NONDENSEとは 意味・読み方・使い方

Horizontal members 6 corresponding to horizontal skeletons of the bamboo blind are bound to vertical members of strings or yarns in prescribed intervals by intersection-fixing members 7 to provide the supply material for assisting growth of morning glory having a structure similar to the bamboo blind in which intervals of vertical and horizontal members are made nondense.例文帳に追加

そして、紐や糸状の縦部材に、簾の横骨に相当する横部材６を所定間隔で、交点固定部材７によって結束して、縦と横の部材の間隔を疎にした、簾に似た構造の朝顔の生育補助用品を得る。 - 特許庁

In this semiconductor device, portions of each layer to be originally nondense are provided with dummy patterns 4c, 4d, 14c, 14d, 24, and these dummy patterns are electrically connected to the reference wiring that is either of a power supply wiring 25 and a ground wiring 26.例文帳に追加

半導体装置は、各層の本来疎になる部分にはダミーパターン４ｃ，４ｄ，１４ｃ，１４ｄ，２４を備えており、これらのダミーパターンは、電源配線２５およびグランド配線２６のいずれか一方である基準配線と電気的に接続されている。 - 特許庁

The divided nondense directory preserves information related with cache lines in the node, and then the temporary state buffer holds information related with the transition cache lines, and the outside directory 450 holds state information related with the non-transition cache line.例文帳に追加

分割疎ディレクトリはノード中のキャッシュ・ラインに関する情報を保存するが、その際一時的状態バッファは遷移キャッシュ・ラインに関する情報を保持し、外部ディレクトリは非遷移キャッシュ・ラインに関する状態情報を保持する。 - 特許庁

In a low vacuum heat treatment process 70, since a substrate is heated at approx. 1700°C in the atmosphere with higher oxygen partial pressure of about 6 (Pa), the nanotube is oxidized from its end at slower generation rate than that of a silicon removing layer and the end is nondense distributed on the substrate face.例文帳に追加

低真空熱処理工程７０では、基板が6(Pa)程度の酸素分圧の高い雰囲気下において1700(℃)程度で加熱されるため、珪素除去層の生成速度より遅い速度でナノチューブがその先端から酸化させられ、基板表面においてその先端が疎に分布する。 - 特許庁

To provide a formation method of a silicon oxide film in which, upon forming a round shape at a corner of silicon at an upper end of a projection of a pattern, the silicon oxide film can be formed at a uniform film thickness without causing a film thickness difference by a nondense and dense state of the pattern.例文帳に追加

パターンの凸部上端のシリコンのコーナーに丸み形状を形成した上で、パターンの疎密による膜厚差を生じさせずに均一な膜厚でシリコン酸化膜を形成することが可能なシリコン酸化膜の形成方法を提供すること。 - 特許庁

A spiral fin tube is provided with a heat transfer tube 22 that has refrigerant circulating inside and is meandered, and fins 21 that are spirally wound about the heat transfer tube 22 in such a manner that the pitch of the fins 21 becomes gradually nondense from the refrigerant inflow side to the refrigerant outflow side.例文帳に追加

内部に冷媒が流動し蛇行状に曲げられた伝熱チューブ２２と、伝熱チューブ２２の周囲にスパイラル状に巻かれたフィン２１のピッチを、冷媒流入側から冷媒流出側へ漸次疎となるように備えたスパイラルフィンチューブ - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having high resolving power in the production of a semiconductor device, having evaluation with the same light exposure near the margin of resolution by which the size in which a nondense pattern vanishes and the marginal resolution size of a dense pattern show approximate values closer to each other and ensuring low surface roughness of a line pattern.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高解像力を有し、しかも解像限界あたりにおいて、同一露光量の評価で、疎パターンが消失してしまう寸法と密パターンの限界解像寸法の二者がより近い近似値を示し、更にラインパターンの表面ラフネスが小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁