PED isとは 意味・読み方・使い方

To provide a positive resist composition excellent in aptness for halftone exposure, hole pitch dependency and margin for exposure, capable of preventing a sensitivity change due to storage with age, excellent in PED stability and excellent also in uniformity of reduction in film thickness when a resin is etched with an oxide.例文帳に追加

ハーフトーン露光適性、ホールピッチ依存性、露光マージンが優れ、経時保存による感度変動を防止でき、またＰＥＤ安定性が優れ、更に樹脂をオキサイドエッチングしたときの膜減り均一性についても優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The PED is constituted such that signal wires 18a, 18b and scanning wires 18c, 18d are formed in a matrix form on the inner surface 4a of a rear substrate, and a PZT film 24 as the electron emission member corresponding to each intersecting point thereof are formed.例文帳に追加

ＰＥＤは、背面基板の内面４ａに信号配線１８ａ、１８ｂ、および走査配線１８ｃ、１８ｄをマトリックス状に形成して、各交点に対応して電子放出部材としてのＰＺＴフィルム２４を形成して構成されている。 - 特許庁

If the great winning slot is judged that it is in an opening action, it is judged whether or not a winning is obtained (S310), and until the number of winning reaches 10, an unpaid data PED is increased (S320-330), and if the number exceeds 10, an unpaid data PID is increased for winning (S340).例文帳に追加

大入賞口４０が開放動作中であるとの肯定判定が為されると、入賞が有るか否かが判定され（ステップＳ３１０）、入賞数が１０個までは未払データＰＥＤがインクリメントされ（ステップＳ３２０〜３３０）、入賞数が１０個を超える入賞については未払データＰ１Ｄがインクリメントされる（ステップＳ３４０）。 - 特許庁

In a processing determining means PED, a specifying means coupled with the 1st retrieving means RET1 is included so as to specify one or more of the terminals T1 and T2, network elements HNE, VNE, and INE, and service provider device SPE according to a predefined rule and conditions and the processing performance information to provide predefined service for a predefined client.例文帳に追加

処理決定手段ＰＥＤ内の、第１の検索手段ＲＥＴ１に結合された指定手段は、事前定義されたクライアントの事前定義されたサービスのために、事前定義された規則と条件に従って、かつ処理性能情報に従って、端末Ｔ１、Ｔ２、ネットワーク要素ＨＮＥ、ＶＮＥ、ＩＮＥ、およびサービスプロバイダ装置ＳＰＥから１つまたは複数を指定するために含まれる。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition useful as an excellent chemical amplification type resist which prevents a change of the line width of a resist pattern and the formation of T shape due to the time elapsed from exposure until heating after exposure [post-exposure delay(PED)], is not affected by a stationary wave due to reflection from a substrate and can be applied even in a very small pattern size.例文帳に追加

露光後の加熱処理までの引き置き時間（ＰＥＤ）により、レジストパターンが線幅の変化を生じたりＴ型形状になったりすることがなく、且つ基板からの反射による定在波の影響も無く、超微細なパターンサイズにおいても適用可能となる優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photo acid generator which has excellent solubility in resist solvents and excellent compatibility with resins and is used for resist materials not producing foreign matters when forming a pattern after developed and when peeling a resist, scarcely causing adverse effects such as edge roughness and the like, giving an excellent pattern shape, and having excellent PED stability, and to provide a light-emitting acid.例文帳に追加

レジスト溶剤に対する溶解性及び樹脂との相溶性に優れた光酸発生剤であって、現像後のパターン形成時、更にレジスト剥離時に異物を生じず、エッジラフネスなどの影響が少なく、パターン形状に優れ、ＰＥＤ安定性に優れたレジスト材料に用いられる光酸発生剤及び光発生酸を提供する。 - 特許庁