文帳に追加
本発明は、アプリケーションプログラムを使用しているファイルが使用する固定ディスク装置上のディスク領域が物理的に破損した場合、ディスク領域のファイル操作で異常終了したファイルを異常終了したことが明示できるファイル名に変更し、不良セクタを含む領域を隔離することを特徴とする。 - 特許庁
As a measuring priciple, the coupling efficiency at the grating which is unequvocally decided by an optical constant of an inspection apparatus, a mask physical property, a mask structure and the shape of the grating is measured, the shape of the grating, a duty especially in a very small grating part and a line width of an isolated line are measured, and a defect is inspected.例文帳に追加
測定原理としては、検査装置の光学定数、マスク物性、マスク構造、グレーティング形状によって一意に定まる、グレーティングでのカップリング効率を測定することで、グレーティングの形状、特に微小グレーティング部のデューティーや、孤立線の線幅、ピンホール径について測定、欠陥の検査を行う。 - 特許庁
After an aerial wiring of a metal deposited film is formed by FIB-CVD in an X direction and a Y direction on an isolated pattern to eliminate the influences due to charge-up, the aerial wiring of the metal deposited film in the X and Y directions is used as a marker for correcting the drift during fabrication, and a defect is corrected, while the drift is corrected.例文帳に追加
孤立したパターンにX方向及びY方向にFIB-CVDで金属デポジション膜空中配線を形成してチャージアップの影響を無くした状態で、X方向及びY方向の金属デポジション膜空中配線を加工時のドリフト補正のマーカーとして使用し、ドリフト補正を行いながら欠陥を修正する。 - 特許庁
To provide a color image pickup element and device for substantially solving the problem of generating color moire fringes caused by periodic color coding array, for substantially preventing the generation of the deterioration of resolution even when any isolated pixel defect exists, for ensuring miniaturization, low costs and color image pickup with high resolution, and for sharply improving an image pickup dynamic range.例文帳に追加
周期的色コーディング配列に伴う色モアレの発生等の問題を本質的に解決し、同時に孤立的画素欠陥が存在しても解像度の劣化を実質的に生じさせず、小型低コストで高解像度のカラー撮像が可能で、且つ撮像ダイナミックレンジを飛躍的に向上させることができるカラー撮像素子及びカラー撮像装置を提供する。 - 特許庁
To provide a color image pickup element and a device for substantially solving the problem of generating color moire fringes caused by a periodic color coding array, for ensuring miniaturization, low costs and high resolution, for substantially preventing generation of deteriorated resolution even when any isolated pixel defect exists, for relatively increasing the degree of freedom of the array of the color coding array, and for obtaining a high random effect.例文帳に追加
周期的色コーディング配列に伴う色モアレの発生等の問題を本質的に解決し、小型低コストで高解像度を確保すると共に、孤立的画素欠陥が存在しても解像度の劣化が実質的に生じさせず、且つ色コーディング配列の配列自由度が比較的高く、高いランダム効果が得られるカラー撮像素子及びカラー撮像装置を提供する。 - 特許庁
Therefore, in each pixel region, the reflecting film is provided in the insulating layer in an island shape so as to be separated from adjacent reflecting films and isolated form circumferential reflecting film, thereby limiting influences to only the pixel region even if the color filter layer has a defect such as a pinhole or conductive foreign matter such as metal is mixed to electrically connect the reflecting film and transparent electrode to each other.例文帳に追加
よって、各画素領域内において、反射膜は、絶縁層中に島状に設けられることになり、周囲の反射膜とは離隔されることになり、カラーフィルタ層にピンホールなどの欠陥が存在したり、金属などの導電性の異物が混入し、反射膜と透明電極との間が電気的に導通した場合でも、その影響は当該画素領域のみに抑制することができる。 - 特許庁
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